等离子体与辉光放电现象PPT讲稿

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等离子体的驱动——射频放电
微电子加工领域,等离子体可以用交流信号驱动,电源在射频 的范围内,公认的频率为13.56MHz。
电容性放电等离子体是主要的等离子源。
辉光放电
低气压下的气体放电。放电管中的残余正离子在极间电场的作用 下被加速,于是得到足够的动能撞击阴极而产生二次电子,经簇射过程 产生更多的带电粒子,使得气体导电。因此放电管两极间所需电压较高, 一般都在10千伏以上,但辉光放电的电流很小,温度不高,属于低温 等离子体现象。
等离子体与辉光放电现象课件
等离子体可分为两种:高温和低温等离子体。高温等离子体只有 在温度足够高时发生的。低温等离子体是在常温下发生的等离子体 (虽然电子的温度很高)。低温等离子体可以被用于氧化等表面处理 或者在有机物和无机物上进行沉淀涂层处理。广泛运用于多种生产领 域。例如:等离子电视,电脑芯片中的蚀刻运用等。
高密度等离子体——high density Plasmas(HDP)
➢种类: 电感耦合等离子体 磁控等离子体 电子回旋共振等离子体
➢产生过程: 在反应器中引入磁场和/或电场,增加电子在等离子体中的行 程,使电子和原子之间的碰撞频率增加,从而增加等离子体 中基和离子的密度,实现高密度等离子体。
➢HDP源包括: 螺旋等离子源 电感耦合等离子源 平面盘绕源
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