基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄膜实验材料与方
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acdb,不锈钢镀膜机http://www.hcvac.com/taxonomy/term/50，
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
,如涂胶过多, 就会增加成本,而且还会使固化时间延长,容易发生镀铝层的迁移现象; 如涂胶过少,就会影响铝层的牢固度。所以我
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
机,其结构简图见图1,电子枪为EEG- 6A型磁偏转电子枪。 试验基材为有机玻璃板,源自文库称亚克力板,大小为1
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
0cm×10cm,对其分别用酒精、去离子水进行超声波清洗5～10 min,然后取出吹干 待用;蒸镀的铬材料为高纯铬(99.
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
材料与方法 有机玻璃蒸发镀铝的实验结果及铝膜分析 电子束蒸发法工艺对TiO2薄膜折射率的影响 热处理和掺杂对
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
TiO2薄膜折射率的影响 宽禁带半导体ZnO薄膜的制备工艺 物理法制备ZnO薄膜的方法 化学法制备ZnO薄膜
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
们应该寻找另一种工艺,来替代涂胶加铝膜附着力的方法。本文应用电子束在有机 玻璃上蒸发镀铬再镀铝,然后又在铝膜上蒸镀了一层二
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氧化硅,并对铝膜的附着性、耐腐蚀性等进行了研究。 实验材料及方法
实验所用仪器为DM- 700 光学镀膜
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较直观但是误差也是比较大的,不能定性的检测出镀铝膜的附着力大小,所以又使用 划痕仪对其进行附着力定性测试。最后对其进行耐腐
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
蚀性测试,使用的腐蚀剂是浓度为10%的NaOH溶液。 相关文章： 有机玻璃基材表面电子束蒸镀铬-铝-二氧化硅薄膜实验
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
源更大的能量密度,可以使高熔点材料蒸发,并且能有较高的蒸发速率; (2) 由于被蒸发材料是置于水冷坩埚中,因
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料和蒸发材料之间的反应,这就使得镀膜的纯 度得以提高;
(3) 热量可直接加
子枪加速电压为6kV,束流为40～50mA。 图1 DM-700设备简图
对于镀铝层牢固度检
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
测方法,一般都是用胶粘带来试验。参考美国AIMCAL薄膜委员会技术参考书第二 版中的有关测试方法,采用3M公司Scotch
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基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
随着铝膜的广泛应用,其弊端也已经显现出来,那就是膜层和基体的结合力较差,铝膜 容易脱落,耐碱耐酸性较差。目前主要是通过在镀
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
铝面上涂布一层底涂胶,来提高铝膜和基体的粘结力,增强铝膜的牢固度,使其不易脱 落。但是在使用胶粘剂的过程中,也存在很多问题
99%)颗粒;蒸镀的铝材料为高纯铝(99.99%)丝;沉积工艺参数范围:本底真空度 ≤6×10-3Pa, 蒸镀铬材料时电子
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枪加速电压为6kV,束流为50～60mA;蒸镀铝材料时电子枪加速电压为8kV,束流为 80～90mA;蒸镀二氧化硅材料时电
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到蒸镀材料的表面,因而热效率高,热传导和热辐射的损失少。 电子束蒸发镀膜技术将逐渐发展成为一种主流的真空
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镀膜技术。镀铝膜是采用特殊工艺在基体表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一 种材料,其中最常用的加工方法当数真空蒸镀铝法。镀铝
牌610号压敏胶粘带,宽度为2.5cm,把大约15cm长的胶粘带贴在镀铝面上并用手指 压平,然后用一只手压住样品,另一只手
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以180°匀速剥离胶粘带,用带强光的灯箱检验铝层脱落转移情况,剥离面积不大于 15%为合格。
虽然此方法比
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
膜的应用非常普遍,它已被广泛地应用于食品、医药、化工等产品的包装。镀铝膜 具有极佳的金属光泽和良好的反射性,具有优良的阻气
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性、阻湿性、遮光性和保香性,而且还可以在一定程度上替代铝箔,不但节省了能源 和材料,还降低了商品包装成本。
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(或升华),以原子、分子或原子团离开熔体表面,凝聚在具有一定温度的基片或工件 表面,并冷凝成薄膜的过程。电子束蒸发镀膜技术
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就是其中一种比较成熟的工艺, 它主要有以下优点: (1) 电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热
演讲完毕，谢谢听讲!
再见，see you again
2020/11/11
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
基材表面电子束蒸镀铬 铝二氧化硅薄膜实验材
料与方
2020/11/11
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泛的表面成膜技术,它不仅可以用来制备各种特殊性能的薄膜涂层(如超硬、高耐蚀、 耐热和抗氧化等),而且还可用来制备各种功能薄
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膜材料和装饰薄膜涂层等。真空蒸发镀膜是真空镀膜技术中的一种,是把待镀膜的 基体或工件置于高真空室内,通过加热使蒸发材料汽化
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,如涂胶过多, 就会增加成本,而且还会使固化时间延长,容易发生镀铝层的迁移现象; 如涂胶过少,就会影响铝层的牢固度。所以我
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机,其结构简图见图1,电子枪为EEG- 6A型磁偏转电子枪。 试验基材为有机玻璃板,源自文库称亚克力板,大小为1
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0cm×10cm,对其分别用酒精、去离子水进行超声波清洗5～10 min,然后取出吹干 待用;蒸镀的铬材料为高纯铬(99.
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材料与方法 有机玻璃蒸发镀铝的实验结果及铝膜分析 电子束蒸发法工艺对TiO2薄膜折射率的影响 热处理和掺杂对
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TiO2薄膜折射率的影响 宽禁带半导体ZnO薄膜的制备工艺 物理法制备ZnO薄膜的方法 化学法制备ZnO薄膜
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们应该寻找另一种工艺,来替代涂胶加铝膜附着力的方法。本文应用电子束在有机 玻璃上蒸发镀铬再镀铝,然后又在铝膜上蒸镀了一层二
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氧化硅,并对铝膜的附着性、耐腐蚀性等进行了研究。 实验材料及方法
实验所用仪器为DM- 700 光学镀膜
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较直观但是误差也是比较大的,不能定性的检测出镀铝膜的附着力大小,所以又使用 划痕仪对其进行附着力定性测试。最后对其进行耐腐
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蚀性测试,使用的腐蚀剂是浓度为10%的NaOH溶液。 相关文章： 有机玻璃基材表面电子束蒸镀铬-铝-二氧化硅薄膜实验
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源更大的能量密度,可以使高熔点材料蒸发,并且能有较高的蒸发速率; (2) 由于被蒸发材料是置于水冷坩埚中,因
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而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料和蒸发材料之间的反应,这就使得镀膜的纯 度得以提高;
(3) 热量可直接加
子枪加速电压为6kV,束流为40～50mA。 图1 DM-700设备简图
对于镀铝层牢固度检
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测方法,一般都是用胶粘带来试验。参考美国AIMCAL薄膜委员会技术参考书第二 版中的有关测试方法,采用3M公司Scotch
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随着铝膜的广泛应用,其弊端也已经显现出来,那就是膜层和基体的结合力较差,铝膜 容易脱落,耐碱耐酸性较差。目前主要是通过在镀
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铝面上涂布一层底涂胶,来提高铝膜和基体的粘结力,增强铝膜的牢固度,使其不易脱 落。但是在使用胶粘剂的过程中,也存在很多问题
99%)颗粒;蒸镀的铝材料为高纯铝(99.99%)丝;沉积工艺参数范围:本底真空度 ≤6×10-3Pa, 蒸镀铬材料时电子
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枪加速电压为6kV,束流为50～60mA;蒸镀铝材料时电子枪加速电压为8kV,束流为 80～90mA;蒸镀二氧化硅材料时电
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到蒸镀材料的表面,因而热效率高,热传导和热辐射的损失少。 电子束蒸发镀膜技术将逐渐发展成为一种主流的真空
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
镀膜技术。镀铝膜是采用特殊工艺在基体表面镀上一层极薄的金属铝而形成的一 种材料,其中最常用的加工方法当数真空蒸镀铝法。镀铝
牌610号压敏胶粘带,宽度为2.5cm,把大约15cm长的胶粘带贴在镀铝面上并用手指 压平,然后用一只手压住样品,另一只手
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以180°匀速剥离胶粘带,用带强光的灯箱检验铝层脱落转移情况,剥离面积不大于 15%为合格。
虽然此方法比
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
膜的应用非常普遍,它已被广泛地应用于食品、医药、化工等产品的包装。镀铝膜 具有极佳的金属光泽和良好的反射性,具有优良的阻气
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
性、阻湿性、遮光性和保香性,而且还可以在一定程度上替代铝箔,不但节省了能源 和材料,还降低了商品包装成本。
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
(或升华),以原子、分子或原子团离开熔体表面,凝聚在具有一定温度的基片或工件 表面,并冷凝成薄膜的过程。电子束蒸发镀膜技术
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
就是其中一种比较成熟的工艺, 它主要有以下优点: (1) 电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热
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2020/11/11
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基材表面电子束蒸镀铬 铝二氧化硅薄膜实验材
料与方
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泛的表面成膜技术,它不仅可以用来制备各种特殊性能的薄膜涂层(如超硬、高耐蚀、 耐热和抗氧化等),而且还可用来制备各种功能薄
基材表面电子束蒸镀铬铝二氧化硅薄 膜实验材料与方
膜材料和装饰薄膜涂层等。真空蒸发镀膜是真空镀膜技术中的一种,是把待镀膜的 基体或工件置于高真空室内,通过加热使蒸发材料汽化