陶瓷薄膜制备方法PPT课件

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物理法
制备方法
物理化学法
化学法
化合物气相淀积
溶胶-凝胶
陶瓷薄膜制备方 法
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真空蒸发
射频磁控溅射
分子束外延
磁控溅射与分子束外延法
高压电场 工作气体
电离 (电子、离子)
电场 磁场
加速运动
轰击靶材
淀积成膜
趋于基片运动 靶材原子脱离靶材
电子枪
电场
电子束 磁场
束孔 电子加速
闸门
集中轰击 靶材微区
淀积成膜
原子或分 子撞击到 固体表面
被固体表面 的原子吸附 或直接返回
到空间
被吸附的离子在 固体表面发生迁 移或扩散而移动 固体到表面上合 适的格点位置并
进入晶格
这个过程以及它们的相互关系就决定了薄膜的形成过程和薄膜的 性质。沉积条件是影响薄膜形成的主要因素,它决定着所形成薄 膜的质量(化学组成以及结构的完整性等)。
化学方法,包括喷 雾热解、化学气相 沉积(CVD)、溶胶凝胶(Sol-Gel)及金 属有机气相沉积 (MOCVD)法等。
每种方法均要求 在基片上提供合 适的原子流以便 使需要的成分的 薄膜在基片表面 上可控生长。各 种制备方法均各 有其长处和短处, 但可以根据不同 的材料对象和应 用目标选择适宜 的工艺技术。
陶瓷薄膜的应用简介
常见的陶瓷薄膜有高介电常数的钛酸钡薄膜、钛酸铅 薄膜 可用于制造大容量的薄膜电容器;
掺镧的锶钡钛酸盐薄膜 可制成热敏电阻辐射热测 量器;
铌酸锶钡薄膜 可制成热释电探测器; 钛酸铋薄膜 可制成铁电显示器; 钇钡铜氧薄膜 可制成超导体用; 氧化铝薄膜、氧化锆薄膜、氧化钛薄膜 可作为固液分离膜使用。
趋于基片运动
靶材 原子汽化
微区温度升高
写在最后
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陶瓷薄膜的制备方法
在陶瓷薄膜研究中,除需针对具体应用选择适应衬底 和膜材料外,还需注意以下4个方面的研究
1)制备工 艺及相关 动力学问 题和薄膜 的形成机 理;
2)陶瓷薄 膜的物 理化学 结构性 能;
3)陶瓷 薄膜的 物理性 能;
4)陶瓷 薄膜的 界面和 表面。
陶瓷薄膜的形成机理
制备陶瓷薄膜的方法有很多种,每种方法都有相 关的物质运输、反应动力学和薄膜形成机理。一 般而言,薄膜的形成过程实质是气—固转换。 晶体生成过程大致可分为下面几个主要的步骤:
陶瓷薄膜制备方法
1
前言
2
陶瓷薄膜的制备方法
3
磁控溅射与分子束外延法
前言
陶瓷薄膜简介
陶瓷薄膜(ceramic film):
用特殊工艺技术,将陶瓷材料制成厚度在几微米以下而仍能保持陶瓷 优越性能的一类陶瓷材料。
制备方法
物理方法,包括 真空热蒸发、直流 和射频溅射(包括 离子束溅射),激 光蒸发以及分子束 外延技术;
Thank You
在别人的演说中思考,在自己的故事里成长
Thinking In Other People‘S Speeches,Growing Up In Your Own Story
讲师:XXXXXX XX年XX月XX日
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