超声波清洗作业指导书

半自动清洗作业指导书

修改记录

一、目的:

本工序是将脱胶完成装进花篮的硅片进行表面超声波清洗，以去掉硅片表面的油污。

二、适用范围：

本文件只适合浙江光科新能源硅片加工车间半自动超声波清洗工序。

三、物料需求：

1、装进花篮待清洗的硅片；

四、工艺流程：

装片鼓泡（超声）超声波清洗纯水清洗甩干

五、工艺步骤：

5.1打开纯水阀门，分别给机器清洗槽内加水（水槽内全是15M纯水），三、四.五槽

内水位加至110L；

5.2 打开“电源”、“加热”、“超声”开关，检查设备运行状态是否正常；

5.3

将半自动清洗机的水槽内加入清洗剂802#或JH-15型。方法如下：

注意；在添加清洗液时戴好手套，将桶口察干净，以免有杂质影响清洗质量。

5.4将插好片的花篮并排放进清洗机的提篮内，每提篮内放六个花篮（见图一），

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图一

5.5等清洗机水温升至设定温度后，把一、二、六、七槽的溢流打开，使槽内水保持清洁，然后将提篮放入第一个清洗槽内，启动“摆动”开关和“超声波”开关，并打开一、二槽“鼓泡”开关（三至七槽不开鼓泡），第一槽时间结束后将提篮移至第二槽，第二槽结束后，将提篮移至第三槽；重复以上动作直到七个清洗槽全部洗完毕；

注意：硅片从一个清洗槽移至另一个清洗槽要垂直提取、垂直轻放，避免碰碎或造成裂片。

5.6清洗完成后将硅片连同插片花篮横向放置装入甩干机内，花篮摆放必须保证平衡，要求对称放置；（见图二）

图二

5.7双手同时按控制面板两边的红色“关门”按钮，待门完全关闭后，按绿色“启动”按钮甩干，甩干过程为260秒，温度120±5℃；待控制面板上的时间归零，按开盖按钮；

5.8开盖后将花篮拿出；将甩干后的硅片整齐地摆放到硅片周转台上待检，用完的花篮、

提篮整齐摆放在指定区域；

5.9每次更换清洗液后，用温度计测量升温后的水槽内温度是否与设定值一致，温差范

围在±2℃；

5.10 工艺参数设置表：

注意：整个清洗过程中，严禁花篮、提篮摆放在地上。

六、技术规格和标准：

环境要求：

1 .湿度≤55%RH；

2 .温度23±3℃；

附件：

无要求；