第02章 晶体缺陷

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第二章 晶体缺陷

第二章 晶体缺陷

1. 刃型位错
(1)刃型位错(edge dislocation)的产生 刃型位错( 完整晶体滑移的理论剪切强度要远高于实际晶体滑移的对 的理论剪切强度要远高于实际晶体滑移 完整晶体滑移的理论剪切强度要远高于实际晶体滑移的对 应强度,从而促进了位错理论的产生和发展。 应强度,从而促进了位错理论的产生和发展。 刃型位错图示: (2) 刃型位错图示: 刃型位错线:多余半原子面与滑移面的交线。 刃型位错线:多余半原子面与滑移面的交线。 刃型位错特征: (3)刃型位错特征: 刃型位错有一个额外的(多余)半原子面。 ① 刃型位错有一个额外的 ( 多余 ) 半原子面 。 正刃型位 表示,负刃型位错用 表示; 错 用 “⊥” 表示 ,负刃型位错用 “ ┬” 表示 ;其正负只是相 对而言。判断用右手定则:食指指向位错线方向, 对而言。判断用右手定则:食指指向位错线方向, 中指指向 柏氏矢量方向,拇指指向多余半原子面方向。 柏氏矢量方向,拇指指向多余半原子面方向。 ② 刃型位错是 直线 、 折线 或 曲线 。 它与滑移方向 、 柏氏 刃型位错是直线 折线或曲线。它与滑移方向、 直线、 矢量垂直。 矢量垂直。
2.2.2 位错的运动
基本形式: 基本形式:滑移和攀移 滑移( 滑移(slip): 攀移( 攀移(climb): 除滑移和攀移还有交割 交割( 除滑移和攀移还有交割(cross/interaction)和扭折 (kink)
1. 位错的滑移
位错的滑移( 位错的滑移(slipping of disloction): 任何类型的位错均可进行滑移. 任何类型的位错均可进行滑移. 刃位错的滑移过程(教材图3 12) (1) 刃位错的滑移过程 ( 教材图 3.12 ) τ ∥ b 、 b⊥ξ 、 滑 移方向⊥ 单一滑移面。 移方向⊥ ξ、滑移方向∥b,单一滑移面。 螺型位错的滑移过程( 教材图3 13) (2) 螺型位错的滑移过程 ( 教材图 3.13 ) τ ∥ b 、 b ∥ ξ 、 滑移方向 ⊥ ξ 、滑移方向⊥ b ,非单一滑移面 。可发生 交滑移。 交滑移。 混合位错的滑移过程( 教材图3 14) (3) 混合位错的滑移过程 ( 教材图 3.14 ) 沿位错线各点 的法线方向在滑移面上扩展,滑动方向垂直于位错线方向。 的法线方向在滑移面上扩展,滑动方向垂直于位错线方向。 但滑动方向与柏氏矢量有夹角。 但滑动方向与柏氏矢量有夹角。

材料科学基础 第02章 晶体缺陷课件

材料科学基础  第02章 晶体缺陷课件

第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将上半部分向上移动一个原子间距,之间插入半个原子 面,再按原子的结合方式连接起来,得到和(b)类似排列 方式(转90度),这也是刃型位错。
位错的形式 :
第三节 位错的基本概念
二、柏氏矢量
确定方法: 首先在原子排列基本正常区域作一个包含位错的 回路,也称为柏氏回路,这个回路包含了位错发生的畸变 。然后将同样大小的回路置于理想晶体中,回路当然不可 能封闭,需要一个额外的矢量连接才能封闭,这个矢量就 称为该位错的柏氏(Burgers)矢量。
第一节 材料的实际晶体结构
一、多晶体结构
多晶体:
实际应用的工程材料 中,那怕是一块尺寸很小 材料,绝大多数包含着许 许多多的小晶体,每个小 晶体的内部,晶格位向是 均匀一致的,而各个小晶 体之间,彼此的位向却不 相同。称这种由多个小晶 体组成的晶体结构称之为 “多晶体”。
第一节 材料的实际晶体结构
螺型位错 柏氏矢量与位错线相互平行。(依方向关系可 分左螺和右螺型位错)
混合位错 柏氏矢量与位错线的夹角非0或90度。
柏氏矢量守恒:
①同一位错的柏氏矢量与柏氏回路的大小和走向无关。
②位错不可能终止于晶体的内部,只能到表面、晶界和其他位 错,在位错网的交汇点,必然
第三节 位错的基本概念
三、位错的运动
第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将上半部分向上移动一个原子间距,之间插入半个原子面, 再按原子的结合方式连接起来,得到和(b)类似排列方式(转 90度),这也是刃型位错。
第三节 位错的基本概念
一、位错的原子模型
若将晶体的上半部分向后 移动一个原子间距,再按原子 的结合方式连接起来(c),同样 除分界线附近的一管形区域例 外,其他部ห้องสมุดไป่ตู้基本也都是完好 的晶体。而在分界线的区域形 成一螺旋面,这就是螺型位错 。

辽宁科技大学-材料科学基础-晶体缺陷PPT课件

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例:纯半导体禁带较宽,价电带电子很难越过禁带进入导带,导电率很低,为改 善导电性,可采用掺加杂质的办法,如在半导体硅中掺入P和B,掺入一个P,则 与周围Si原子形成四对共价键,并导出一个电子,叫施主型杂质,这个多余电子 处于半束缚状态,只须填加很少能量,就能跃迁到导带中,它的能量状态是在禁 带上部靠近导带下部的一个附加能级上,叫施主能级,叫n型半导体。当掺入一个 B,少一个电子,不得不向其它Si原子夺取一个电子补充,这就在Si原子中造成空 穴,叫受主型杂质,这个空穴也仅增加一点能量就能把价带中电子吸过来,它的 能量状态在禁带下部靠近价带顶部一个附加能级,叫受主能级,叫p型半导体,自 由电子,空穴都是晶体一种缺点缺陷在实践中有重要意义:烧成烧结,固相反应, 扩散,对半导体,电绝缘用陶瓷有重要意义,使晶体着色等。
从物理学中固体的能带理论来看,非金属固体具有价带,禁带和导带, 当在OK时,导带全部完善,价带全部被电子填满,由于热能作用或其它能 量传递过程 ,价带中电子得到一能量Eg,而被激发入导带,这时在导带中 存在一个电子,在价带留一孔穴,孔穴也可以导电,这样虽末破坏原子排 列的周期性,在由于孔穴和电子分别带有正负电荷,在它们附近形成一个 附加电场,引起周期势场畸变,造成晶体不完整性称电荷缺陷。
点缺陷既然看作为化学实物,点缺陷之间就会发生一系列类似化学反 应的缺陷化学反应。在缺陷化学中,为了讨论方便起见,为各种点缺陷规 定了一套符号。在缺陷化学发展史上,很多学者采用过多种不同的符号系 统,目前采用得最广泛的表示法是克留格-明乌因克(Kroger-Vink)符号:
在该符号系统中,点缺陷符号由三部分组成: ① 主符号,表明缺陷种类; ② 下标,表示缺陷位置; ③ 上标,表示缺陷有效电荷,“·”表示有效正电荷,用“′”表

晶体缺陷

晶体缺陷

第二章晶体缺陷固体在热力学上最稳定的状态是处于0K温度时的完整晶体状态,此时,其内部能量最低。

晶体中的原子按理想的晶格点阵排列。

实际的真实晶体中,在高于0K的任何温度下,都或多或少的存在着对理想晶体结构的偏离,即存在着结构缺陷。

结构缺陷的存在及其运动规律,对固体的一系列性质和性能有着密切的关系,尤其是新型陶瓷性能的调节和应用功能的开发常常取决于对晶体缺陷类型和缺陷浓度的控制,因此掌握晶体缺陷的知识是掌握材料科学的基础。

晶体缺陷从形成的几何形态上可分为点缺陷、线缺陷和面缺陷三类。

其中点缺陷按形成原因又可分为热缺陷、组成缺陷(固溶体)和非化学计量化合物缺陷,点缺陷对材料的动力性质具有重要影响。

本章对点缺陷进行重点研究,对线缺陷的类型和基本运动规律进行简要的介绍,面缺陷的内容放在表面和界面一章中讲解。

第一节热缺陷一.热缺陷定义当晶体的温度高于绝对0K时,由于晶格内原子热振动,使一部分能量较大的原子离开平衡位置造成的缺陷。

由于质点热运动产生的缺陷称为热缺陷。

二.热缺陷产生的原因当温度高于绝对温度时,晶格中原子热振动,温度是原子平均动能的度量,部分原子的能量较高,大于周围质点的约束力时就可离开其平衡位置,形成缺陷。

三.热缺陷的基本类型1.肖特基缺陷如果表面正常格点上的原子,热起伏过程中获得能量离开平衡位置但并未离开晶体,仅迁移到晶体表面外新表面的一个位置上,在原表面格点上留下空位。

原子的迁移相当于空位的反向迁移,表面的空位移至晶体的内部。

显然,在产生肖特基缺陷晶体会增大体积。

为了维持晶体的电中性,正、负离子空位同时按化学式关系成比例产生。

2.弗伦克尔缺陷晶格热振动时,一些原子离开平衡位置后挤到晶格的间隙位置中形成间隙原子,而原来的结点形成空位。

此过程中,间隙原子与空位成对产生,晶体体积不发生变化。

四 .缺陷化学 1.缺陷表示方法在克劳格.明克符号系统中,用一个主要符号来表明缺陷的种类,用一个下标来表示缺陷的位置,缺陷的有效电荷在符号的上标表示,如“·”表示正电,“’”表示负电,“×”表示中性。

第二章 晶体缺陷

第二章 晶体缺陷
2G ⎛ 2πW ⎞ τp = ⋅ exp⎜ − ⎟ (1 − v) b ⎠ ⎝
⎡ 2G 2π a ⎤ exp ⎢ − = (1 − v ) (1 − v ) b ⎥ ⎣ ⎦ 晶体滑移为什么多是沿着晶体中晶面间距最大的最密排面和原子密 排方向进行?
31
式中b:滑移方向上原子间距 G:切变模量 v:泊松比 W为位错宽度,W=a/1-v,a为晶面间距
11
2.2.1 位错的基本概念 1.位错学说的产生
1926年弗兰克尔利用理想晶体的模型估算了理论切变强度 与实验结果相比相差3‾4个数量级 1934年泰勒,波朗依和奥罗万三人几乎同时提出晶体中 位错的概念 泰勒把位错与晶体塑变的滑移联系起来,认为位错在切应 力作用下发生运动,依靠位错的逐步传递完成了滑移
2.位错的攀移
攀移为“非守恒运动”
空位引起的正攀移
负攀移
32
2.2.3 位错的弹性性质
1.位错的应力场 位错的存在,在其周围的点阵发生不同程度的畸变 中心部分畸变程度最为严重,为位错中心区,这部分 超出了弹性应变范围,不讨论 仅讨论中心区以外的弹性畸变区 借助各向同性的弹性连续介质模型讨论位错的弹性性质
由于混合位错可以分解为刃型和螺型两部分,因此,不难理 解,混合位错在切应力作用下,也是沿其各线段的法线方向 滑移,并同样可使晶体产生与其柏氏矢量相等的滑移量。
30
位错由1→2经过不对称状态,位错必越过一势垒才能前进。 位错移动受到一阻力——点阵阻力,又叫派—纳力(PeirlsNabarro),此阻力来源于周期排列的晶体点阵。
49
刃型肖克莱不全位错在(110)面上的投影 只能滑移,不能攀移
50
弗兰克(Frank)不全位错
(a)面心立方结构 (b)密排六方结构 密排面的堆垛顺序

晶体缺陷2

晶体缺陷2

(2)螺型位错
模型:无多余半原子面,位错线垂直于位错运动方向,晶体滑移方向垂直于位 错运动方向,位错线平行于柏氏矢量。 分类:左螺旋、右螺旋 位错线方向与滑移矢量一致-----右螺旋 位错线方向与滑移矢量相反------左螺旋 需要指出的是左螺和右螺有着本质差别,无论将晶体如何放置也不可能改变其 原本的左右性质。
三位错线相遇于一点b1=b2+b3
四位错线相遇于一点b1+b2+b3+b4=0
位错密度
定义1:单位体积中含有的位错的总长度

定义2:单位面积上截过的位错数目ρs
当所有位错线相互平行并且都垂直于表面时
谢谢
刃型位错线可理解为晶体中已滑移区与未滑移区的边界线。 它不一定是直线,也可以是折线或曲线,但它必与滑移方向相垂 直,也垂直于柏氏矢量。
不同形状的刃位错
晶体中存在刃位错后,位错周围的点阵发生弹性畸变,既有切应 变,又有正应变。含有多余半原子面的那部分晶体受压应力,原子间 距减少,不含多余半原子面的部分晶体受拉应力,原子间距增大。
晶体缺陷
晶体缺陷概念的提出
实际晶体中,由于原子的热运动,以及材料加工中各种因素的 影响,使得原子排列不可能周期性的规则排列和完善,往往存在 偏离理想结构的区域,我们通常把这种不完整区域称为晶体缺陷。
刃位错
螺位错 晶界
线缺陷------------------位错
位错的假说是在30年代为了解释金属的塑性变形而提出来的. 人们很早就知道金属可以塑性变形,但对其机理不清楚。1926年弗兰克尔利 用理想晶体模型,假定滑移时滑移面两侧晶体像刚体一样,所有原子同步平移,但 是估算的理论切变强度与实际结果相比差3~4个数量级,这一矛盾在很长一段时 间内难以解释。 1934年泰勒等人提出了晶体中位错的概念,他认为位错在切应力作用下发生 运动,依靠位错的逐步传递完成了滑移过程。

第二章 晶体缺陷(Defect of the crystals

第二章 晶体缺陷(Defect of the crystals

它是极其重要的晶体缺陷。影响 材料强度 塑性变形、断裂扩散 、固态相变。
第二章 晶体缺陷(Defect of the crystals) 2.2线缺陷(位错)
2.2.1位错的基本理论 1. 位错学的产生 弗兰克尔计算无缺陷晶体的理论强度:σm=G/2π (Mpa) 而实际金属的屈服强度(抗力)比理论低10³ —104数量级 柏格斯( burgers):提出用柏氏矢量表征位错特性。 柯垂尔(cetrell):解释低碳钢屈服现象(溶质原子与位错交互作用) 弗兰克—瑞德(Frank—Read):提出位错增殖机制 20世纪50年代,人们用透射电镜直接观察了位错。
第二章 晶体缺陷(Defect of the crystals) 2.2线缺陷(位错) 2.2.1位错的基本理论
⑵螺型位错: 概念:晶体的某一部分沿某一晶面与另一部分相对错动形成。 准确定义:柏氏矢量b与位错线平行的位错。
螺位错示意图
第二章 晶体缺陷(Defect of the crystals) 2.2线缺陷(位错) 2.2.1位错的基本理论
3.柏氏矢量
位错处晶格畸变的大小和方向
人为规定一个矢量,表达
塑性变形时滑移量的大小和方向
第二章 晶体缺陷(Defect of the crystals) 2.2线缺陷(位错) 2.2.1位错的基本理论
3.柏氏矢量 ⑴柏氏矢量的确定方法 刃性位错柏氏矢量的确定方法:(见动画)
在含位错和完整晶体中分别走相同步数,在完整晶体 中未闭合的大小和方向表示柏氏矢量b ∴有 刃性位错:b垂直位错线
第二章 晶体缺陷(Defect of the crystals) 2.1 点缺陷
2.1.1 点缺陷的类型及形成 1. 空位
热力学使平衡原子跳至三个去处: 外表面 ①跳至 晶体表面 →肖脱基空位 晶界 ②跳至晶格间隙中形成间隙

第二章晶体缺陷

第二章晶体缺陷

材料科学基础
(5)自由电子及电子空穴 有些情况下,价电子并不一定属于某个特定位置的原子,在 光、电、热的作用下可以在晶体中运动,原固定位置称次自 由电子(符号e/ )。同样可以出现缺少电子,而出现电子空 穴(符号h. ),它也不属于某个特定的原子位置。
(6)带电缺陷 不同价离子之间取代如,Ca2+取代Na+——Ca · Na Ca2+取代Zr4+——Ca”Zr
Cl Na Cl
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材料科学基础
缺陷化学反应表示法
以二元化合物MX为例 大写字母:原子;下标:位置;上标:电荷
名称
正常原子 原子空位 间隙原子 错位缺陷
符号
MM, XX VM, VX Mi, Xi MX, XM
名称
带电缺陷(NaCl) 自由电子 电子空穴
材料科学基础
取代原子 / 杂质原子 • 外来原子进入晶格就成为晶体中的杂质
• 也是一类基本的点缺陷,由于它们改变了晶体的化学成分,
因而被称为化学点缺陷 • 取代原子 —— 杂质原子取代原来晶格中的原子而进入正常 结点的位置 • 间隙式杂质原子 —— 杂质原子进入间隙位置 • 错位原子—— 在AB化合物中,A原子占据B格点位置,或B 原子占据A格点位置
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材料科学基础
第一节
点缺陷
(一)热缺陷,主要是产生了空位和间隙原子; (二)组成缺陷,即掺入了杂质离子(大、小); (三)电子缺陷,电子的能量状态发生了变化; (四)非化学计量结构缺陷,由化合物的非化学 计量引起空位和间隙原子,常伴有电荷的转移。
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第二章-晶体缺陷资料讲解

第二章-晶体缺陷资料讲解
位错的能量包括中心区域错排能以及位错中心区域以 外部分的应变能,而中心区域错排能大约只占位错总能量 的1/15~1/10,故通常忽略不计。
一般地,以单位长度的位错所具有的能量来度量位错 应变能的高低,故其量纲为 J / m。
2-2 位错
螺型位错的应变能为:
W螺
W L
Gb2
4
R ln
r0
刃型位错的应变能为:
滑移面转移到与之相交的另一个滑移面上继续滑移。 2. 位错交滑移的条件 螺型位错除可发生滑移外,也可以发生交滑移。 螺型位错交滑移前后的两个滑移面必须属于以螺型位
错柏氏矢量所在晶向为轴的晶带。
2-2 位错
3. 螺型位错的交滑移过程
a
b
c
a—沿A面滑移; b—交滑移到B面; c—再次交滑移到A面
2-2 位错
O S2
N
2-2 位错
思考题: 1. 何谓位错交割? 2. 分析位错线互相垂直的两个刃型位错的 交割过程。
2-2 位错
五、位错的弹性性质
(一)位错的应力场
1. 弹性连续介质模型 该模型对晶体作如下假设: (1)完全服从虎克定律,即不存在塑性变形; (2)是各向同性的; (3)为连续介质,不存在结构间隙。
(1)弹性连续介质模型 将一个圆管的一侧沿轴向 切开,然后使被切开的晶面相 对上、下滑动一个柏氏矢量b, 再焊合起来,即对应着一个以 Z 轴(圆管中心轴线)为位错 线、柏氏矢量为b的螺型位错。
2-2 位错
(2)螺型位错应力场的数学表达式
圆柱坐标系下: z
z
Gz
2G br
r r zr rz0
rrzz0
位错的运动方式有两种最基本形式,即滑移和攀移。 (一)位错的滑移

晶体缺陷和柏氏矢量及位错运动

晶体缺陷和柏氏矢量及位错运动

14:55:15
1
西安石油大学材料科学与工程学院
材料科学基础
位错的电镜照片
面缺陷: 晶界 位错缠结形成位错胞 14:55:15 (晶界) 空位聚合形成 位错
2 西安石油大学材料科学与偏离晶体结构的正常排列的缺陷。
点缺陷包括:空位、间隙原子、异类原子。 2.1.1 点缺陷的类型及形成
11
位错是否引起晶体畸变和 引起晶体畸变、形成应力场,且
材料科学基础 3、混合位错(mixed dislocation) 位错线既不平行也不垂直于滑移方向,滑移矢量与位错线成 任意角度,这种晶体缺陷称为混合型位错。 C 位错线与滑移矢
量不垂直也不平 行,是混合位错 位错线与滑移矢量垂 直是刃位错
A
材料科学基础
第二章 晶体缺陷
缺陷形成过程:晶体生长过程中、晶体形成后。 晶体缺陷:原子排列规则性受到严重破坏的区域。
晶体缺陷分三大类:
1)点缺陷:属零维缺陷,它在三维空间各方向尺寸都很小,如空位、间 隙原子和异类原子等。 2)线缺陷:属一维缺陷,它在两个方向尺寸很小,而在另一个方向上尺 寸却很大,主要是位错。可被电镜观察到。 3)面缺陷:属二维缺陷,它在一个方向上尺寸很小,而在另两个方向上 尺寸却很大,如晶界、相界、层错和表面等。光学显微镜可观察到。
材料科学基础
2.1.2 点缺陷的运动及平衡浓度
点缺陷存在的影响:
(1)造成点阵畸变,使晶体的内能升高,降低了晶体的热力学稳定性。 (2)增大了原子排列的混乱程度,改变周围原子的振动频率,使晶体熵值增大,增 加了晶体的热力学稳定性。
n 一定温度下空位或者间隙原子的平衡浓度: C Ae kT N E
迁移到晶体表面的正常 结点位置上,而使晶体 内部留下空位:肖脱基 (Schottky)空位。

晶体结构缺陷

晶体结构缺陷

56第二章 晶体结构缺陷我们在讨论晶体结构时,是将晶体看成无限大,并且构成晶体的每个粒子(原子、分子或离子)都是在自己应有的位置上,这样的理想结构中,每个结点上都有相应的粒子,没有空着的结点,也没有多余的粒子,非常规则地呈周期性排列。

实际晶体是这样的吗?测试表明,与理想晶体相比,实际晶体中会有正常位置空着或空隙位置填进一个额外质点,或杂质进入晶体结构中等等不正常情况,热力学计算表明,这些结构中对理想晶体偏离的晶体才是稳定的,而理想晶体实际上是不存在的。

结构上对理想晶体的偏移被称为晶体缺陷。

实际晶体或多或少地存在着缺陷,这些缺陷的存在自然会对晶体的性质产生或大或小的影响。

晶体缺陷不仅会影响晶体的物理和化学性质,而且还会影响发生在晶体中的过程,如扩散、烧结、化学反应性等。

因而掌握晶体缺陷的知识是掌握材料科学的基础。

晶体的结构缺陷主要类型如表2—1所示。

这些缺陷类型,在无机非金属材料中最基本和最重要的是点缺陷,也是本章的重点。

表2—1 晶体结构缺陷的主要类型2.1 点缺陷研究晶体的缺陷,就是要讨论缺陷的产生、缺陷类型、浓度大小及对各种性质的影响。

60年代,F .A .Kroger 和H .J .Vink 建立了比较完整的缺陷研究理论——缺陷化学理论,主要用于研究晶体内的点缺陷。

点缺陷是一种热力学可逆缺陷,即它在晶体中的浓度是热力学参数(温度、压力等)的函数,因此可以用化学热力学的方法来研究晶体中点缺陷的平衡问题,这就是缺陷化学的理论基础。

点缺陷理论的适用范围有一定限度,当缺陷浓度超过某一临界值(大约在0.1原子%左右)时,由于缺陷的相互作用,会导致广泛缺陷(缺陷簇等)的生成,甚至会形成超结构和分离的中间相。

但大多数情况下,对许多无机晶体,即使在高温下点缺陷的浓度也不会超过上述极限。

缺陷化学的基本假设:将晶体看作稀溶液,将缺陷看成溶质,用热力学的方法研究各种缺陷在一定条件下的平衡。

也就是将缺陷看作是一种化学物质,它们可以参与化学反应——准化学反应,一定条件下,这种反应达到平衡状态。

第2章 晶体缺陷

第2章 晶体缺陷

3.混合型位错
混合型位错线是一 个曲线EF。在E处滑移 方向与位错方向平行, 在F处滑移方向与位错 垂直。中间部分为斜交
(2)位错环
位错线是已滑移区与未滑移区的分界线, 因此位错线不能中止于晶体内部,只能露头于 晶体表面。若中止于晶体内部则必与其它位错 线相连接,或在晶体内部形成封闭线。形成封 闭线的位错称为位错环。
2.1.3点缺陷的迁移
晶体中形成的热缺陷始终处于运动变化的 状态,其中包括新缺陷的产生、运动和复位。 ①填隙原子的运动,包括由一个填隙位置到另 一个填隙位置,以及填隙原子落入空位 ②空位的运动:空位的运动实质上是由正常格 点位置落入空位而形成新的空位产生的。
2.2.2 组成缺陷
在晶体中存在杂质离子,杂质离子的存在 破坏了晶体原有的有序结构,从而产生了点缺 陷,称之为组成缺陷。杂质离子或占据溶剂离 子的位置,形成置换型杂质离子,或者占据溶 剂离子的间隙位置,形成置换杂质离子,具体 主要由杂质离子与溶剂离子的相对大小而定。 在离子晶体中,由于杂质离子与溶剂离子的电 价不同,还会带来空穴等其它缺陷形式。
2.点1.缺2陷点的缺产陷生的、运平动衡浓度内能Sc和振总动熵熵值S,f。包括组态熵
和复合在晶体中是同时进
FUTS
行的。在一定温度下,缺
形成n个空位自由能的
陷的形成和复合会达到一 个动态平衡状态。可根据 热力学理论求出热缺陷的
变化△F为:振能组量动形态,成熵即熵n的△个的U变空变位化化所。。需的
F nv- E T S c ( n S f)
(1)置换杂质 等价置换
SrT3i OB a T3i O SrBaTTii3OO PbZ3r OP b T3 iOPP bbZTri3OO
高价置换低价 低价置换高价

第二章晶体结构与晶体缺陷

第二章晶体结构与晶体缺陷

第⼆章晶体结构与晶体缺陷2-1 (a )MgO 具有NaCl 结构。

根据O 2-半径为0.140nm 和Mg 2+半径为0.072nm ,计算球状离⼦所占有的空间分数(堆积系数)。

(b )计算MgO 的密度。

解:(a )MgO 具有NaCl 型结构,即属⾯⼼⽴⽅,每个晶胞中含有4个Mg 2+和4个O 2-,故Mg 所占有体积为:2233MgO Mg O 3344()344(0.0720.140)30.0522nm V R R ππ+-++===因为Mg 2+和O 2-离⼦在⾯⼼⽴⽅的棱边上接触:22Mg O 2()20.0720.1400.424nm a R R +-++==()=()堆积系数=%=)(=5.68424.00522.033MgOaV(b )37233)10424.0(1002.6)0.163.24(4·0MgO -+?==a N Mn D =3.51g/cm 32-2 Si 和Al 原⼦的相对质量⾮常接近(分别为28.09和26.98),但SiO 2和Al 2O 3的密度相差很⼤(分别为2.65g/cm 3和3.96g/cm 3)。

试计算SiO 2和Al 2O 3的堆积密度,并⽤晶体结构及鲍林规则说明密度相差⼤的原因。

解:⾸先计算SiO 2堆积系数。

每cm 3中含SiO 2分⼦数为:32232234322323222232.65SiO /cm 2.6410/cm(28.0932.0)/(6.0310)Si /cm 2.6410/cm O /cm 2.64102 5.2810/cm +-?+==个=个==个每cm 3中Si 4+和O 2-所占体积为:2-32273Si432273O 4/cm 2.6410(0.02610)30.001954/cm 5.2810(0.13810)30.5809V V ππ-+-====Si 2O 3晶体中离⼦堆积系数=000195+0.5809=0.5829或58.29% Al 2O 3堆积系数计算如下:322323233322223232222332273Al 32273O 32 3.96Al O /cm 2.3410/cm101.96/6.0310Al /cm 2.34102 4.6810/cm O /cm 2.341037.0210/cm 4V /cm 4.6810(0.05310)0.029234V /cm 7.0210(0.1410)0.80703ππ+---+-==个==个==个====Al 2O 3中离⼦堆积系数=0.0292+0.8070=0.8362或83.62%计算时Si 4R +=0.026nmO 2R -=0.138nm (四配位) Al 3R +=0.053nm2O R -=0.14nm (六配位)由于Al 2O 3离⼦堆积系数83.62%⼤于SiO 2晶体总离⼦堆积系数,故Al 2O 3密度⼤于SiO 2。

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第二节 点缺陷
第二节 点缺陷
例如: Cu晶体得空位形成能为0.9ev/atom =1.44X10-19J/atom, 例如: Cu晶体得空位形成能为0.9ev/atom J/atom, 晶体得空位形成能为 500℃时计算可得出平衡空位的浓度为 时计算可得出平衡空位的浓度为1.4X10 很低) 在500℃时计算可得出平衡空位的浓度为1.4X10-6(很低),而在 每立方米的铜晶体存在1.2X10 个空位(数量很多) 每立方米的铜晶体存在1.2X1023个空位(数量很多)。
第一节 材料的实际晶体结构
晶粒:多晶体材料中每个 晶粒: 小晶体的外形多为不规则 的颗粒状, 的颗粒状,通常把它们叫 晶粒” 做“晶粒”。 晶界:晶粒与晶粒之间的 晶界: 分界面叫“晶粒间界” 分界面叫“晶粒间界”, 或简称“晶界” 或简称“晶界”。为了适 应两晶粒间不同晶格位向 的过渡, 的过渡,在晶界处的原子 排列总是不规则的。 排列总是不规则的。

用克鲁格维克符号可以描述离子晶体中的点缺陷的形成,即缺陷化学方程。 除了满足一般化学方程所需要满足的质量平衡和电荷平衡以外,缺陷化学 方程还必须满足晶格格点的平衡。格点平衡是指晶体中的阳离子格点对阴 离子格点的比例必须保持不变,而晶格格点的总数可以增加或者减少。而 为了保持电荷平衡,缺陷化学方程中的缺陷的总有效电荷必须保持平衡。 下面介绍几类离子晶体中常见的点缺陷形成的缺陷化学方程。 对于正负离子尺寸差异较大、结构配位数较低的离子晶体,小离子比较容 易进入相邻晶格间隙,形成弗仑克尔缺陷。AgCl和AgBr中常见的缺陷就是 Ag+进入间隙位置形成的弗仑克尔缺陷:
克鲁格维克符号是描述离子晶体缺陷的一种标准符号, 它包含三个部分:符号的主体显示缺陷是一个空位(V)还 是一个离子(例如Mg),下标说明缺陷所处的位置,或者 是晶格的格点,或者是晶格的间隙位置(i),而上标则表 示缺陷相对于完整晶格的有效电荷(或者相对电荷),其中 '' VMg ,V •代表正电荷, ’代表负电荷,x表示电中性。例如 表示空位,下标Mg表示缺陷处于晶格中Mg所占据的格点, 而上标 ’’ 表示相对于完整晶格,该空位带两个负电,这 • •• 是由于晶格中的Mg2+缺失造成的。Al 则表示处于晶格间隙 i 位置的Al3+,上标表示相对于完整晶格Al3+的存在使间隙位 x Fe Mg 置多了3个正电荷。 则表示杂质离子Fe2+占据晶格Mg2+的 格点。过渡金属元素常常有多种价态。例如在TiO2中,钛离 子的氧化态主要是+4,其中如果出现+3价的钛离子,则可以 Ti 'Ti 描述成一个带负电的点缺陷: 。离子晶体中的自由电子或 自由空穴,则分别用e’和h 表示。
第一节 材料的实际晶体结构
组织: 组织: 性能: 性能: 组织敏感的性能 组织不敏感的性能 伪各向同性:多晶体材料中, 伪各向同性:多晶体材料中,尽管每个晶粒内部象单 晶体那样呈现各向异性, 晶体那样呈现各向异性,每个晶粒在空间取向是随机 分布,大量晶粒的综合作用, 分布,大量晶粒的综合作用,整个材料宏观上不出现 各向异性,这个现象称为多晶体的伪各向同性。 各向异性,这个现象称为多晶体的伪各向同性。
空位的出现提高了体系的熵值
在一摩尔的晶体中如存在n个空位,晶体中有N=6.023X1023 在一摩尔的晶体中如存在n个空位,晶体中有N=6.023X10 个晶格位置,这是空位的浓度为x=n/N 系统熵值为: x=n/N, 个晶格位置,这是空位的浓度为x=n/N,系统熵值为:
设每个空位的形成能为u 空位浓度为x 设每个空位的形成能为u,空位浓度为x时自由能 的变化为: 的变化为:
•与金属中的点缺陷相比,离子晶体中的点缺陷 的一个重要特点是它们往往都是带电的。带电 的原子类点缺陷以及电子类点缺陷之间有电中 性的约束,例如,离子晶体中形成肖特基缺陷 时,阳离子空位和阴离子空位形成的比例必须 符合化学计量比以保持晶体的电中性。因此离 子晶体中的点缺陷的形成比较复杂,人们建立 了一套专门的符号系统来描述离子晶体中的点 缺陷,并发展了应用质量作用定律等来处理晶 体缺陷关系的缺陷化学,它们已经成为研究离 子晶体点缺陷的有效工具。
一块Al2O3中以置换固溶的方式固溶0.5mol%NiO和 0.02mol%Cr2O3. (1)试确定其缺陷反应方程及固溶体分子式; (2)给出这种固溶体的化学式,并考虑固溶前后体 积不变,计算固溶前后的密度变化百分比; (分子量:Al2O3:102, NiO:74.7,Cr2O3:152)
(1) 2NiO→2NiAl’ + 2OO + VO·· Cr2O3 →2CrAl + 3OO Al: 2-0.0004 -0.005 = 1.9946 VO··: 3 -0.0025 = 2.9975 分子式:Al1.9946 Ni0.005 Cr0.0004 O2.9975) (2)1 -0.005 -0.0002 = 0.9948 0.005NiO0.0002Cr2O30.9948Al2O3 含有0.0025mol氧空位,相当于0.00083mol的Al2O3的 氧空位,由于固溶前后体积不变,应该假定掺杂前有 0.00083mol的Al2O3空缺。
第一节 材料的实际晶体结构
晶体缺陷:即使在每个晶粒的内部, 晶体缺陷:即使在每个晶粒的内部,也并不完全象 晶体学中论述的(理想晶体)那样, 晶体学中论述的(理想晶体)那样,原子完全呈现 周期性的规则重复的排列。 周期性的规则重复的排列。把实际晶体中原子排 列与理想晶体的差别称为晶体缺陷。 列与理想晶体的差别称为晶体缺陷。晶体中的缺 陷的数量相当大,但因原子的数量很多, 陷的数量相当大,但因原子的数量很多,在晶体 中占有的比例还是很少, 中占有的比例还是很少,材料总体具有晶体的相 关性能特点, 关性能特点,而缺陷的数量将给材料的性能带来 巨大的影响。 巨大的影响。
第二节 点缺陷
原因:无论那种点缺陷的存在,都会使其附近的原子稍微偏 原因:无论那种点缺陷的存在,
离原结点位置才能平衡,即造成小区域的晶格畸变。 离原结点位置才能平衡,即造成小区域的晶格畸变。
效果 1) 提高材料的电阻 定向流动的电子在点缺陷处受到非
2) 3) 4) 平衡力(陷阱) 增加了阻力, 平衡力(陷阱),增加了阻力,加速运动提高局部温度 发热) (发热)。 加快原子的扩散迁移 空位可作为原子运动的周转站。 空位可作为原子运动的周转站。 形成其他晶体缺陷 过饱和的空位可集中形成内部的 空洞,集中一片的塌陷形成位错。 空洞,集中一片的塌陷形成位错。 改变材料的力学性能 空位移动到位错处可造成刃位 错的攀移, 错的攀移,间隙原子和异类原子的存在会增加位错的 运动阻力。会使强度提高,塑性下降。 运动阻力。会使强度提高,塑性下降。
弗仑克耳缺陷:原子离开平衡位置进入间隙,形成等量的空 位和间隙原子。 肖特基缺陷:只形成空位不形成间隙原子。(构成新的晶面) 金属: 离子晶体: 1 负离子不 能到间隙 2 局部电中 性要求
第二节 点缺陷
热力学分析表明,在高于0K的任何温度下, 热力学分析表明,在高于0K的任何温度下,晶体最稳定的状态 0K的任何温度下 是含有一定浓度点缺陷的状态。此浓度称为点缺陷的平衡浓度。 是含有一定浓度点缺陷的状态。此浓度称为点缺陷的平衡浓度。 空位的出现破坏了其周围的结合状态, 空位形成能 空位的出现破坏了其周围的结合状态,因而造成 局部能量的升高, 局部能量的升高,由空位的出现而高于没有空位时的那一部分 能量称为“空位形成能” 能量称为“空位形成能”。
也有可能发生电子缺陷补偿: 1 x Nb 2 O 5 → 2Nb • + 4O O + 2e'+ O 2 Ti 2 当发生电子补偿时,由于有自由电子产生,可使离子晶体的电导 率增加;而发生原子缺陷补偿时,其电导则没有什么变化。因此 对离子晶体的不等价掺杂,在不同的条件下可以得到非常不同的 结果。对此需要进一步了解的读者,可参考缺陷化学方面的专著。
x x NiO → Ni Mg + O O
而如果掺入的离子与被替代的离子价态不相等,则称为不等价掺 杂。不等价掺杂的杂质原子是带电的点缺陷,因此必须产生其它 的带电缺陷以保持电荷平衡,通常称为电荷补偿。对于主族金属 元素,由于它们只有一个价态,其氧化物组成严格维持化学计量 比,不等价掺杂通常都是通过带电的原子缺陷进行补偿的。例如 在MgO中掺入Al2O3:
点缺陷:在三维空间各方向上尺寸都很小,在原子尺寸大小 点缺陷:在三维空间各方向上尺寸都很小,
的晶体缺陷。 的晶体缺陷。
一、点缺陷的类型 :
1) 空位 在晶格结点位置应有原子的 地方空缺,这种缺陷称为“空位” 地方空缺,这种缺陷称为“空位”。 2) 间隙原子 在晶格非结点位置,往 在晶格非结点位置, 往是晶格的间隙, 往是晶格的间隙,出现了多余的原 它们可能是同类原子, 子。它们可能是同类原子,也可能 是异类原子。 是异类原子。 3) 异类原子 在一种类型的原子组成 的晶格中, 的晶格中,不同种类的原子替换原 有的原子占有其应有的位置。 有的原子占有其应有的位置。
第一节 材料的实际晶体结构
Байду номын сангаас
多晶体: 多晶体: 实际应用的工程材料 中,那怕是一块尺寸很小 材料, 材料,绝大多数包含着许 许多多的小晶体, 许多多的小晶体,每个小 晶体的内部, 晶体的内部,晶格位向是 均匀一致的, 均匀一致的,而各个小晶 体之间, 体之间,彼此的位向却不 相同。 相同。称这种由多个小晶 体组成的晶体结构称之为 多晶体” “多晶体”。
x '' Al 2 O 3 → 2Al• + 3O O + VMg Mg
而在Al2O3中掺入MgO:
x • 2MgO → 2Mg 'Al + 2O O + VO•
过渡金属离子晶体中的不等价掺杂情况则比较复杂。以TiO2中掺 入Nb2O5为例,既可能发生原子缺陷补偿:
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