光刻胶大全之令狐文艳创作
十大商业模型之令狐文艳创作
十大商业分析模型（理论部分）
令狐文艳
一、波特五种竞争力分析模型
波特的五种竞争力分析模型被广泛应用于很多行业的战略制定。波特认为在任何行业中，无论是国内还是国际，无论是提供产品还是提供服务，竞争的规则都包括在五种竞争力量内。这五种竞争力就是企业间的竞争、潜在新竞争者的进入、潜在替代品的开发、供应商的议价能力、购买者的议价能力。这五种竞争力量决定了企业的盈利能力和水平。
1、竞争对手：企业间的竞争是五种力量中最主要的一种。只有那些比竞争对手的战略更具优势的战略才可能获得成功。为此，公司必须在市场、价格、质量、产量、功能、服务、研发等方面建立自己的核心竞争优势。
影响行业内企业竞争的因素有：产业增加、固定（存储）成本/附加价值周期性生产过剩、产品差异、商标专有、转换成本、集中与平衡、信息复杂性、竞争者的多样性、公司的风险、退出壁垒等。
2、新进入者：企业必须对新的市场进入者保持足够的警惕，他们的存在将使企业做出相应的反应，而这样又不可避免地需要公司投入相应的资源。
影响潜在新竞争者进入的因素有：经济规模、专卖产品的差别、商标专有、资本需求、分销渠道、绝对成本优势、政府政策、行业内企业的预期反击等。
3、购买者：当用户分布集中、规模较大或大批量购货时，他们的议价能力将成为影响产业竞争强度的一个主要因素。
决定购买者力量的因素有：买方的集中程度相对于企业的集中程度、买方的数量、买方转换成本相对企业转换成本、买方信息、后向整合能力、替代品、克服危机的能力、价格/购买总量、产品差异、品牌专有、质量/性能影响、买方利润、决策者的激励。
长歌行-汉乐府(带拼音)-汉乐府注音版之令狐文艳创作
令狐文艳创作长歌行汉乐府
令狐文艳
qīng qīng yuán zhōng kuí
青青园中葵，
zhāo lù dàirìxī
朝露待日晞。
yáng chūn bù dé zé
阳春布德泽，
wàn wù shēng guāng huī
万物生光辉。
cháng kǒng qiū jié zhì
常恐秋节至，
kūn huáng huā yè shuāi
焜黄华叶衰。
bǎi chuān dōng dào hǎi
百川东到海，
hé shí fù xī guī
何时复西归？
shào zhuàng bù nǔ lì
少壮不努力，
lǎo dà tú shāng bēi
老大徒伤悲。
令狐文艳创作
SDS-聚丙烯酰胺凝胶电泳(SDS-PAGE)实验原理和操作步骤之令狐文艳创作
SDS-聚丙烯酰胺凝胶电泳(SDS-PAGE)实
验原理和操作步骤
令狐文艳
实验原理：
SDS-PAGE是对蛋白质进行量化，比较及特性鉴定的一种经济、快速、而且可重复的方法。该法是依据混合蛋白的分子量不同来进行分离的。
SDS是一种去垢剂，可与蛋白质的疏水部分相结合，破坏其折叠结构，并使其广泛存在于一个广泛均一的溶液中。SDS蛋白质复合物的长度与其分子量成正比。在样品介质和凝胶中加入强还原剂和去污剂后，电荷因素可被忽略。蛋白亚基的迁移率取决于亚基分子量。
试剂和器材：
试剂：1. 5x样品缓冲液（10ml）:0.6ml 1mol/L的Tris-HCl(pH6.8),5ml 50%甘油，2ml 10%的SDS，0.5ml巯基乙醇，1ml 1%溴酚蓝，0.9ml蒸馏水。可在4℃保存数周，或在－20℃保存数月。
2. 凝胶贮液：在通风橱中，称取丙烯酰胺30g，甲叉双丙烯酰胺0.8g，加重蒸水溶解后，定容到100ml。过滤后置棕色瓶中，4℃保存，一般可放置1个月。
3. pH8.9分离胶缓冲液：Tris 36.3g ，加1mol/L HCl
48ml，加重蒸水80ml使其溶解，调pH8.9，定容至100ml，4℃保存。
4. pH6.7浓缩胶缓冲液：Tris
5.98g ，加1mol/L HCl 48ml，加重蒸水80ml使其溶解，调pH
6.7，定容至100ml，4℃保存。
5. TEMED（四乙基乙二胺）原液
6.10%过硫酸铵（用重蒸水新鲜配制）
7. pH8.3 Tris-甘氨酸电极缓冲液：称取Tris 6.0g，甘氨酸28.8g，加蒸馏水约900ml，调pH8.3后，用蒸馏水定容至1000ml。置4℃保存，临用前稀释10倍。
我的“创业”故事之令狐文艳创作
我的“创业”故事
令狐文艳
——记郑州大学KAB创业俱乐部成员杜云龙与他的“思蜜客”
酸奶吧
我于2010年5月份加入KAB创业俱乐部，在聆听过创业导师的课程后，一直想要尝试自己创业。而开酸奶店的想法始于
2011年寒假，最初是我哥哥提出来
的，因为他在上海工作，品尝过上
海酸奶店的产品，对市场也有初步
估计。想法虽好，但要变成实际行
动还需要经过细心、细致的准备，
以及下决心去做，用毅力去坚持。
在高中年代就有过创业的想法，
不过那时候条件不允许，唯一的成
就也就是写了3000多字的非常详细
的创业计划书，但这次确实我第一
次将想法付诸实施，所以于我来说意义非凡。这次创业并非一帆风顺，期间也遭遇过不少挫折、坎坷，最后都能坚持下来。不为别的，只为创业乃吾之梦想。为啥子题目中的创业要加引号呢，因为尽管严格意义来讲，这并不是我想要的真正意义上的创业，仅能算是创业的前奏吧，不过确是脚踏实地的第一步。
其次，浅谈创业的过程。通过这次创业经历，
让我明白了，尽管你在做一件事之前已经做了很
详尽的策划，尽管这样，现实当中你仍然会遇到
你没想过的或想的还不够充分的事情，这就需要
你处变不惊以及及时地处理问题，而不是一味的
抱怨自己先前怎么没考虑到。以前觉得开个小店
挺容易，现在觉得，尽管也不难，但事无巨细都得亲自打理，这也许是在创业初期才能体会到的艰辛与快乐吧。
再谈谈这次“创业”的收获吧。我觉得最大的收获就是提前体验了一次真实的社会，认识到了自己尚有太多太多不知道，不了解，不明白的事情。你的学生身份可谓是利弊共存，既能以学生创业为由头说服对方给点儿优惠什么的，但同时商家不大愿意和学生合作，因为你什么都不懂，跟学生打交道费劲。而且，在跟不同商家打交道的时候，体会到了各行各业做生意的不易，大家赚的都是辛苦钱，不管是脑力还是体力。当然了，书本上的知识有些还是很有用的，比如说在核算成本等会计、财务方面的东东都能用到，这使我切实体验到了知识就是力量，也认识到自己还学的不够精不够深，所以，以后上课得更加用功了。
光刻技术光刻胶的发展总结_概述及解释说明
光刻技术光刻胶的发展总结概述及解释说明
1. 引言
1.1 概述
光刻技术是一种高精度微纳加工技术，广泛应用于半导体制造、平板显示、集成电路等领域。在光刻过程中，光刻胶作为一种重要的材料，起着关键性的作用。它能够将图案准确地转移到基片上，并保证器件的高精度和高质量。
1.2 文章结构
本文将从以下几个方面对光刻胶的发展进行概述和说明。首先介绍光刻技术的基本原理和应用领域，包括其在半导体制造、平板显示和集成电路等行业的重要地位。接着探讨光刻胶在光刻技术中的作用，解释其对图案转移过程的影响。然后回顾了光刻胶的发展历程，包括初期阶段以及近年来新型材料在该领域中的应用。此外，还探究了当前光刻胶研究的方向和趋势，以及与其相关的性能与工艺参数之间的关系分析。最后得出结论，并对发展前景进行展望。
1.3 目的
本文的目的是全面了解光刻胶的发展历程和性能特点，探讨其在光刻技术中的重要作用，并分析与之相关的关键因素。通过深入研究光刻胶的发展和应用，可以为光刻技术领域的科研工作者提供参考和借鉴，促进该领域更加快速、高效地发展。此外，对于从事相关产业或学术研究的人士而言，本文也可作为一份辅助资料和知识补充，为实际应用提供指导和支持。
2. 光刻技术的基本原理和应用
光刻技术是一种微影技术，广泛应用于半导体制造、集成电路制造和微纳加工领域。其基本原理是利用特定波长的紫外光通过掩膜将图案投射到光刻胶层上，并通过显影过程在光刻胶上形成所需的图案。
2.1 光刻技术的基本原理
光刻技术基于光学衍射原理，利用紫外光与物质之间的相互作用实现微细图案的转移。首先，将需要制造的图形模式转移至透明玻璃或石英板做成的掩膜上。然后，将掩膜与待加工物（通常是硅片）放置在附近并对齐。接下来，使用紫外光源照射掩膜，在掩膜上投射出所需的图案。
各类菌菇品种之令狐文艳创作
猴头菇
令狐文艳
（素有“山珍猴头，海味燕窝”之称）
杏鲍菇
素有“平菇之王”的美誉
茶树菇
有“中华神菇”、“保健食品”、“抗癌尖兵”之称鸡腿菇
有“菌中新秀”之称
草菇
有“兰花菇”、“美味包脚菇”之称
白灵菇
被誉为“草原上的牛肝菌”
榆黄
蘑
又名
“金
顶
蘑、
玉皇
蘑”
竹荪
有“雪裙仙子”、“山珍之花”、“真菌之花”、“菌中皇后”之美誉
北虫草
享有“天地神草”的美誉
白玉菇
被誉为食用菌中的“金枝玉叶”
蟹味菇
有"香在松茸、味在玉蕈"之说
光刻胶综述解读
光刻胶综述解读
此之前约1950年发明了重氮萘醌—酚醛树脂系光刻胶,它最早应⽤于印刷业,⽬前是电⼦⼯业⽤⽤最多的光刻胶,近年随着电⼦⼯业的飞速发展,光刻胶的发展更是⽇新⽉异,新型光刻胶产品不断涌现。光刻胶按其所⽤曝光光源或辐射源的不同, ⼜可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电⼦束胶、离⼦束胶、X射线胶等。
2. 光刻技术及⼯艺
电⼦⼯业的发展离不开光刻胶的发展, 这是由电⼦⼯业微细加⼯的线宽所决定的。众所周知,在光刻⼯艺中离不开曝光。⽬前采⽤掩膜版的曝光⽅式主要有接触式曝光和投影式曝光两种。光刻⼯艺过程光刻胶的种类虽然很多,使⽤主艺条件依光刻胶的品种不同⽽有很⼤的不同,但⼤体可遵从如下步骤：
a.基⽚处理：该⼯序包括脱脂清洗、⾼温处理等部分,有时还需涂粘附增强剂进⾏表⾯改性处理。脱脂⼀般采⽤溶剂或碱性脱脂剂进⾏清洗,然后再⽤酸性清洗剂清洗,最后⽤纯⽔清洗。⾼温处理通常是在
150-160℃对基⽚进⾏烘烤去除表⾯⽔分。粘附增强剂的作⽤是将基⽚表⾯亲⽔性改变为憎⽔性, 便于光刻胶的涂布, 增加光刻胶在基⽚上的粘附性电。
b.涂胶：光刻胶的涂布⽅式有旋转涂布、辗涂、浸胶及喷涂等多种⽅式。在电⼦⼯业中应⽤较多的是旋转涂布。该⽅式的涂胶厚度⼀般取决于光刻胶的粘度及涂胶时的转速。膜厚-转速曲线是光刻胶的⼀个重要特性。
c.前烘：前烘的⽬的是为了去除胶膜中残存的溶剂,消除胶膜的机械应
⼒。在电⼦⼯业中烘烤⽅式通常有对流烘箱和热板两种。前烘的温度和时间根据光刻胶种类及胶膜的厚度⽽定。以北京化学试
剂研究所BN308系列紫外负性光刻胶为例,当胶膜厚度为1-2µm时,对流烘箱，70-80℃，20min；热板，100℃，
技术归零报告之令狐文艳创作
注：栏目不够可以续页。表CX8521-1（4-3）
说明：1. 此表为厂所级批准时使用，并上报院签署（2）（3）；
2. 技术归零报告（有未归零问题）为阶段报告时签署（1）；
3. 技术归零报告为院级批准时，院行政总指挥签署（3）。
表CX8521-1（4-4）
说明：1. 此表为院级批准时使用；
2. 技术归零报告（有未归零问题）为阶段报告时签署（2）。
药物研发过程中cde发补的N种情况之令狐文艳创作
1 鉴于最近CDE发补及退审的频率越来越高，获得批准文号越来越难，为了让大家能尽量在前期避免不必要的失误，吸取经验，因此想看看大家的发补及退审理由，以便在自己的品种研发中，在早期完成这些CDE比较重视的实验或者工作。
令狐文艳
我先来几个，绝对真实。大家可以不写品种名称，仅仅供大家学习交流
1、此3.1类品种没有与国外上市品种进行对比研究。
2、本品有关物质检测波长选择依据不足，未进行充分的研究。
3、请补充说明在本品合成工艺中，如何对对映异构体进行控制。
4、质量研究和标准：（1）对映异构体：建议参照中检所复核标准，将对映异构体检查增订入企业标准，
限度为不得过xx％；（2）比旋度限度建议修订为xx至xx
5、本品出现新的有关物质，请提供确定有关物质限度的研究资料。度为不得过xx％；（2）比旋度限度建议修订为xx至xx 2一仿制原料
申报资料8：提供供二个起始原料详细合成工艺路线及质量标准（注：我们后面三步合成，二个起始原料市场供应也很多）申报资料10：a）有关物质检查方法不可靠：该品种在进行质量研究前，要了解国外标准及质控情况，根据这些背景信息，结合该品种的实际生产工艺情况，再决定研究内容及杂质限度。首先根据合成工艺进行杂质分析，哪些是工艺中引入的杂质，哪些是降解杂质？其次参考本品的国外药典有关物质检测方法和本方法对比。（注：我们用的可是05、10版都收载的方法，并做专属性等试验）
b)对该品种的晶型进行研究进行系统研究。
3、剂型不合理。
一中药品种：胶囊改片剂，合理，批了。
胶囊改颗粒剂，不合理，毙了。
光刻胶大全
光刻胶产品前途无量（半导体技术天地）之宇文皓月
创作
1 前言光刻胶(又名光致抗蚀剂)是指通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射，使溶解度发生变更的耐蚀刻薄膜资料，主要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工，近年来也逐步应用于光电子领域平板显示器（FPD）的制作。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，经曝光、显影等过程，将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上，然后进行刻蚀、扩散、离子注入等工艺加工，因此是电子信息财产中微电子行业和光电子行业微细加工技术的关键性基础加工资料。作为经曝光和显影而使溶解度增加的正型光刻胶多用于制作IC，经曝光或显影使溶解度减小的负型光刻胶多用于制作分立器件。
2 国外情况随着电子器件不竭向高集成化和高速化方向发展，对微细图形加工技术的要求越来越高，为了适应亚微米微细图形加工的要求，国外先后开发了g线（436nm）、i线（365nm）、深紫外、准分
子激光、化学增幅、电子束、X射线、离子束抗蚀剂等一系列新型光刻胶。这些品种较有代表性的负性胶如美国柯达（Kodak）公司的KPR、KMER、KLER、KMR、KMPR等；联合碳化学（UCC）公司的KTI系列；日本东京应化（Tok）公司的TPR、SVR、OSR、OMR；合成橡胶（JSR）公司的CIR、CBR系列；瑞翁（Zeon）公司的ZPN系列；德国依默克（E.Merk）公司的Solect等。正性胶如：美国西帕来（Shipely）公司的AZ系列、DuPont公司的Waycot系列、日本合成橡胶公司的PFR等等。2000~2001年世界市场光刻胶生产商的收益及市场份额公司 2001年收益 2001年市场份额（%） 2000年收益 2000年市场份额（%）Tokyo Ohka Kogyo 150.1 22.6 216.5
技术组织措施之令狐文艳创作
1、总则
令狐文艳
1）为了充分发挥科学技术的先进生产力作用，明确公司技术管理部门的职责，提高公司的工程技术管理水平，确保工程质量，提高公司经济效益、增强公司信誉和市场核心竞争能力，特制定本管理办法。
2）工程技术管理主要任务
1正确贯彻执行国家、行业有关技术政策法规、技术规程、规范、标准和制度。
2保证工程质量。
3建立规范化的施工技术活动和施工程序。
4大力推进企业技术进步，推广应用新技术、新工艺、新材料、新设备，组织开展群众性的发明创造、技术革新、改造和合理化建议活动。
5促进技术情报信息交流以及科研成果的转换和转让。
6充分发挥和调动技术人员的积极性，加强职工技术教育和培训，不断提高企业技术人员及全体职工的技术业务水平。
7积极推广现代化管理技术，改善管理手段，努力实现施工技术现代化。
3）本管理办法适用于公司在建及新建工程项目的工程技术管理。
2、工程技术管理责任制
1工程技术管理责任制
公司实行公司总经理领导下的总工程师负责制；项目经理部实行项目经理领导下的项目总工程师负责制；对未履行职责、玩忽职守、造成重大损失或恶劣影响者，进行责任追究。
2工程技术管理组织
公司工程技术管理组织如图所示：
公司工程技术管理体系图
3
1
1
（省）及上级有关单位制定和颁发的有关政策及规程、规范等
技术标准。
2组织制定本公司的施工技术管理制度、技术情报信息交
流工作。
3组织编制和审定本公司重大工程项目的施工组织设计和
重大技术方案。
4负责领导本公司计量标准化、科技档案等管理工作。
5组织领导本公司施工项目工程交工验收和技术总结工
作。
6积极推广新技术、新材料和新工艺的应用，组织开展群
CETP_00.00-L-467_全球实验室加速循环腐蚀试验之令狐文艳创作
1.0INTRODUCTION 介绍
令狐文艳
1.1TEST SCOPE试验范围
This standardspecifies an acceleratedlaboratory
atmospheric corrosion test. The testing environment addressed is similarin effect to that of the salt
load/ climatic part of the proving ground corrosion test procedure, CETP 00.00-R-343 and yields
corresponding results. The objective of the test is to allow evaluation of the corrosion resistance of
metals in environments where there is a significant influence of chloride ions, mainly as sodium
chloride from a marine source or by winter road de-
icing salt.The laboratory test provides full
exposure to the salt load and humidity environment.
It does not attempt to simulate other engraving
数学破十法借十法练习题之令狐文艳创作
破十法减法
令狐文艳
进位加法（凑十法口诀：看大数，分小数，凑成十，算得数。）
退位减法（破十法口诀：看大数，分出10，减小数，加剩数。）
借十法（十几减9，几加1；几减8，几加2；十几减7，几加
3；十几减6，几加4；十几减5，几加5；
十几减4，几加6；十几减3，几加7；十几减2，几加8；十
几减1，几加9.）
一、“凑十法”：
1.“凑十法”是20以进位加法的基本思路。运用“凑十法”
能够将20以的进位加法转化为学生所熟悉的10加几的题目，
从而化难为简。
那么“凑十法”在具体计算中是如“凑”十的呢，我们看以下
例题：
在计算9+4时，先把4分成1和3，然后9和1凑成10,10再
加上3等于13；
这就是“凑十法”。
2.“凑十歌”：
1凑9 2凑8 3凑7来4凑6 5、5相凑正满10 做减做加想到它，又对又快真便！
3.“凑十法”具有很强的规律性，不仅可以在解决20以进位
加法的计算中用到，在不进位加法中也可以用到。以下边例子
说明：如在计算14+5时，先把14分成10和4，然后4和5先加等于9，然后再和前边的10相加等于19；
二、“借十法”（破十法）：
1.“借十法”是用在20以退位减法中的计算法。运用“借十法”可将20以的退位减法转化为学生所熟悉的10减几的题目，从而化难为简。
那么“借十法”在具体计算中是如“凑”十的呢，我们看以下例题：
在计算13减4时，先考虑个位3减4，不够减，于是从十位借10来减，10减4得6，再用6与个位数3相加等于9；
这就是“借十法”。
2.“借十法”口诀：借十法，很简单；
十几减9，几加1；十几减8，几加2；十几减7，几加3；十几减6，几加4；十几减5，几加5；
诗朗诵《白墙上的黑手印》之令狐文艳创作
诗朗诵《白墙上的黑手印》。（四个同学共同完成诗歌朗诵）
令狐文艳
马路上跑来小秋秋，
边走边跳边拍球，
球儿碰着果皮箱，
咕噜噜——滚进污水沟。
秋秋好不容易把球捡起，
污水却沾满了双手，
他望着白墙想了个办法，
“啪！啪！”两巴掌，手印儿壁上留。
说来也真奇怪，
这手印儿老爱缠住小秋秋，
不知要找他做朋友，
还是和他做对头？
秋秋上学打这儿经过，
手印儿向他招招手：
“喂！快来呀，
我的好朋友……”
秋秋回家排队走，
步子迈得雄赳赳，
手印儿朝他摇摇手：
“哼！别装蒜，羞！羞！羞！”秋秋打定主意，
绕开手印儿，马路那边走。
哪知，手印儿远远朝他指——“是你，是你！别溜，别溜！”秋秋挺起脖子偏着头，
可还是免不了转头瞅一瞅，
呀！手印儿像举手告老师：
瞧！是秋秋让我在这儿出丑！”夜晚，秋秋睡在床上，
拳打脚踢，又喊又吼，
妈妈把他摇醒，
他说：“黑手印儿抢我的球……”是呀，好孩子干了不光彩的事，心上总像压着块大石头。
秋秋决心用自己的行动，
把这块心上的石头搬走。
这天，大家看见墙下有个孩子，踮起脚，昂着头。
用小刀轻轻把那黑印儿抠，
一脸盆石灰水放在身后。
过路的一位阿姨说：
“看！多么可爱的小朋友。”
这时，秋秋的脸红了，你说他是高兴，还是害羞？
第二章 聚合反应原理之令狐文艳创作
第二章聚合反应原理
令狐文艳
第一节概述
聚合物的合成方法可概括如下：
其中，单体的聚合反应是聚合物合成的重要方法。
（一）高分子化学的一些基本概念
1．高分子化合物（high molecular weight compound）——由许多一种或几种结构单元通过共价键连接起来的呈线形、分支形或网络状的高分子量的化合物，称之为高分子量化合物，简称高分子化合物或高分子。高分子化合物也称之为大分子
（macromolecule）、聚合物（polymer）。
高分子化合物的特点：
（1）高的分子量：M.W.（molecular
weight）>104；M.W.<103时称为齐聚物（oligomer）、寡聚物或低聚物；
（2）存在结构单元：结构单元是由单体（小分子化合物）通过聚合反应转变成的构成大分子链的单元；
（3）结构单元通过共价键连接，连接形式有线形、分支形或网络状结构。
如聚苯乙烯（PS）：M.W.:10～30万，线形，含
一种结构单元—苯乙烯单元，属通用合成塑料。
★结构单元（structural unit）和重复单元
（repeating unit ）：
PVC PMMA PS
结构单元和重复单元相同
如尼龙-66（聚己二酰己二胺），有两个结构单元，两个结构单元链接起来组成其重复单元。
尼龙-66 尼龙-6
2．聚合度（degree of polymerization，DP）——即一条大分子所包含的重复单元的个数，用DP表
示；
对缩聚物，聚合度通常以结构单元计数，符号为X n；
X
n
DP、X n对加聚物一般相同。
药用高分子泊洛沙姆综述之令狐文艳创作
药用高分子材料泊洛沙姆综述
令狐文艳
主要内容：泊洛沙姆的性质，制备，主要用途，与医学方面的应用。
通用名：Poloxamers PhEur：Poloxamera USPNF：Poloxamer
性状：相对分子质量较高的泊洛沙姆为白色、蜡状、可自由流动的球状颗粒或浇注固体，相对分子质量较低的泊洛沙姆为半固体或无色液体。基本无臭、无味。固体密度为1．069／cm3，其理化性质与型号有关。该类共聚物由BASF公司生产，商品名为普流罗尼，在美国指药用级别和工业级别的泊洛沙姆，而其商品名Lutrol的产品在欧洲指药用级别的材料。
来源与制法：本品为合成品，其合成方法是先将氧化丙烯缩合到丙二醇基上，再将氧化乙烯缩合到聚(氧丙烯)基的两端而制得的氧乙烯、氧丙烯嵌段聚合物，共聚物分子中聚乙烯亲水链占10～80％，余下的则为聚氧丙烯亲脂链，不同的规格型号，所占比例各不相同
在制备时，常用催化剂是氢氧化钠或氢氧化钾，在聚合完成后，用酸中和聚合体系中的碱，再从产品中去除。共聚物的相对分子质量大小与起始原料用量及配比、催化剂种类和浓度以及原料中水分、反应温度等有关。例如，以氢氧化钾为催
化剂，合成产物的相对分子质量一般均在10 000以下，而且催化剂用量越大，相对分子质量越低。这是由于所使用的环氧化物对阴离子增长活性较小以及同时发生向单体的转移反应。泊洛沙姆为非离子型的聚氧乙烯-聚氧丙烯共聚物，在药物制剂中主要用作乳化剂和增溶剂。聚氧乙烯链段具亲水性而聚氧丙烯链段具疏水性。可用作静脉注射脂肪乳的乳化剂，在酏剂和糖浆剂中用作增溶剂和稳定剂以保持制剂的澄明度。泊洛沙姆还可以用作润湿剂，用作软膏、栓剂基质和凝胶剂，和作为片剂的黏合剂和包衣材料。作为吸收促进剂。一方面由于泊洛沙姆188使肠道蠕动变慢，药物在胃肠道滞留的时间增长，吸收增加，从而能提高口服制剂的生物利用度。另一方面，其与皮肤相容性佳，增加皮肤通透眭，可以促进外用药制剂的吸收。浓度为5％的泊洛沙姆188可有效改善淋巴卡维地洛固体脂质纳米粒的吸收，从而提高其口服生物利用度。
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光刻胶产品前途无量（半导体技术天地）
令狐文艳
1 前言光刻胶(又名光致抗蚀剂)是指通过紫外光、电子束、准分子激光束、X射线、离子束等曝光源的照射或辐射，使溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工，近年来也逐步应用于光电子领域平板显示器（FPD）的制作。由于光刻胶具有光化学敏感性，可利用其进行光化学反应，经曝光、显影等过程，将所需要的微细图形从掩模版转移至待加工的衬底上，然后进行刻蚀、扩散、离子注入等工艺加工，因此是电子信息产业中微电子行业和光电子行业微细加工技术的关键性基础加工材料。作为经曝光和显影而使溶解度增加的正型光刻胶多用于制作IC，经曝光或显影使溶解度减小的负型光刻胶多用于制作分立器件。
2 国外情况随着电子器件不断向高集成化和高速化方向发展，对微细图形加工技术的要求越来越高，为了适应亚微米微细图形加工的要求，国外先后开发了g线（436nm）、i线（365nm）、深紫外、准分子激光、化学增幅、电子束、X射线、离子束抗蚀
剂等一系列新型光刻胶。这些品种较有代表性的负性胶如美国柯达（Kodak）公司的KPR、KMER、KLER、KMR、KMPR等；联合碳化学（UCC）公司的KTI系列；日本东京应化（Tok）公司的TPR、SVR、OSR、OMR；合成橡胶（JSR）公司的CIR、CBR系列；瑞翁（Zeon）公司的ZPN 系列；德国依默克（E.Merk）公司的Solect等。正性胶如：美国西帕来（Shipely）公司的AZ系列、DuPont公司的Waycot系列、日本合成橡胶公司的PFR等等。2000~2001年世界市场光刻胶生产商的收益及市场份额公司2001年收益2001年市场份额（%）2000年收益2000年市场份额（%）Tokyo Ohka Kogyo 150.1 22.6 216.5 25.2 Shipley 139.2 21.0 174.6 20.3 JSR 117.6 17.7 138.4 16.1 Shin-Etsu
Chemical 70.1 10.6 74.2 8.6 Arch Chemicals 63.7 9.6 84.1 9.8 其他122.2 18.5 171.6 20.0 总计662.9 100.0 859.4 100.0
Source: Gartner Dataquest
目前，国际上主流的光刻胶产品是分辨率在0.25µm～0.18µm的深紫外正型光刻胶，主要的厂商包括美国Shipley、日本东京应化和瑞士的克莱恩等公司。中国专利CN1272637A2000年公开了国际商业机器公司发明的193nm光刻胶组合物，在无需相传递掩膜的情况下能够分辨尺寸小于150nm，更优选尺寸小于约115nm。2003年美国专利US2003/0082480又公开了Christian Eschbaumer 等发明的157nm光刻胶。预计2004年全球光刻胶和助剂的市场规模约37亿美元。
3 国内现状国内主要产品有聚乙烯醇肉桂酸酯（相当于美KPR胶）、聚肉桂叉丙二酸乙二醇酯聚酯胶、环化橡胶型购胶（相当于OMR－83胶）和重氮萘醌磺酰氯为感光剂主体的紫外正型光刻胶（相当于AZ－1350）。其中紫外线负胶已国产化，紫外线正胶可满足2µm工艺要求，深紫外正负胶（聚甲基异丙烯基酮、氯甲基聚苯乙烯，分辨率0.5～0.3µm）、电子束正负胶（聚甲基丙烯酸甲酯一甲基丙烯酸缩水甘油酯一丙烯酸乙酯共聚）（分辨率0.25～0.1µm）、X 射线正胶（聚丁烯砜聚1，2一二氯丙烯酸，分辨率
0.2µm），可提供少量产品，用于IC制造的高档次正型胶仍全部依赖进口。光刻胶目前国产能力约为100多吨。据国家有关部门预测，到2005年微电子用光刻胶将超过200吨。国内光刻胶主要研制生产单位有北京化学试剂所、北京化工厂、上海试剂一厂、苏州瑞红电子化学品公司、黄岩有机化工厂、无锡化工研究设计院、北师大、上海交大等。近年来，北京化学试剂所和苏州瑞红电子化学品公司等单位在平板显示器（FPD）用光刻胶方面进行了大量工作，已研制成功并规模生产出液晶显示器（LCD）专用正型光刻胶，如北京化学试剂所的BP218系列正型光刻胶适用于TN／STNLCD的光刻制作。北京化学试剂研究所一直是国家重点科技攻关课题——光刻胶研究的组长单位。“十五”期间，科技部为了尽快缩小光刻技术配套用材料与国际先进水平的差距，将新型高性能光刻胶列入了“863”重大专项计划之中，并且跨过0.35µm和0.25µm工艺用i线正型光刻胶和248nm深紫外光刻胶两个台阶，直接开展0.1µm～0.13µm工艺用193nm光刻胶的研究。苏州瑞红则是微电子化学品行业中惟一一家中外合资生产企业，曾经作为国家“八五”科研攻关“南方基地”的组长单位，其光刻胶产品以用于LCD的正胶为主，负胶为辅。为加快发展光刻胶产业的步伐，北京化学试剂研究所的上级单位
——北京化工集团有限责任公司正在做相关规划，争取在“十五”期间，在大兴区兴建的化工基地实现年产光刻胶80吨至100吨的规模。在此规划中，化工基地前期以生产紫外负型光刻胶及0.8µm～1.2µm技术用紫外正胶为主，之后还要相继生产i线正胶、248nm深紫外光刻胶及0.1µm～0.13µm技术用的193nm高性能光刻胶。而苏州瑞红也正积极地与国外著名的光刻胶厂商合作，进行248nm深紫外光刻胶的产业化工作，争取使其产品打入国内合资或独资的集成电路生产企业。
4 前途无量近年来，光刻胶在微电子行业中不断开发出新的用途，如采用光敏性介质材料制作多芯片组件(MCM)。MCM技术可大幅度缩小电子系统体积，减轻其质量，并提高其可靠性。近年来国外在高级军事电子和宇航电子装备中，已广泛地应用MCM技术。可以预见，发展微电子信息产业及光电产业中不可缺少的基础工艺材料——光刻胶产品在21世纪的应用将更广泛、更深入。
光刻胶的定义及主要作用光刻胶是一种有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝
光后烘烤成固态。光刻胶的作用：
a、将掩膜板上的图形转移到硅片表面的氧化层中；
b、在后续工序中，保护下面的材料（刻蚀或离子注入）。光刻胶起源光刻开始于一种称作光刻胶的感光性液体的应用。图形能被映射到光刻胶上，然后用一个developer就能做出需要的模板图案。光刻胶溶液通常被旋转式滴入wafer。如图wafer被装到一个每分钟能转几千转的转盘上。几滴光刻胶溶液就被滴到旋转中的wafer的中心，离心力把溶液甩到表面的所有地方。光刻胶溶液黏着在wafer上形成一层均匀的薄膜。多余的溶液从旋转中的wafer上被甩掉。薄膜在几秒钟之内就缩到它最终的厚度，溶剂很快就蒸发掉了，wafer上就留下了一薄层光刻胶。最后通过烘焙去掉最后剩下的溶剂并使光刻胶变硬以便后续处理。镀过膜的wafer对特定波成的光线很敏感，特别是紫外（UV）线。相对来说他们仍旧对其他波长的，包括红，橙和黄光不太敏感。所以大多数光刻车间有特殊的黄光系统。
光刻胶的主要技术参数a、分辨率（resolution）。区别硅片表面相邻图形特征的能