光刻设备项目可行性报告

光刻设备项目

可行性报告

规划设计/投资方案/产业运营

承诺书

申请人郑重承诺如下：

“光刻设备项目”已按国家法律和政策的要求办理相关手续，报告内容及附件资料准确、真实、有效，不存在虚假申请、分拆、重复申请获得其他财政资金支持的情况。如有弄虚作假、隐瞒真实情况的行为，将愿意承担相关法律法规的处罚以及由

此导致的所有后果。

公司法人代表签字：

xxx集团（盖章）

xxx年xx月xx日

项目概要

光刻设备是一种投影曝光系统，由紫外光源、光学镜片、对准系统等

部件组装而成。在半导体制作过程中，光刻设备会投射光束，穿过印着图

案的光掩膜版及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上。通

过蚀刻曝光或未受曝光的部份来形成沟槽，然后再进行沉积、蚀刻、掺杂，架构出不同材质的线路。此工艺过程被一再重复，将数十亿计的MOSFET或

其他晶体管建构在硅晶圆上，形成一般所称的集成电路。光刻机被誉为人

类20世纪的发明奇迹之一，是集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门

槛和资金门槛非常高。目前光刻机行业格局为三分天下，主要由是荷兰ASML、日本Nikon及日本canon主宰。

2014-2019年ASML企业光刻机销量不断上升，2018年ASML企业光刻机销量为224台，2019年销量较2018

年增加5台，2019年ASML企业光刻机销量为229台。

该光刻设备项目计划总投资13528.67万元，其中：固定资产投资10600.22万元，占项目总投资的78.35%；流动资金2928.45万元，占

项目总投资的21.65%。

达产年营业收入27188.00万元，总成本费用21617.15万元，税

金及附加246.34万元，利润总额5570.85万元，利税总额6585.58万元，税后净利润4178.14万元，达产年纳税总额2407.44万元；达产

年投资利润率41.18%，投资利税率48.68%，投资回报率30.88%，全部投资回收期4.74年，提供就业职位410个。

报告根据项目实际情况，提出项目组织、建设管理、竣工验收、经营管理等初步方案；结合项目特点提出合理的总体及分年度实施进度计划。

报告主要内容：项目承担单位基本情况、项目技术工艺特点及优势、项目建设主要内容和规模、项目建设地点、工程方案、产品工艺路线与技术特点、设备选型、总平面布置与运输、环境保护、职业安全卫生、消防与节能、项目实施进度、项目投资与资金来源、财务评价等。

第一章项目承办单位基本情况

一、公司概况

未来，在保持健康、稳定、快速、持续发展的同时，公司以“和

谐发展”为目标，践行社会责任，秉承“责任、公平、开放、求实”

的企业责任，服务全国。成立以来，公司秉承“诚实、信用、谨慎、

有效”的信托理念，将“诚信为本、合规经营”作为企业的核心理念，不断提升公司资产管理能力和风险控制能力。通过持续快速发展，公

司经济规模和综合实力不断增长，企业贡献力和影响力大幅提升。

本公司集研发、生产、销售为一体。公司拥有雄厚的技术力量，先进

的生产设备以及完善、科学的管理体系。面对科技高速发展的二十一

世纪，本公司不断创新，勇于开拓，以优质的产品、广泛的营销网络、优良的售后服务赢得了市场。产品不仅畅销国内，还出口全球几十个

国家和地区，深受国内外用户的一致好评。

公司经过多年的不懈努力，产品销售网络遍布全国各省、市、自

治区；完整的产品系列和精益求精的品质使企业的市场占有率不断提高，除国内市场外，公司还具有强大稳固的国外市场网络；项目承办

单位一贯遵循“以质量求生存，以科技求发展，以管理求效率，以服

务求信誉”的质量方针，努力生产高质量的产品，以优质的服务奉献

社会。公司生产的项目产品系列产品，各项技术指标已经达到国内同

类产品的领先水平，可广泛应用于国民经济相关的各个领域，产品受

到了广大用户的一致好评；公司设备先进，技术实力雄厚，拥有一批

多年从事项目产品研制、开发、制造、管理、销售的人才团队，企业

管理人员经验丰富，其知识、年龄结构合理，具备配合高端制造研发

新品的能力，保障了企业的可持续发展；在原料供应链及产品销售渠

道方面，已经与主要原材料供应商及主要目标客户达成战略合作意向，在工艺设计和生产布局以及设备选型方面采用了系统优化设计，充分

考虑了自动化生产、智能化节电、节水和互联网技术的应用，产品远

销全国二十余个省、市、自治区，并部分出口东南亚、欧洲各国，深

受广大客户的欢迎。

公司高度重视技术人才的培养和优秀人才的引进，已形成一支多

领域、高水平、稳定性强、实战经验丰富的研发管理团队。公司团队

始终立足自主技术创新，整合公司市场采购部门、营销部门的资源，

将供应市场的知识和经验结合到研发过程，及时响应市场和客户的需求，打造公司研发队伍的核心竞争优势。强有力的人才队伍对公司持

续稳健发展具有重大的支持作用。公司正处于快速发展阶段，特别是

随着新项目的建设及未来产能扩张，将需要大量专业技术人才充实到

建设、生产、研发、销售、管理等环节中。作为一家民营企业，公司

在吸引高端人才方面不具备明显优势。未来公司将通过自我培养和外

部引进来壮大公司的高端人才队伍，提升公司的技术创新能力。产品

的研发效率和质量是产品创新的保障，公司将进一步加大研发基础建设。通过研发平台的建设，使产品研发管理更加规范化和信息化；通

过产品监测中心的建设，不断完善产品标准，提高专业检测能力，提

升产品可靠性。

二、所属行业基本情况

光刻设备是一种投影曝光系统，由紫外光源、光学镜片、对准系统等

部件组装而成。在半导体制作过程中，光刻设备会投射光束，穿过印着图

案的光掩膜版及光学镜片，将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上。通

过蚀刻曝光或未受曝光的部份来形成沟槽，然后再进行沉积、蚀刻、掺杂，架构出不同材质的线路。此工艺过程被一再重复，将数十亿计的MOSFET或

其他晶体管建构在硅晶圆上，形成一般所称的集成电路。光刻机被誉为人

类20世纪的发明奇迹之一，是集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门

槛和资金门槛非常高。目前光刻机行业格局为三分天下，主要由是荷兰ASML、日本Nikon及日本canon主宰。

2014-2019年ASML企业光刻机销