掩膜版 mask 的制造

掩膜版（mask）的制造2016-05-08

目录

净化车间相关基础

1

掩膜版制作流程

2

其它相关内容

3

洁净室(Clean Room)，亦称为无尘室或净化车间。

「洁净室」是指将一定空间范围内空气中的微粒子、有

洁净室洁净度等级的定义

洁净度等级（Class）

目前有公制和英制两种定义方式

1）公制定义方式：每立方米空气中含有大于或等于直径为0.5цm的尘粒总数，用10m表示。如果无尘室每立方米空间含有大于或等于直径为0.5цm的尘粒1000粒，10m=1000=103，那么该无尘室就被称为M3级。

2）英制定义方式：即直接用该区域每立方英尺空气中大于等于直径为0.5цm的尘粒个数作为定义标准。

ISO14644-1标准

单位换算：1m3=35.3ft3；1ft3=28.3L ；New Way 使得的粒子计数器是吸气量2.83L/Min ；

各行业对洁净室等级要求存在较大差异；（如LCM 、LCD 、IC 等）

ISO14644-1标准

1级

10级

100级

1000级

10000级

10万级110100100010000

感性认知一般自然界气体等级

1,000

10,000

外大气层

大气层

田园地带

街市区

10,000,000

1,000,000

100,000

工业地带

理性认知

HEPA （High Effucency Particulate Air-filter）（FFU）

0.3um的微粒子捕捉率至少为99.97%；

ULPA （Ultra Low Particulate Penetration Air-filter）

0.15um的微粒子捕捉率至少为99.9995%；

泡沫彩钢板（夹心板）

【需远离明火】岩绵彩钢板（夹心板）【防火、隔热、隔音】彩钢板

掩膜版的分类

掩膜版（mask 或光罩）

铬版：

（精度高、耐用、价格高）

干版

（精度适中、耐用性适中、价格适中）

菲林

（精度低、不耐用、价格低）

凸版（APR)版

（主要用来转移PI 液等）

图案形成工程检查修正工程

客户数据处理激

光

曝

光

描

绘

光

罩

化

学

制

程

光

罩

尺

寸

量

测

光

罩

缺

陷

检

验

光

罩

缺

陷

修

补

清

洗

包

装

出

货

图档处理生产品质

Blank configuration

Photo-resist Cr film Quartz

Exposure Photo-resist develop

Wet etch

Photo-resist strip AOI

Step1

Step2

Step3

Step4

Step7

掩膜版的图像形成流程

（除曝光外，其它与一般的黄光过程类似）

曝光过程：

掩膜版的曝光过程与一般产品的的曝光差异最大的地方，就是一般的曝光，都是整版一次性完成；而掩膜版的精度要求非常高，需要使用激光束（或电子束）逐行扫描的方式来完成，因此，曝光一片掩膜版，需要相当长时间。

AOI（Auto Optical Inspection ，自动光学检查）由于掩膜版的

高精密性，图形

非常细小，而诸

如断路、短路等

缺陷，则会造成

下游使用客户的

致命缺陷，因此，

需要使用缺陷扫

描能力强的AOI

设备来对掩膜版

的缺陷进行检查

以确保掩膜版的

品质。

铬版存放要求

铬版为硬掩膜版，为防止其变形，需要竖直存放。为了保证掩膜版表面的洁

净度，一般要保存在1000 级以上的无尘室内，温度：20~26℃，湿度需维持在

40-60%RH 以内，静电电压控制在500 伏以内。

因为铬版的基材是玻璃，如果需要对铬版长期保存，则需要保持在干燥的环境里，以防止玻璃出现发霉现象，影响光学性能。

为了尽可能地避免划、碰伤，影响寿命，使用时要轻拿轻放，曝光前必须对光检查铬版表面是否有硬性颗粒，在曝光过程中也需要经常用净化后的压缩气体清除铬版表面的玻璃碎片。使用完毕后，应将铬版表面重新清洗洁净，干燥后再保存。

铬版存放要求

在柜子顶部加三个离子风机

向下吹，同时在第二层的平

台上打通孔，以便于离子风

可以垂直往下吹，同时对第

一层空间也进行静电的消除

预防。

铬版原材结构

氧化铬Cro

Glass

铬Cr

光阻P/R 从膜面看：表观看起来比较暗，呈深褐色

从非膜面（玻璃）看：

表观看起来银亮色，可以清楚看清反射物体类似于镜子一样

~7000 Ǻ~ 500Ǻ~ 700Ǻ