第一章 半导体器件基础讲义
第一章 半导体器件基础-PPT精品文档
按照功率可分为小功率二极管和大功率二极管;
按照材料又可以分为硅二极管和锗二极管
_ _ _
_ _ _
_ _ _ _ _ _
+ + + + + +
+ + +
+ + +
PN结P端接高电位,N端 接低电位,称PN结外加正向 电压,又称PN结正向偏置, 简称为正偏,如图所示
结论:
PN结外加正向电压(正偏)时处于导通状态,外加反向电 压(反偏)时处于截止状态
四、PN结
4.PN结的用途 • 整流半导体器件 • 可变电容 • 稳压器件
一、引言
用一个PN结制成的半导体器件叫做二极管 接在二极管P区的引出线称二极管的阳极,接在N区的 引出线称二极管的阴极。
阳极 阴极 阳极
P
N
阴极
(a) 结构示意图
(b)电路符号
一、引言
二极管有许多类型。 从工艺上分,有点接 触型和面接触型
二、各类二极管及命名
1.分类 按封装形式可封为玻璃封装的、塑料封装的和 金属封装二极管;
二、本征半导体
2.本征激发
结论:
①半导体中存在两种载流子,一种是带负电的自由电 子, 另一种是带正电的空穴,它们都可以运载电荷 形成电流。 ②本征半导体中,自由电子和空穴相伴产生,数目相 同。 ③一定温度下,本征半导体中电子空穴对的产生与复 合相对平衡,电子空穴对的数目相对稳定。 ④温度升高,激发的电子空穴对数目增加,半导体的 导电能力增强。
三、杂质半导体
在本征半导体掺入微量的其它适当元素后形成的半 导体叫做杂质半导体。掺入杂质后的半导体,导电性能 大大的增强。根据掺入杂质的不同分为两种:掺入五价
第一章半导体器件基础知识
第一节
第 一 节 半 导 体 的 基 本 知 识
第二节
第三节
第四节
第五节
江 西 应 用 技 术 职 业 学 院
3
第一章 半导体器件基础知识
本章概述
第一节
第二节
三、本征半导体 纯净的不含任何杂质、晶体结构排列整齐的半导体。 共价键:相邻原子共有价电子所形成的束缚。半导体中 有自由电子和空穴两种载流子参与导电。 空穴产生:价电子获得能量挣脱原子核吸引和共价键束 缚后留下的空位,空穴带正电。
+ + VD
第二节
第 二 节 半 导 体 二 极 管
u
i
C
RL
uo
第三节
£ -
£ -
第四节
第五节
江 西 应 用 技 术 职 业 学 院
21
第一章 半导体器件基础知识
六、特殊二极管
本章概述
第一节
1.发光二极管 发光二极管(LED)是一种将电能转换成光能的特殊二极管,它的外 型和符号如图1-12所示。在LED的管头上一般都加装了玻璃透镜。
R
+ VD +
ui Us O t
第一节
第二节
第 二 节 半 导 体 二 极 管
第三节
+
第四节
ui
Us
uo
uo Us O t
第五节
-
图1-8 单向限幅电路 江 西 应 用 技 术 职 业 学 院
18
-
-
第一章 半导体器件基础知识
本章概述
(2)双向限幅电路 通常将具有上、下门限的限幅电路称为双向限幅电路,电路 及其输入波形如图1-9所示。图中电源电压U1、U2用来控制它的上、 下门限值。
半导体器件基础要点课件
05 半导体器件应用与展望
半导体器件在电子设备中的应用
集成电路
01
半导体器件是集成电路的基础组成部分,用于实现各种逻辑功
能和电路控制。
数字逻辑门
02
半导体器件可以构成各种数字逻辑门,如与门、或门、非门等
,用于实现数字信号的处理和运算。
微处理器和存储器
03
微处理器和存储器是半导体器件的重要应用领域,用于实现计
详细描述
半导体器件可以分为分立器件和集成电路两大类。分立器件 包括二极管、晶体管等,它们主要用于信号放大、转换和控 制。集成电路是将多个器件集成到一个芯片上,实现更复杂 的功能,如运算、存储和处理等。
半导体器件的发展历程
总结词
半导体器件的发展经历了三个阶段,即晶体管的发明、集成电路的诞生和微电子技术的 飞速发展。
包括热导率、热膨胀系数等参数,影 响半导体的散热性能和可靠性。
光学性能
包括能带隙、光吸收系数、光电导率 等参数,影响半导体的光电转换性能 。
03 半导体器件工作原理
PN结的形成与特性
PN结的形成
在半导体中,通过掺杂形成P型和N型半导体,当P型和N型半导体接触时,由 于多数载流子的扩散作用,在接触面形成一个阻挡层,即PN结。
硅基MEMS器件的特点与优势
高度集成
硅基MEMS器件可以在微米尺 度上实现复杂的功能,具有极
高的集成度。
长寿命
硅基材料具有优异的机械性能 和化学稳定性,使得硅基 MEMS器件具有较长的使用寿 命。
低功耗
硅基MEMS器件的功耗较低, 适用于对能源效率要求较高的 应用场景。
可靠性高
硅基MEMS器件的结构简单, 可靠性高,不易出现故障。
半导体器件基础 第1章(第二版)PPT课件
电 子的浓度是一定的,反向电流在一定
的电压范围内不随外界电压的变化而
子 变化,这时的电流称为反向饱和电流,第
技 以IR(sat) 表示。
一
术 章
基
础
电
少数载流子的浓度很小,由
子 此而引起的反向饱和电流也很小, 技 但温度的影响很大。表1.2.1是硅 第
管的反向电流随温度的变化情况 一
术 章
基
础
三、PN结的伏安特性
一
术 温度每升高8℃,硅的载流子浓度增加一倍。
章
基
+4
+4
+4
+4
+4
+4 自
由
础
+4
+4
+4
+4
+4
+4 电
子
空穴
+4
+4
+4
+4
+4
+4
1.1.3 杂质半导体的导电特性
电
掺杂后的半导体称为杂质半导体,
子 杂质半导体按掺杂的种类不同,可分为N 第
技 型(电子型)半导体和P型(空穴型)半
一
术 导体两种。
1.2.1 PN结的形成
电
当P型半导体和N型半
子 导体相互“接触”后,在
它们的交界面附近便出现
第
技 了电子和空穴的扩散运动。
一
术 N区界面附近的多子电子将 基 向P区扩散,并与P区的空
同样,P区界面形章 成一个带负电的薄电
础穴复合,N区界面附近剩下 荷层。于是在两种半 了不能移动的施主正离子, 导体交界面附近便形
成了一个空间电荷区,
《半导体》 讲义
《半导体》讲义一、什么是半导体在我们的日常生活中,半导体扮演着至关重要的角色。
从智能手机、电脑到汽车、家电,几乎所有的现代电子设备都离不开半导体。
那么,究竟什么是半导体呢?简单来说,半导体是一种导电性介于导体和绝缘体之间的材料。
导体,比如金属,具有良好的导电性,而绝缘体,如塑料、橡胶等,则几乎不导电。
半导体的独特之处在于,它的导电性可以通过控制杂质的含量和施加外部条件(如电场、光照、温度等)来改变。
常见的半导体材料有硅(Si)、锗(Ge)等。
其中,硅是目前应用最广泛的半导体材料,这是因为它在地球上的储量丰富,且具有良好的物理和化学性质。
二、半导体的特性半导体具有一些独特的特性,正是这些特性使得它们在电子领域得到了广泛的应用。
1、热敏特性半导体的电阻会随着温度的变化而发生显著的改变。
利用这一特性,可以制成热敏电阻,用于温度测量、温度控制等方面。
2、光敏特性在光照的作用下,半导体的导电性会增强。
基于这一特性,我们有了光电二极管、太阳能电池等器件。
3、掺杂特性通过向纯净的半导体中掺入少量的杂质元素,可以显著改变其导电性。
例如,在硅中掺入磷元素可以形成 N 型半导体,掺入硼元素则形成 P 型半导体。
三、半导体的制造工艺要将半导体材料制成可用的电子器件,需要经过一系列复杂的制造工艺。
1、晶圆制备首先,需要从硅矿石中提炼出高纯度的硅,并将其制成单晶硅锭。
然后,通过切割等工艺将硅锭加工成薄而圆的晶圆。
2、光刻这是半导体制造中非常关键的一步。
通过在晶圆表面涂上光刻胶,然后用紫外线透过掩膜版对光刻胶进行曝光,未曝光的光刻胶会被去除,从而在晶圆表面形成所需的图案。
3、蚀刻利用化学或物理方法,将未被光刻胶保护的部分去除,从而在晶圆上形成电路的微观结构。
4、掺杂通过离子注入等方法,向晶圆中掺入杂质,形成不同类型的半导体区域。
5、封装将制造好的芯片进行封装,以保护芯片并提供与外部电路的连接接口。
四、半导体在集成电路中的应用集成电路是半导体技术的重要应用领域。
第一章 半导体器件基础讲义
第一章半导体器件基础讲义1.1半导体的基本知识一、半导体材料导体电阻率半导体绝缘体电阻率<10-4Ωcm >1010Ωcm,·典型半导体材料:硅(Silicon ,元素符号Si)锗(Germanium,元素符号Ge)化合物半导体如砷化镓(GaAs)等·半导体三特点:热敏性;②光敏性;③杂敏性。
·半导体导电能力与晶体结构的关系――半导体的导电能力取决于它的原子结构。
·硅原子结构简化模型:·硅原子的晶体结构:共价键。
·半导体指纯净的、结构完整的晶体·共价键内载流子的运动方式――价电子是可以在共价键内运动的。
二、本征半导体·T=0K(约为-273℃)时,所有价电子均被束缚在共价键内,不能导电。
·热激发T↑→价电子的热运动获得能量→摆脱共价键的吸引→成为自由电子,同时留下一个空位→相关原子成为正离子――中性原子的电离过程。
·空穴可以移动的,带正电荷的载流子。
空穴的运动形式――价电子在共价键内移动。
·半导体内的两种载流子:自由电子和空穴――两者带电量相同而极性相反,且均可移动。
·自由电子和空穴成对产生源于温度,称为热激发。
·热敏性T↑,热激发加剧,自由电子和空穴的浓度↑,电阻率↓。
·复合自由电子和空穴相遇,自由电子和空穴成对消失的过程。
·从能量的角度看激发和复合热激发是价电子获得能量摆脱共价键束缚的过程,复合则是自由电子释放出所获得的能量重新被共价键俘获的过程。
·热平衡浓度T↑→自由电子和空穴浓度↑→复合↑→动态平衡。
表现为在此温度下电子和空穴对的浓度宏观上不再变化。
称为此温度下的热平衡浓度。
温度提高后,热激发产生的自由电子-空穴对的数量出现新的增长,带动复合数量的增长,最终达到新的动态平衡,在新的温度下形成新的热平衡浓度。
·室温下,硅中载流子的热平衡浓度只有约1010/cm3,导体中自由电子浓度约1022/cm3,且不随温度而变。
第1章半导体器件基础
E = 200 lx
符号 2. 主要参数
E = 400 lx
特性
工作条件: 反向偏置
u
电学参数: 暗电流,光电流,最高工作范围
光学参数:
光谱范围,灵敏度,峰值波长
实物照片
模电拟 电子子 技技术 术
1.2.6 二极管应用举例
例1:已知ui是幅值为10V的正弦信号,试画出ui和uo 的波形。设二极管正向导通电压可忽略不计。
模电拟 电子子 技技术 术
例二:在图示稳压管稳压电路中,已知稳压管的稳定电压 UZ=6V,最小稳定电流Izmin=5mA,最大稳定电流Izmax=25mA; 负载电阻RL=600Ω。求解限流电阻R的取值范围。
分析:
由KCL I R I DZ I L
I DZ
UI
UZ R
UZ RL
而 5mA IDZ 25mA
(击穿电压 < 4 V,负温度系数)
雪崩击穿:反向电场使电子加速,动能增大,当反向电压增加到较
大数值时,耗尽层的电场使少子加快漂移速度,从而与 共价键中的价电子相碰撞,把价电了撞出共价键,产生 电子-空穴对。新产生的电子与空穴被电场加速后又撞 出其它价电子,载流子雪崩式地倍增,致使电流急剧增 加,这种击穿称为雪崩击穿。 (击穿电压 > 7V,正温度系数)
模电拟 电子子 技技术 术
二、PN 结的单向导电性 1. 外加正向电压(正向偏置)— forward bias
IF P 区
外电场
N区 内电场
扩散运动加强形成正向电流 IF
外电场使多子向 PN 结移动, 中和部分离子使空间电荷区变窄。
限流电阻
模电拟 电子子 技技术 术
2. 外加反向电压(反向偏置) — reverse bias
第一部分半导体器件基础
多数载流子——自由电子 少数载流子—— 空穴
施主离子
2. P型半导体
在本征半导体中掺入三价杂质元素,如硼、镓等。
硅原子
+4
空穴
+4
硼原子
+4
电子空穴对
空穴
+4 +4
P型半导体
- - --
+3 +4
- - --
- - --
+4 +4
受主离子
多数载流子—— 空穴 少数载流子——自由电子
杂质半导体的示意图
PN结加反向电压时,具有很小的反向 漂移电流,呈现高电阻, PN结截止。
由此可以得出结论:PN结具有单向导 电性。
动画演示1 动画演示2
3. PN结的伏安特性曲线及表达式
根据理论推导,PN结的伏安特性曲线如图
反向饱和电流 反向击穿电压
IF(多子扩散) 正偏
反偏
反向击穿
IR(少子漂移)
电击穿——可逆 热击穿——烧坏PN结
二. 杂质半导体
在本征半导体中掺入某些微量杂质元素后的 半导体称为杂质半导体。
1. N型半导体
在本征半导体中掺入五价杂质元素,例 如磷,砷等,称为N型半导体。
N型半导体
硅原子 +4
多余电子
+4
磷原子
+4
+4
+4
电子空穴对 自由电子
N型半导体
+5 +4
++ + + ++ + +
+4 +4
++ + +
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。
第一章半导体器件基础讲义1.1半导体的基本知识一、半导体材料导体电阻率半导体绝缘体电阻率<10-4Ωcm >1010Ωcm,·典型半导体材料:硅(Silicon ,元素符号Si)锗(Germanium,元素符号Ge)化合物半导体如砷化镓(GaAs)等·半导体三特点:热敏性;②光敏性;③杂敏性。
·半导体导电能力与晶体结构的关系――半导体的导电能力取决于它的原子结构。
·硅原子结构简化模型:·硅原子的晶体结构:共价键。
·半导体指纯净的、结构完整的晶体·共价键内载流子的运动方式――价电子是可以在共价键内运动的。
二、本征半导体·T=0K(约为-273℃)时,所有价电子均被束缚在共价键内,不能导电。
·热激发T↑→价电子的热运动获得能量→摆脱共价键的吸引→成为自由电子,同时留下一个空位→相关原子成为正离子――中性原子的电离过程。
·空穴可以移动的,带正电荷的载流子。
空穴的运动形式――价电子在共价键内移动。
·半导体内的两种载流子:自由电子和空穴――两者带电量相同而极性相反,且均可移动。
·自由电子和空穴成对产生源于温度,称为热激发。
·热敏性T↑,热激发加剧,自由电子和空穴的浓度↑,电阻率↓。
·复合自由电子和空穴相遇,自由电子和空穴成对消失的过程。
·从能量的角度看激发和复合热激发是价电子获得能量摆脱共价键束缚的过程,复合则是自由电子释放出所获得的能量重新被共价键俘获的过程。
·热平衡浓度T↑→自由电子和空穴浓度↑→复合↑→动态平衡。
表现为在此温度下电子和空穴对的浓度宏观上不再变化。
称为此温度下的热平衡浓度。
温度提高后,热激发产生的自由电子-空穴对的数量出现新的增长,带动复合数量的增长,最终达到新的动态平衡,在新的温度下形成新的热平衡浓度。
·室温下,硅中载流子的热平衡浓度只有约1010/cm3,导体中自由电子浓度约1022/cm3,且不随温度而变。
·半导体中的导电机理在半导体中,自由电子带负电荷、空穴带正电荷,均可移动,两种载流子。
有:。
三、杂质半导体掺杂的目的:改变半导体的导电能力和导电类型。
根据掺入的是五价或三价元素,可以得到N型和P型两种类型的杂质半导体。
1. N型半导体掺入五价元素磷(或砷、锑)。
比例很小,不会破坏原来的晶体结构。
当磷原子取代晶体中的硅原子时,第五个价电子在室温下即可摆脱磷原子核的吸引变成自由电子,磷原子因丢失一个价电子而带正电,电离成不能移动的正离子。
磷原子称为施主元素,电离后出现的正离子称为施主离子。
硅原子密度为1022/cm3,按万分之一掺杂,自由电子数也将达到1018/cm3。
而室温下的热平衡浓度只有约1010/cm3。
多数载流子,简称多子。
少数载流子,简称少子。
电子型半导体或N型半导体。
2. P型半导体掺入微量三价元素硼,在室温下,掺入的硼原子均电离成负离子,并提供一个空穴。
同时半导体中原有热激发产生的微量自由电子-空穴对将使该半导体中有少量自由电子。
因为掺入的三价元素会接受电子,故称三价元素为受主元素,电离后的负离子称为受主离子。
在这种半导体中,空穴是多数载流子,自由电子是少数载流子。
导电时将以空穴电流为主,故将其称为空穴型半导体或P型半导体。
·结论在杂质半导体中多数载流子主要是由掺入的杂质元素提供的,所以我们通过控制掺杂浓度,即可改变半导体的导电能力。
·电中性问题N型半导体中:自由电子数=空穴数+正离子数,P型半导体中:空穴数=自由电子数+负离子数。
四、PN结及单向导电性1. 载流子的运动方式·扩散运动――扩散运动是由于浓度差,载流子由浓度高向浓度低方向的运动。
·漂移运动――漂移运动是载流子在电场作用下做的定向运动。
因载流子扩散形成的电流叫扩散电流,漂移形成的电流称为漂移电流。
2. PN结的形成浓度差→扩散→形成空间电荷区→内建电场→阻止扩散,利于漂移→动态平衡。
内建电场的影响:①阻碍两边多子的扩散。
N区的自由电子和P区的空穴在扩散穿越空间电荷区时,要克服电场力做功,这就使得能扩散到对方的多数载流子的数量减少;②有利于两边少数载流子的漂移。
内建电场对于两边区域的多数载流子的扩散运动是一个阻力场(或减速场),而对于两边区域的少数载流子却是一个加速场。
少数载流子只要因热运动进入内建电场的势力范围,就会在电场力的作用下加速漂移到达对方。
因为PN结空间电荷区中能够移动的带电粒子(自由电子和空穴)都扩散到对方区域复合掉了(载流子都消耗尽了),所以PN 结也叫做耗尽区。
3. PN结的单向导电性PN结的特点是具有单向导电性,在外加电压的作用下,PN结只允许通过单向电流。
(1)PN结正偏导通PN结正偏时,空间电荷区中的正负电荷量减少,PN结将变窄。
削弱了空间电荷区的电场。
这就减小了对多数载流子扩散的阻碍作用,因此两边多子扩散运动大于少子漂移运动,PN结内的电流便由起主导作用的扩散电流所决定。
称为正向电流I F。
正向压降约在0.6V~0.8V(硅管)之间。
当外加正向电压稍有增大时,PN结内电场将进一步被削弱,正向电流还将随之显著增加。
这就是PN结的正向导通状态。
(2)PN结反偏截止PN结反偏时,外加电场与内建电场方向相同,PN结内的总电场大大加强,一方面将使P区的空穴和N区的自由电子将离开PN结,PN结将变宽。
另一方面两边多子的扩散变得极为困难,因此多子的扩散电流趋近于零。
而更有利于少子的漂移运动。
在这种情况下,PN结中的电流就是少子的漂移电流。
宏观表现为外电路出现一个流入N区的反向电流I R。
因少子的浓度很小,故I R很小。
而且I R与反向电压的大小关系不大,表现为当反向电压增大时,I R基本上保持恒定。
所以又将I R叫做反向饱和电流。
·结论正向连接时,PN结的正向压降小,通过的正向电流大。
反向连接时,PN结两端的反向电压约等于外加电压,通过的反向电流极小。
在一般情况下,可按等于零处理。
所以,PN结具有只允许正向电流通过,不允许反向电流通过的特性,这就是PN结的单向导电性。
PN结的单向导电性还可以表述为正向电阻小,反向电阻大。
·反向饱和电流的温度特性T↑→少子浓度↑→I R↑温度升高12℃,硅材料PN结的I R增加近一倍;温度每升高8℃,锗材料PN结的I R增加近一倍。
工程上估算时常统一认为温度每升高10℃时增加一倍,即4. PN结电容*PN结上电压大小变化时,PN结内储存的电荷量也随之发生变化,这种电荷数量随外加电压而变的特点,说明PN结还具有一定的电容效应。
这种PN结电容包括两部分,即势垒电容和扩散电容。
势垒电容――PN结内空间电荷区的电荷数随外加电压的变化而变这一现象(空间电荷区又称为势垒区)。
当外加电压变化时,空间电荷区宽度及电荷量变化。
这种PN结上外加电压改变时,电荷量也随之发生变化的现象,与普通电容的充放电过程相似。
所不同的是势垒电容不是一个常数(非线性电容)。
扩散电容――多数载流子在扩散过程中的积累电荷量随外加正向电压而变。
PN结电容的大小与本身结构和工艺有关,一般为几PF~几百PF。
由于电容量较小,在低频工作时,PN结电容的影响可以忽略不计,但在工作频率较高的场合则必须选择结电容小的管子。
否则将失去单向导电性。
1.2半导体二极管一、半导体二极管概述常见的二极管的外形图分类:按材料来分,有锗二极管和硅二极管。
按功能来分,有整流二极管、检波二极管、稳压二极管、发光二极管、开关二极管、光敏二极管、恒流二极管、变容二极管等等。
按结构来分,有点接触型和面接触型两类。
二、二极管的特性曲线1. 正向特性正偏时,二极管的正向压降小,电流较大,而且正向电压稍有增加,电流增大的很快,这是二极管的正向导通状态。
门坎电压:当正向电压超过某一数值后,正向电流才明显地增大。
这一数值通常称为“门坎电压”或“死区电压”,用U th表示。
硅材料二极管的U th约为0.5V。
而在这之前外加电场还不足以对空间电荷区的电场强度产生明显的抵消作用,因而此时的正向电流几乎为零,PN结呈现为一个大电阻,不能导电。
2. 反向特性反偏时,二极管处于反向截止状态。
反向饱和电流很小且基本上不随反向电压而变,表现为一条在横轴的下方与横轴近似平行的直线。
3. 反向击穿特性如果使反向电压继续增大,当超过U BR后,曲线突然向下弯曲,反向电流急剧变大,这种现象称为击穿,U BR叫做反向击穿电压。
这种PN结的击穿,包括雪崩击穿和齐纳击穿。
这类击穿会导致反向电流猛增,PN结消耗功率过大,使PN结因温度升高而烧毁。
所以,除了专门制造的供稳压用的稳压二极管外,要严格注意可能出现在PN结两端的最大反向电压不能超过产品技术手册中给出的最高反向工作电压。
·二极管的伏安特性可近似表达为:其中i D是通过二极管的电流,u D是二极管两端的外加电压,I S是二极管的反向饱和电流,U T是温度的电压当量,, k是波耳兹曼常数(1.38×10-23J/K),q为一个电子的电荷量(1.6×10-19C),T为热力学温度,在T=300K时,。
因二极管正向电压在0.6V~0.8V之间,满足U D》U T,则,指数关系。
反偏时,即u D<0且》,则i D≈-I S。
四、二极管电路的分析方法与应用1.二极管电路的图解分析法·线性元件和非线性器件的电阻线性电阻的阻值不会随外加电压电流而变,体现在伏安特性曲线上就是一条直线,其斜率的倒数即为阻值。
二极管的伏安特性曲线说明它两端的电压与流过的电流之比不是一个常数,随着电流的变化,它的等效电阻是变化的。
·非线性器件的直流电阻和交流电阻(也称为静态电阻和动态电阻)直流电阻的定义是:交流电阻的定义为:在实际分析计算中,常用有限小量△u、△i替代无限小量du、di,所以交流电阻可以近似表示为:图1-2-4(a)所示二极管的特性曲线是一条曲线,在曲线上I1、I2对应的两点处,直流电阻并不相等。
而且各点处的交流电阻也不相等。
这就说明了二极管具有非线性特性。
含有非线性器件的电路属于非线性电路,对非线性电路进行分析时,不能沿用线性电路的分析方法。
二极管电路的图解分析法见【例1-2-1】区分线性、非线性部分――联立求解――找交点2.二极管电路的估算分析法估算法是根据二极管的特点,对电路进行合理的近似计算。
特点是简便迅速。
是工程实践中经常采用的方法。
在近似计算中,可将U D看成一个不变的常量,典型值为0.7V(硅管)或0.2V(锗管);在参与运算的外加电压远大于U D的情况下,还可将U D的影响忽略不计,按理想二极管进行计算。