基于失效机理的引信微结构可靠性分析方法_涂宏茂
基于动态S-S键的自修复抗藻型RTV涂料制备及性能研究
基于动态S-S键的自修复抗藻型RTV涂料制备及性能研究彭磊,李智,付强,林木松,钱艺华,唐念(广东电网有限责任公司电力科学研究院广东省电力设备可靠性重点实验室,广东广州510080)摘要:为解决绝缘子表面藻类附着的问题,本研究制备了一种适用于电力设备外绝缘的自修复抗藻涂料,并对涂料的热力学性能、力学性能、抗藻性能、自修复性能、电气性能等方面进行了测试。
结果表明:频率为50 Hz时,质量分数为0.5%自修复抗藻涂料的抗藻性能、力学性能、介电性能和电气性能最优。
同时,该涂料能自我修复微裂纹,降低矿物盐、苔藓孢子等的附着,抑制苔藓的生长。
关键词:自修复;涂料;抗藻;电力设备中图分类号:TM215 DOI:10.16790/ki.1009-9239.im.2024.03.008Preparation and properties of self-healing algae resistant RTV coatingbased on dynamic S-S bondsPENG Lei, LI Zhi, FU Qiang, LIN Musong, QIAN Yihua, TANG Nian (Guangdong Key Laboratory of Electric Power Equipment Reliability, Electric Power Research Institute ofGuangdong Power Grid Co., Ltd., Guangzhou 510080, China)Abstract: In order to solve the problem of algae adhesion on the insulator surface, a self-healing algae resistant coating suitable for external insulation of power equipment was prepared, and the thermodynamic properties, mechanical properties, algae resistance, self-healing properties, and electrical properties of the coating were tested. The results show that when the frequency is 50 Hz, the algae resistance, mechanical properties, dielectric and electrical properties of the self-healing algae resistant coating with a mass fraction of 0.5% of anti-algae agent are the best. At the same time, the coating can self-heal micro-cracks, reduce the adhesion of mineral salts and moss spores, and inhibit the growth of moss.Key words: self-healing; coating; algae resistant; power equipment0 引言中国南方地区湿润的气候环境非常适宜青苔与霉菌的生长[1]。
基于电化学对汽车用有机防腐蚀涂层的性能评价
范围为30~160弋。采用热重分析法对样品进行热重 分析,测试条件:在氮气的氛围下,升温速率10 P/rniii,升温范围为30〜600弋。采用透反偏光显微镜 对防腐蚀涂层的微晶结构进行分析。 1.3.2耐液体介质浸泡试验
将喷涂好的钢板置于腐蚀介质中,并观察有无起 泡、脱落及生锈等情况。根据GB/T 9274"色漆和清漆 耐液体介质的测定”,选用质量分数为10%的H2SO4和 10% NaOH溶液作为浸泡介质。 1.3.3 湿热试验
采用CHI660E电化学工作站测试极化曲线和交流 阻抗谱,以3.5%NaCl溶液为电解质,甘汞电极为参比 电极,钳电极为对电极,涂膜试片为工作电极。待开路 电位稳定后进行测试,测试条件为:扫描速率10 mV/s, 扫描范围为 1.0x(10-2~105) Hzo
2结果与讨论
2.1高低温稳定性分析 防腐蚀涂层在高温时容易被熔化,低温时容易产
Reddy等⑸以石蜡为原料,加入防流挂剂、增黏剂 及防锈剂等助剂,制备出一种附着力强的防腐蚀涂层; 连玉双⑹以石蜡与合成蜡复配作为基础成膜物质,将 改性剂、增黏剂、防锈剂添加到基础成膜物质中,制备
出汽车底盘防锈涂层。王晓蕾等⑺以氧化蜡为基础物 质,选用复合乳化剂进行乳化,在85-90 °C乳化40 min 后得到性能稳定的乳化蜡乳液,可制备防锈效果良好 的水性涂层;潘良等⑻以水性树脂和聚乙烯蜡为基础 原料,添加消泡剂、流平剂、润湿剂和抗盐雾剂等助剂, 得到快干型的水性防护涂层;张本雷⑼以聚乙烯 、石蜡 和丙烯酸树脂为原料制备了黏性小、性能稳定的纳米 颗粒水基涂料。
表2耐液体介质浸泡试验结果
10%H2S04 浸泡天数--------------------------
Vol.54 No.6 Jun. 2021
D01超材料与多功能复合材料
D01超材料与多功能复合材料D01.超材料与多功能复合材料分会主席:周济、殷小玮、彭华新、李垚、范同祥、范润华D01-01吸波超材料的宽带化、多功能化和智能化官建国,李维,吴天龙武汉理工大学宽带薄层吸波材料对于军事隐身和众多民用领域有重要应用。
但无论是对于传统的吸波涂层材料还是新兴的超材料,其宽带性能都亟需进一步提升。
此外,复杂的应用环境还对吸波材料提出了多功能化、智能化等要求,将超材料与多样化的构成材料进行复合获得宽带化、多功能化和智能化的超材料是重要趋势。
本报告将介绍我们最近在这些方面取得的进展。
在宽带化方面,将超材料的设计与传统高性能吸波材料相结合,能够获得宽带性能远远超过单纯超材料或传统材料的全新复合吸波超材料。
在微波频段,将超材料的概念引入传统吸波材料的设计中,对吸波涂层材料进行图形化,结果显示其吸收带宽获得了大幅拓宽。
也可以将超材料与传统吸波涂层设计成多层复合结构,经过合理的设计能使得超材料的低频吸收性能与吸波涂层的高频宽带吸波性能同时得到保留甚至相互增强,这为超材料与传统吸波材料的结合提供了良好的借鉴。
类似的复合思路同样也能扩展到其它频段,如光频:将在光频段具有半介质/半金属属性的TiN用于设计宽带的光频吸收超材料,能够将介质吸收、表面等离子共振吸收和超材料的结构吸收相结合,得到宽带、可控的吸收频带,可应用于高效太阳能转换。
在多功能方面,利用超材料构成基材的高透光性质,结合有利于高透光和宽带吸收特性的非平面型超材料的设计获得了具有高可见光透过率的宽带吸波超材料。
可调超材料在某些场合可替代宽带吸波材料的作用,并且具有智能化的前景,但基于电路可调的常规调节方法其频率可调范围十分有限。
从基础材料与超材料概念结合的角度出发,利用铁氧体在外磁场作用下的宽带可调特性,结合超材料的设计,我们获得了从工频到GHz范围超宽带可调的超材料。
总之,跨越超材料与传统材料的界限,能够在宽带化、多功能化和智能化以及更多的方面具有更加光明的前景。
g-C3N4
第42卷第10期2023年10月硅㊀酸㊀盐㊀通㊀报BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY Vol.42㊀No.10October,2023g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂降解环境污染物的研究进展柏林洋1,蔡照胜2(1.江苏旅游职业学院,扬州㊀225000;2.盐城工学院化学化工学院,盐城㊀224051)摘要:光催化技术在太阳能资源利用方面呈现出良好的应用前景,已受到世界各国的广泛关注㊂g-C 3N 4是一种二维结构的非金属聚合物型半导体材料,具有合成简单㊁成本低㊁化学性质稳定㊁无毒等特点,在环境修复和能量转化方面应用潜力较大㊂但g-C 3N 4存在对可见光吸收能力差㊁比表面积小和光生载流子复合速率高等缺点,限制了其实际应用㊂构筑异质结光催化剂是提高光催化效率的有效途径之一㊂基于Ag 基材料的特点,前人对g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂进行了大量研究,并取得显著成果㊂本文总结了近年来AgX(X =Cl,Br,I)/g-C 3N 4㊁Ag 3PO 4/g-C 3N 4㊁Ag 2CO 3/g-C 3N 4㊁Ag 3VO 4/g-C 3N 4㊁Ag 2CrO 4/g-C 3N 4㊁Ag 2O /g-C 3N 4和Ag 2MoO 4/g-C 3N 4复合光催化剂降解环境污染物的研究进展,并评述了g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂目前面临的主要挑战,展望了其未来发展趋势㊂关键词:g-C 3N 4;Ag 基材料;二元复合光催化剂;光催化性能;环境污染物中图分类号:TQ426㊀㊀文献标志码:A ㊀㊀文章编号:1001-1625(2023)10-3755-09Research Progress on g-C 3N 4/Ag-Based Binary Composite Photocatalysts for Degradation of Environmental PollutantsBAI Linyang 1,CAI Zhaosheng 2(1.Jiangsu Institute of Tourism,Yangzhou 225000,China;2.School of Chemistry and Chemical Engineering,Yancheng Institute of Technology,Yancheng 224051,China)Abstract :Photocatalysis technology shows a good application prospect in the utilization of solar energy resource and has attracted worldwide attention.g-C 3N 4is a two-dimensional polymeric metal-free semiconductor material with the characteristics of facile synthesis,low cost,high chemical stability and non-toxicity,which has great potential in environmental remediation and energy conversion.However,g-C 3N 4has the drawbacks of poor visible light absorption capacity,low specific surface area and high recombination rate of photogenerated charge carriers,which limits its practical application.Constructing heterojunction photocatalyst has become one of effective pathways for boosting photocatalytic efficiency.Based on the inherent merits of Ag-based materials,a lot of researches have been carried out on g-C 3N 4/Ag-based binary photocatalysts and prominent results have been achieved.Recent advances on AgX (X =Cl,Br,I)/g-C 3N 4,Ag 3PO 4/g-C 3N 4,Ag 2CO 3/g-C 3N 4,Ag 3VO 4/g-C 3N 4,Ag 2CrO 4/g-C 3N 4,Ag 2O /g-C 3N 4and Ag 2MoO 4/g-C 3N 4composite photocatalysts for the degradation of environmental pollutants were summarized.The major challenges of g-C 3N 4/Ag-based binary composite photocatalysts were reviewed and the future development trends were also forecast.Key words :g-C 3N 4;Ag-based material;binary composite photocatalyst;photocatalytic performance;environmental pollutant㊀收稿日期:2023-05-15;修订日期:2023-06-12基金项目:江苏省高等学校自然科学研究面上项目(19KJD530002)作者简介:柏林洋(1967 ),男,博士,副教授㊂主要从事光催化材料方面的研究㊂E-mail:linybai@通信作者:蔡照胜,博士,教授㊂E-mail:jsyc_czs@0㊀引㊀言随着全球经济的快速增长和工业化进程的加快,皮革㊁印染㊁制药和化工等行业排放的环境污染物总量3756㊀陶㊀瓷硅酸盐通报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第42卷也不断增长㊂这些环境污染物存在成分复杂㊁毒性大㊁难以降解等特点,对人们的身体健康和生态环境产生严重威胁,已成为制约经济和社会发展的突出问题㊂如何实现环境污染物的高效降解是目前亟待解决的重要问题㊂效率低㊁能耗高及存在二次污染是利用传统处理方法处置环境污染物的主要缺陷[1]㊂光催化技术作为一种新型的绿色技术,具有环境友好㊁成本低㊁反应效率高和无二次污染等优点,在解决环境污染问题方面具有很大的发展潜力,深受人们的关注[2-4]㊂g-C3N4属于一种非金属聚合物型半导体材料,具有二维分子结构,即C原子和N原子通过sp2杂化形成的共轭石墨烯平面结构,具有适宜的禁带宽度(2.7eV)和对460nm以下可见光良好的响应能力㊂g-C3N4具有合成原料成本低㊁制备工艺简单㊁耐酸耐碱和稳定性好等特点,在催化[5]㊁生物[6]和材料[7]等领域应用广泛㊂然而,g-C3N4较小的比表面积㊁较弱的可见光吸收能力和较快的光生载流子复合率等不足导致其光量子利用率不高,给实际应用带来较大困难[8]㊂为了克服上述问题,前人提出了对g-C3N4进行形貌调控[9]㊁元素掺杂[10-11]和与其他半导体耦合[12-13]等方法㊂其中,将g-C3N4与其他半导体耦合形成异质结光催化剂最为常见㊂Ag基半导体材料因具有成本合理㊁光电性能好和光催化活性高等特点而深受青睐,但仍存在光生载流子快速复合和光腐蚀等缺陷㊂近年来,人们将Ag基材料与g-C3N4进行复合,整体提高了复合光催化剂的催化性能,并由此取得了大量极有价值的科研成果㊂本文综述了近年来g-C3N4/Ag银基二元复合光催化剂的制备方法㊁性能和应用等方面的研究现状,同时展望了未来的发展趋势,期望能为该领域的研究人员提供新的思路㊂1㊀g-C3N4/Ag基二元复合光催化剂近年来,基于Ag基半导体材料能与g-C3N4能带结构匹配的特点,构筑g-C3N4/Ag基异质结型复合光催化体系已成为国内外的研究热点㊂这类催化剂通常采用沉淀法在g-C3N4表面负载Ag基半导体材料㊂其中,Ag基体的成核和生长是关键问题㊂通过对Ag基材料成核和生长工艺的控制,实现了Ag基材料在g-C3N4上的均匀分布㊂此外,通过对g-C3N4微观结构进行调控,使其具有较大的比表面积和较高的结晶度,从而进一步提高复合光催化剂的催化性能㊂相对于纯g-C3N4和Ag基光催化剂,g-C3N4/Ag基二元复合光催化剂通过两组分的协同效应和界面作用,不仅能提高对可见光的吸收利用率,而且能有效抑制g-C3N4和Ag基材料中光生e-/h+对的重组,从而提高复合光催化剂的活性和稳定性㊂在g-C3N4/Ag基二元复合光催化材料中,以AgX(X=Cl,Br,I)/g-C3N4㊁Ag3PO4/g-C3N4㊁Ag2CO3/g-C3N4㊁Ag3VO4/g-C3N4㊁Ag2CrO4/g-C3N4㊁Ag2O/g-C3N4和Ag2MoO4/g-C3N4为典型代表㊂1.1㊀AgX(X=Cl,Br,I)/g-C3N4二元复合光催化剂AgX(X=Cl,Br,I)在杀菌㊁有机污染物降解和光催化水解产氢等方面展现出优异的性能㊂但AgX (X=Cl,Br,I)是一种光敏材料,在可见光下容易发生分解,形成Ag0,从而影响其催化活性及稳定性㊂将AgX(X=Cl,Br,I)与g-C3N4复合是提升AgX(X=Cl,Br,I)使用寿命㊁改善光催化性能最有效的方法之一㊂Li等[14]采用硬模板法制备出一种具有空心和多孔结构的高比表面积g-C3N4纳米球,并以其为载体,通过沉积-沉淀法得到AgBr/g-C3N4光催化材料㊂XRD分析显示AgBr的加入并没有改变g-C3N4的晶体结构,瞬态光电流试验表明AgBr/g-C3N4光电流密度高于g-C3N4,橙黄G(OG)染料经10min可见光照射后的降解率达到97%㊂Shi等[15]报道了利用沉淀回流法制备AgCl/g-C3N4光催化剂,研究了AgCl的量对催化剂结构及光催化降解草酸性能的影响,确定了最佳修饰量,分析了催化剂用量㊁草酸起始浓度㊁酸度和其他有机成分对光催化活性影响,通过自由基捕获试验揭示了光降解反应中起主要作用的活性物质为光生电子(e-)㊁羟基自由基(㊃OH)㊁超氧自由基(㊃O-2)和空穴(h+)㊂彭慧等[16]采用化学沉淀法制备具有不同含量AgI的AgI/g-C3N4光催化剂,SEM测试表明AgI纳米颗粒分布在层状结构g-C3N4薄片的表面,为催化反应提供了更多的活性位㊂该系列催化剂应用于光催化氧化降解孔雀石绿(melachite green,MG)的结果显示,AgI/g-C3N4(20%,质量分数,下同)的光催化性能最好,MG经2h可见光辐照后去除率达到99.8%㊂部分AgX(X=Cl,Br,I)/g-C3N4二元复合光催化剂的研究现状如表1所示㊂第10期柏林洋等:g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂降解环境污染物的研究进展3757㊀表1㊀AgX (X =Cl ,Br ,I )/g-C 3N 4二元复合光催化剂光降解环境污染物的研究现状Table 1㊀Research status of AgX (X =Cl ,Br ,I )/g-C 3N 4binary composite photocatalysts forphotodegradation of enviromental pollutantsPhotocatalytst Synthesis method TypePotential application Photocatalytic activity Reference AgBr /g-C 3N 4Sonication-assisted deposition-precipitation II-schemeDegradation of RhB,MB and MO 100%degradation for RhB,95%degradation for MB and 90%degradation for MO in 10min [17]AgCl /g-C 3N 4Precipitation Z-schemeDegradation of RhB and TC 96.1%degradation for RhB and 77.8%degradation for TC in 120min [18]AgCl /g-C 3N 4Solvothermal +in situ ultrasonic precipitation Z-scheme Degradation of RhB 92.2%degradation in 80min [19]AgBr /g-C 3N 4Deposition-precipitation II-schemeDegradation of MO 90%degradation in 30min [20]AgI /g-C 3N 4In-situ growth II-scheme Degradation of RhB 100%degradation in 60min [21]㊀㊀Note:MO-methyl orange,RhB-rhodamine B,TC-tetracycline hydrochloride,MB-methyl blue.1.2㊀Ag 3PO 4/g-C 3N 4二元复合光催化剂纳米Ag 3PO 4禁带宽度为2.5eV 左右,对可见光有很好的吸收作用,且光激发后具有很强的氧化性,在污染物降解和光解水制氢等领域有良好的应用前景[22]㊂但是,纳米Ag 3PO 4易团聚,光生载流子的快速重组使光催化活性大大降低,此外,Ag 3PO 4还易受光生e -的腐蚀,从而影响稳定性㊂Ag 3PO 4与g-C 3N 4复合可显著降低e -/h +对的重组,有效提高光催化性能㊂Wang 等[23]采用原位沉淀法获得Z-型异质结构g-C 3N 4/Ag 3PO 4复合光催化剂,并有效地提高了e -/h +对的分离效率㊂TEM 结果显示,Ag 3PO 4粒子被g-C 3N 4纳米片所覆盖,UV-DRS 结果表明,Ag 3PO 4的添加使g-C 3N 4吸收边发生红移,且吸收光强度显著增强,光降解实验结果显示,30%g-C 3N 4/Ag 3PO 4光催化剂在40min 内能去除约90%的RhB㊂胡俊俊等[24]利用了原位沉淀法合成了一系列Ag 3PO 4/g-C 3N 4复合光催化剂,研究了Ag 3PO 4和g-C 3N 4的物质的量比对催化剂在可见光下催化降解MB 性能的影响,发现在最优组分下,MB 经可见光辐照30min 后可以被完全降解㊂Mei 等[25]采用焙烧-沉淀法制备了一系列Ag 3PO 4/g-C 3N 4复合光催化剂,并用于可见光条件下降解双酚A(bisphenol A,BPA),发现Ag 3PO 4质量分数为25%时,光催化降解BPA 的性能最好,3h 能降解92.8%的BPA㊂潘良峰等[26]采用化学沉淀法制备出一种具有空心管状的Ag 3PO 4/g-C 3N 4光催化剂,SEM 结果表明,Ag 3PO 4颗粒均匀分布于空心管状结构g-C 3N 4的表面,两者形成一个较强异质结构,将其用于盐酸四环素(tetracycline hydrochloride,TC)光催化降解,80min 能降解98%的TC㊂Deonikar 等[27]研究了采用原位湿化学法合成催化剂过程中使用不同溶剂(去离子水㊁四氢呋喃和乙二醇)对Ag 3PO 4/g-C 3N 4的结构和光降解MB㊁RhB 及4-硝基苯酚性能的影响,发现不同溶剂对复合光催化剂的形貌有着重要影响,从而影响光催化性能,其中以四氢呋喃合成的复合光催化剂的催化降解性能最佳,这是由于g-C 3N 4纳米片均匀包裹在Ag 3PO 4的表面,从而促使两者界面形成较为密切的相互作用,有利于e -/h +对的分离㊂部分Ag 3PO 4/g-C 3N 4二元复合光催化剂的研究进展见表2㊂表2㊀Ag 3PO 4/g-C 3N 4二元复合光催化剂光降解环境污染物的研究现状Table 2㊀Research status of Ag 3PO 4/g-C 3N 4binary composite photocatalysts for photodegradation of environmental pollutantsPhotocatalyst Synthesis method Type Potential application Photocatalytic activity Reference g-C 3N 4/Ag 3PO 4In situ precipitation Z-scheme Degradation of BPA 100%degradation in 180min [28]g-C 3N 4/Ag 3PO 4Hydrothermal Z-schemeDecolorization of MB Almost 93.2%degradation in 25min [29]g-C 3N 4/Ag 3PO 4In situ prepcipitation II-scheme Reduction of Cr(VI)94.1%Cr(VI)removal efficiency in 120min [30]g-C 3N 4/Ag 3PO 4Chemical precipitation Z-scheme Degradation of RhB 90%degradation in 40min [31]g-C 3N 4/Ag 3PO 4In situ precipitation Z-scheme Degradation of levofloxacin 90.3%degradation in 30min [32]Ag 3PO 4/g-C 3N 4Chemical precipitation Z-schemeDegradation of gaseous toluene 87.52%removal in 100min [33]Ag 3PO 4/g-C 3N 4Calcination +precipitation Z-scheme Degradation of diclofenac (DCF)100%degradation in 12min [34]Ag 3PO 4/g-C 3N 4In situ deposition Z-scheme Degradation of RhB and phenol 99.4%degradation in 9min for RhB;97.3%degradation in 30min for phenol [35]3758㊀陶㊀瓷硅酸盐通报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第42卷续表Photocatalyst Synthesis method Type Potential application Photocatalytic activity Reference Ag3PO4/g-C3N4In situ hydrothermal II-scheme Degradation of sulfapyridine(SP)94.1%degradation in120min[36] Ag3PO4/g-C3N4In situ growth Z-scheme Degradation of berberine100%degradation in15min[37] g-C3N4/Ag3PO4In situ deposition Z-scheme Degradation of ofloxacin71.9%degradation in10min[38] Ag3PO4/g-C3N4Co-precipitation Z-scheme Degradation of MO98%degradation in10min[39]g-C3N4/Ag3PO4Calcination+precipitation Z-scheme Degradation of MO,RhB and TC95%degradation for MO in30min;[40]96%degradation for RhB in15min;80%degradation for TC in30min1.3㊀Ag2CO3/g-C3N4二元复合光催化剂Ag4d轨道和O2p轨道杂化,形成Ag2CO3的价带(valence band,VB);Ag5s轨道和Ag4d轨道进行杂化,形成Ag2CO3导带(conduction band,CB),而CB中原子轨道杂化会降低Ag2CO3带隙能,从而提高光催化活性[41]㊂纳米Ag2CO3带隙能约为2.5eV,可见光响应性好,在可见光作用下表现出良好的光催化降解有机污染物特性[42-43]㊂然而,经长时间光照后,Ag2CO3晶粒中Ag+会被光生e-还原成Ag0,导致其光腐蚀,引起光催化性能下降[44]㊂Ag2CO3与g-C3N4耦合,能够有效地抑制光腐蚀,促进e-/h+对的分离,进而改善光催化性能㊂An等[45]通过构筑Z型核壳结构的Ag2CO3@g-C3N4材料来增强Ag2CO3和g-C3N4界面间的相互作用,从而有效防止光腐蚀发生,加速光生e-/h+对的分离,实现了催化剂在可见光辐照下高效降解MO㊂Yin等[46]通过水热法制备Ag2CO3/g-C3N4光催化剂,探讨了g-C3N4的含量㊁合成温度对催化剂结构和光降解草酸(oxalic acid,OA)性能的影响,获得最优条件下合成的催化剂能在45min光照时间内使OA去除率达到99.99%㊂Pan等[41]采用煅烧和化学沉淀两步法,制备了一系列Ag2CO3/g-C3N4光催化剂,TEM结果显示,Ag2CO3纳米粒子均匀分布在g-C3N4纳米片表面,且形貌规整㊁粒径均一,光催化性能测试结果表明,60% Ag2CO3/g-C3N4光催化活性最高,MO和MB分别经120和240min可见光光照后,其降解率分别为93.5%和62.8%㊂Xiu等[47]使用原位水热法构筑了Ag2CO3/g-C3N4光催化剂,光降解试验结果表明,MO经可见光辐照1h的去除率为87%㊂1.4㊀Ag3VO4/g-C3N4二元复合光催化剂纳米Ag3VO4带隙能约为2.2eV,可用于催化可见光降解环境污染物,是一种具有应用前景的新型半导体材料㊂然而,如何提高Ag3VO4光催化性能,仍然是学者研究的重点㊂构建Ag3VO4/g-C3N4异质结催化剂是提高Ag3VO4的催化性能的一种有效方法㊂该方法能够降低Ag3VO4光生载流子的复合率,拓宽可见光的吸收范围㊂Hind等[48]通过溶胶凝胶法制备出一种具有介孔结构的Ag3VO4/g-C3N4复合光催化剂,该复合催化剂经60min可见光照射能将Hg(II)全部还原,其光催化活性分别是Ag3VO4和g-C3N4的4.3倍和5.4倍,主要是由于异质结界面处各组分间紧密结合以及催化剂具有较高的比表面积和体积比,从而促进光生载流子的分离㊂蒋善庆等[49]利用化学沉淀法制备了系列Ag3VO4/g-C3N4催化剂,催化性能研究结果表明,Ag3VO4负载量为20%(质量分数)时,其光催化降解微囊藻毒素的效果最好,可见光辐照100min后降解率为85.43%,而g-C3N4在相同条件下的降解率仅为18.76%㊂1.5㊀Ag2CrO4/g-C3N4二元复合光催化剂纳米Ag2CrO4具有特殊的晶格和能带结构,其带隙能为1.8eV,可见光响应良好,是一种非常理想的可见光区半导体材料㊂然而,Ag2CrO4存在自身的电子结构和晶体的缺陷,导致其光催化效率性能较差,严重影响了实际应用[50-52]㊂将Ag2CrO4与g-C3N4复合形成异质结光催化剂是提高其光催化效率和稳定性的一种有效途径,因为Ag2CrO4在光照下产生的光生e-快速地迁移到g-C3N4表面,可避免光生e-在Ag2CrO4表面聚集而引起光腐蚀㊂Ren等[53]利用SiO2为硬模板,以氰胺为原料,合成出具有中空介孔结构的g-C3N4,再通过化学沉淀法制备了系列g-C3N4/Ag2CrO4光催化剂,并将其用于RhB和TC的可见光降解,研究发现g-C3N4/Ag2CrO4催化剂具有较高比表面积和丰富的孔道结构,在可见光辐射下表现出较高的光催化活性㊂Rajalakshmi等[54]利用水热方法合成了一系列Ag2CrO4/g-C3N4光催化剂,并将其用于对硝基苯酚的光催化降解,结果表明,Ag2CrO4质量分数为10%时,其降解率达到97%,高于单组分g-C3N4或Ag2CrO4,原因是与第10期柏林洋等:g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂降解环境污染物的研究进展3759㊀Ag 2CrO 4和g-C 3N 4界面间形成了S-型异质结,能提高e -/h +对的分离效率㊂1.6㊀Ag 2O /g-C 3N 4二元复合光催化剂纳米Ag 2O 是一种理想的可见光半导体材料,在受到光辐照后,其电子发生跃迁,CB 上光生e -能够将Ag 2O 晶粒中Ag +还原成Ag 0,而VB 上h +能够使Ag 2O 的晶格氧氧化为O 2,导致其结构不稳定㊂然而,纳米Ag 2O 在有机物污染物降解方面表现出良好的稳定性[55],这是因为Ag 2O 的表面会随着光化学反应的进行被一定数量的Ag 0纳米粒子所覆盖,而Ag 0纳米粒子作为光生e -陷阱,能够降低e -在Ag 2O 表面的富集,同时,由于光生h +具有较强的氧化性能力,既能实现对有机污染物的直接氧化,又能避免其对晶格氧的氧化,从而提高了纳米Ag 2O 光催化活性和稳定性㊂Liang 等[56]在常温下采用简易化学沉淀法制备了p-n 结Ag 2O /g-C 3N 4复合光催化剂,研究发现,起分散作用的g-C 3N 4为Ag 2O 纳米颗粒的生长提供了大量成核位点并限制了Ag 2O 纳米颗粒聚集,p-n 结的形成以及在光化学反应过程中生成的Ag 纳米粒子,加速了光生载流子的分离和迁移,拓宽了光的吸收范围,在可见光和红外光照下降解RhB 溶液过程中表现出良好的催化活性,其在可见光和红外光照下反应速率分别是g-C 3N 4的26倍和343倍㊂Jiang 等[57]通过液相法制备了一系列介孔结构的g-C 3N 4/Ag 2O 光催化剂,试验结果表明,Ag 2O 的添加显著提高了g-C 3N 4/Ag 2O 光催化剂的吸光性能和比表面积,因此对光催化性能的提升有促进作用,当Ag 2O 含量为50%时,光催化分解MB 的效果最好,经120min 可见光光照后,MB 的脱除率达到90.8%,高于g-C 3N 4和Ag 2O㊂Kadi 等[58]以Pluronic 31R 1表面活性剂为软模板,以MCM-41为硬模板,合成出具有多孔结构的Ag 2O /g-C 3N 4光催化剂,TEM 结果显示,球形Ag 2O 的纳米颗粒均匀地分布于g-C 3N 4的表面,催化性能评价表明0.9%Ag 2O /g-C 3N 4复合光催化剂光催化效果最佳,60min 能完全氧化降解环丙沙星,其降解效率分别是Ag 2O 和g-C 3N 4的4倍和10倍㊂1.7㊀Ag 2MoO 4/g-C 3N 4二元复合光催化剂Ag 2MoO 4具有良好的导电性㊁抗菌性㊁环保性,以及优良的光催化活性,在荧光材料㊁导电玻璃㊁杀菌剂和催化剂等方面有着广阔的应用前景[59]㊂但Ag 2MoO 4带隙大(3.1eV),仅能对紫外波段光进行响应,限制了其对太阳光的利用㊂当Ag 2MoO 4与g-C 3N 4进行耦合时,可以将其对太阳光的吸收范围由紫外拓展到可见光区,从而提高太阳光的利用率㊂Pandiri 等[60]通过水热合成的方法,制备出β-Ag 2MoO 4/g-C 3N 4异质结光催化剂,SEM 结果显示该催化剂中β-Ag 2MoO 4纳米颗粒均匀地分布在g-C 3N 4纳米片的表面,光催化性能测试结果表明在3h 的可见光照射下,其降解能力是β-Ag 2MoO 4和g-C 3N 4机械混合物的2.6倍,主要原因在于β-Ag 2MoO 4和g-C 3N 4两者界面间形成更为紧密的异质结,使得e -/h +对被快速分离㊂Wu 等[61]采用简单的原位沉淀方法成功构建了Ag 2MoO 4/g-C 3N 4光催化剂,并将其应用于MO㊁BPA 和阿昔洛韦的降解,结果表明该催化剂显示出良好的太阳光催化活性,这主要是因为Ag 2MoO 4和g-C 3N 4界面间存在着一定的协同效应,可有效地提高对太阳光的利用率,降低载流子的复合概率㊂2㊀g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂电荷转移机理模型研究g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂在可见光的辐照下,价带电子发生跃迁,产生e -/h +对㊂e -被催化剂表面吸附的O 2捕获产生㊃O -2,并进一步与水反应生成㊃OH,形成的三种活性自由基(h +㊁㊃O -2和㊃OH),实现水中有机污染物的高效降解(见图1)㊂而光催化反应机理与载流子的迁移机制密切相关㊂目前,g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂体系中主要存在三种不同的光生载流子的转移机制,分别为I 型㊁II 型和Z 型㊂图1㊀g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂降解有机污染物的光催化反应机理Fig.1㊀Photocatalytic reaction mechanism of g-C 3N 4/Ag-based binary composite photocatalyst for degradation of organic pollutants3760㊀陶㊀瓷硅酸盐通报㊀㊀㊀㊀㊀㊀第42卷2.1㊀I 型异质结载流子转移机理模型图2(a)为I 型异质结构中的光生e -/h +对转移示意图㊂半导体A 和半导体B 均对可见光有响应,其中,半导体A 的带隙较宽,半导体B 的带隙较窄,并且半导体B 的VB 和CB 均位于半导体A 之间,在可见光的照射下,e -发生跃迁,从CB 到VB,半导体A 的CB 上的e -和VB 上的h +分别向半导体B 的CB 和VB 转移,从而实现了e -/h +对的分离㊂以Ag 2O /g-C 3N 4复合催化剂为例[58],当Ag 2O 和g-C 3N 4相耦合时,因为g-C 3N 4的VB 具有更正的电势,h +被转移到Ag 2O 的VB 上,同时,光激发e -在g-C 3N 4的CB 上,其电势较负,e -便传输到Ag 2O 的CB 上,CB 上e -与O 2结合形成㊃O -2,并进一步与H +结合生成了㊃OH,而有机物污染物被Ag 2O 的价带上h +氧化分解生成CO 2和H 2O㊂2.2㊀II 型异质结载流子转移机理模型II 型异质结是一种能级交错带隙型结构,如图2(b)所示,其中半导体A 的CB 电位较负,在可见光照射下,e -从CB 上转移到半导体B 的CB 上,h +从半导体B 的VB 转移到半导体A 的VB 上,从而使e -/h +对得以分离㊂以Ag 3PO 4@g-C 3N 4为例[62],由于g-C 3N 4的CB 的电势较Ag 3PO 4低,光生e -从g-C 3N 4迁移到Ag 3PO 4的CB 上,而Ag 3PO 4的CB 电势较g-C 3N 4高,h +从Ag 3PO 4的VB 迁移到g-C 3N 4的VB 上,从而实现e -/h +对的分离,g-C 3N 4表面的h +可直接氧化降解MB,而Ag 3PO 4表面积聚的电子又会被氧捕获,产生H 2O 2,并进一步分解成㊃OH,从而加快MB 的降解㊂上述I 型和II 型结构CB 的氧化能力和VB 还原能力低于单一组分,造成复合半导体的氧化还原能力降低[63]㊂2.3㊀Z 型异质结载流子转移机理模型构建Z 型异质结光光催化剂使得e -和h +沿着特有的方向迁移,有效解决复合催化剂氧化还原能力降低问题[64]㊂Z 型异质结催化剂e -/h +对的迁移方向如图2(c)所示,e -从半导体B 的电势较高的CB 转移到半导体A 的电势较低的VB 进行复合,从而实现半导体A 的e -和半导体B 的h +发生分离㊂h +在半导体B 表面氧化性能更强,在半导体A 上e -具有较高还原特性,两者共同作用使环境污染物得以顺利降解㊂为了更好地解释Z 型异质结h +和e -迁移机理,以Ag 3VO 4/g-C 3N 4复合光催化剂为例[48],复合光催化剂经可见光激发后,Ag 3VO 4和g-C 3N 4都发生了e -跃迁,在Ag 3VO 4的CB 上e -与g-C 3N 4的VB 上h +进行复合时,e -对Ag 3VO 4的腐蚀作用被削弱,同时,也实现了g-C 3N 4的CB 上e -和Ag 3PO 4的价带上h +发生分离,g-C 3N 4的CB 上e -具有较强的还原性,将Hg 2+还原成Hg 0,而Ag 3PO 4的VB 上h +具有较强的氧化性,可将HOOH氧化生成CO 2和H 2O㊂图2㊀电子-空穴对转移机理示意图Fig.2㊀Schematic diagrams of electron-hole pairs transfer mechanism 3㊀结语和展望g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂因其较强的可见光响应和优异的光催化性能,在环境污染物的降解方面具有广阔的发展空间㊂近年来,国内外研究人员在理论研究㊁制备方法和光催化性能等多个领域取得了重要进展,为光催化理论的发展奠定了坚实的基础㊂然而,g-C 3N 4/Ag 基二元复合光催化剂在实际应用中还面临诸多问题,如制备工艺复杂㊁光腐蚀㊁光催化剂回收利用困难㊁光催化降解污染物的反应机理尚不明确等,第10期柏林洋等:g-C3N4/Ag基二元复合光催化剂降解环境污染物的研究进展3761㊀现有的光催化降解模型仍有较大的分歧,亟待深入研究㊂为了获得性能优良的g-C3N4/Ag基复合光催化剂,实现产业化应用,应进行以下几方面的研究:1)在g-C3N4/Ag基二元光催化剂的基础上,构建多元复合光催化剂,是进一步提升光生载流子分离效率的有效㊁可靠手段,也是当今和今后光催化剂的研究重点㊂2)对g-C3N4/Ag基二元光催化剂体系中e-/h+对的转移㊁分离和复合等过程进行系统研究,并阐明其光催化反应机制㊂3)针对当前合成的g-C3N4材料多为体相,存在着颗粒大㊁比表面积小㊁活性位少等缺陷,应通过对g-C3N4材料的形状㊁形貌及尺寸的调控,来实现Ag 基材料在g-C3N4材料表面的均匀分布,降低e-/h+对的重组概率,从而大幅度提高复合光催化剂的性能㊂4)Ag基材料的光腐蚀是导致光催化活性和稳定性下降的重要因素,探索一种更为有效的光腐蚀抑制机制,是将其推广应用的关键㊂5)当前合成的g-C3N4/Ag基二元复合光催化剂多为粉末状,存在着易团聚㊁难回收等问题,从而限制了其循环利用㊂因此,需要开展g-C3N4/Ag基二元复合光催化剂回收和再利用的研究,这将有利于社会效益和经济效益的提高㊂参考文献[1]㊀LIN Z S,DONG C C,MU W,et al.Degradation of Rhodamine B in the photocatalytic reactor containing TiO2nanotube arrays coupled withnanobubbles[J].Advanced Sensor and Energy Materials,2023,2(2):100054.[2]㊀DIAO Z H,JIN J C,ZOU M Y,et al.Simultaneous degradation of amoxicillin and norfloxacin by TiO2@nZVI composites coupling withpersulfate:synergistic effect,products and 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半导体器件可靠性与失效分析微电子ppt课件
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理论教学内容
1.元器件概述(1) 2.元器件制造工艺与缺陷(1) 3.微电子封装技术与失效(1) 4.可靠性试验与评价技术(3) 5.使用可靠性设计(2) 6.元器件的降额设计与热设计(4) 7.静电放电损伤及防护(2) 8.可靠性筛选(2) 9.破坏性物理分析与失效分析(6) 10.失效分析案例(4)
接触不良2021精选ppt29半圆弧夹片明显偏离孔学东恩云飞主编的电2021精选ppt30插孔周边绝缘介质有较深的插痕2021精选ppt31偏离的半圆夹片根部有裂纹2021精选ppt32半圆片裂纹断面孔学东恩云飞主编的电2021精选ppt33蠕变材料在长时间恒温恒压下即使应力没有达到屈服强度也会慢慢产生塑性变形的现象2021精选ppt34蠕变导致焊点断裂2021精选ppt35脆性断裂当应力超过某一值时陶瓷玻璃和硅等脆性材料易发生脆性断裂
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实验教学内容
名称:集成压电类器件的破坏性物理分析 学时:4学时 实验性质:综合性实验 元器件:选择包括有电阻电容等元件、集成电路等 器件及其连接的较复杂、综合性强的集成类压电器 件,例如(有源)压电蜂鸣器进行分析。
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第一章 元器件概述 1.1 元器件的定义与分类 定义:
欧洲空间局ESA标准中的定义: 完成某一电子、电气和机电功能,并由一个或几
个部分构成而且一般不能被分解或不会破坏的某个 装置。
GJB4027-2000《军用电子元器件破坏性物理分析方 法》中的定义:
在电子线路或电子设备中执行电气、电子、电磁、 机电或光电功能的基本单元,该基本单元可由一个 或多个零件组成,通常不破坏是不能将其分解的。
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分类:两大类 元件:在工厂生产加工时不改变分子成分的 成品,本身不产生电子,对电压、电流无控 制和变换作用。 器件:在工厂生产加工时改变了分子结构的 成品,本身能产生电子,对电压电流的控制、 变换(放大、开关、整流、检波、振荡和调制 等),也称电子器件。
可靠性分析的改进加权响应面法
weg tt h x e i n a on sco e o t em o tp o a l al r on M PF . Nu rc l i h o t e e p rme t lp i t ls rt h s r b b ef i e p i t( u P) me ia
e a ls a e p e e t d t e n ta e t e i p o e c u a y a d c mp t to a fi in y o h x mp e r r s n e o d mo s r t h m r v d a c r c n o u a i n le f e c ft e c
响 应面 函数. 过几 个算例 表 明 : 通 比较 双加 权响 应 面方法 , 此方 法具有 更 高的 准确 性和 计算 效率.
关键 词 : 结构 可靠度 ; 响应 面 法 ; 响应 面 函数 ; 权 回归 加 中图分 类号 : TU3 1 4 1 . 文献标 志码 : A 文章 编 号 :0 64 0 (0 2 0 — 1 60 1 0 -3 3 2 1 ) 10 0 —5
a d n n e e p rme t lp i t t h r v o s s t o x e i e t lp i t n i i g h g e d i g o e n w x e i n a o n o t e p e i u e f e p r n a o n s a d g v n i h r m
An i pr v d r s n e s r a e m e h d b s d o m o e e po s u f c t o a e n we g e e r s i n f r r la iiy a l ss i ht d r g e s o o e i b lt na y i
低能质子在半导体材料Si和GaAs中的非电离能损研究
低能质子在半导体材料Si 和GaAs中的非电离能损研究*唐欣欣1)2)罗文芸1)†王朝壮1)2)贺新福2)3)查元梓1)樊胜3)黄小龙3)王传珊1)1)(上海大学射线应用研究所,上海201800)2)(上海大学,理学院,上海200444 )3)(中国原子能科学研究院,北京102413)非电离能损(NIEL)引起的位移损伤是导致空间辐射环境中新型光电器件失效的主要因素。
由于低能时库仑相互作用占主导地位,一般采用Mott-Rutherford微分散射截面,但它没考虑核外电子库仑屏蔽的影响。
为此,本文采用解析法和基于Monte-Carlo方法的SRIM程序计算了考虑库仑屏蔽效应后低能质子在半导体材料Si、GaAs中的NIEL,SRIM程序在计算过程中采用薄靶近似法, 并与其他作者的计算数据和实验数据进行了比较。
结果表明:用SRIM 程序计算NIEL时采用薄靶近似法处理是比较合理的,同时考虑库仑屏蔽效应后的NIEL较没考虑前要小,这在航天设计中有着重要的意义。
关键词:低能质子,非电离能损,硅,砷化镓PACC: 8760P,2540C1.引言应用于卫星或空间飞行器的电子器件和光电器件在长时间受到空间辐射后,性能逐渐降低或失灵,严重时可能导致整个电子学系统瘫痪[1]。
辐射效应包括总剂量效应、单粒子效应和位移损伤效应。
其中非电离能损(NIEL)引起的位移损伤是导致空间辐射环境中新型光电器件失效的主要因素[2]。
传统的研究只注重不同辐射条件下电离辐射对器件的影响[3,4],这主要是MOS器件是一种表面器件,对电离辐射比较敏感,再加上非电离能损所占的比重很少(<1%)[5]。
随着新型光电器件(如LED、CCD等)的应用,非电离能损(NIEL)研究的重要性也日渐突出。
NIEL是指粒子与材料相互作用时,造成原子位移所对应的部分能量损失。
在预测位移损伤引起的参数衰变时,通常只需要考虑损伤过程的第一步,即入射粒子及其产生的次级粒子在半导体中的非电离能量沉积就行了。
基于响应面和蒙特卡罗法结构位移可靠度
n
∏ 变量时,有 f ( X ) = f (x1 , x2 ,", xn ) = f (xi ) ; i =1
G( X ) 是一组结构的极限状态函数,当 G( X ) < 0 ,
结构发生破坏,反之,结构处于安全; Df 是与 G( X ) 相对应的失效区域;Φ (⋅) 为标准正态分布的
式近似的功能函数.从而确定结构极限状态方程;
④ 由 JC 法求解验算点 P*(k ) 及可靠指标 β (k ) ;
⑤ 计算 β (k ) − β (k −1) <给定精度。如条件满
足则计算失效概率 pf = Φ (−β (k) ) ,输出 pf 及 β
结束;如条件不满足,则通过插值得到新的展开点:
P(k) M
累积概率函数。 用蒙特卡罗法计算结构的可靠度时,式(1)
可写为
∑ Pˆf
=
1 N
N
I[G(Xˆ i )]
i =1
(3)
N 为抽样模拟总数;当 G( Xˆ i ) < 0 时,
I[ = 0 。式(3)的抽样方差为
σˆ 2
=
1 N
pˆ f
(1 −
构最不利点水平位移的概率分布情况。计算结果表明:这几种方法计算结构的失效概率与文献[5]结果接近,但蒙
特卡罗法的计算工作量大、时间最长,响应面法的计算时间最短。响应面—蒙特卡罗法、响应面—重要抽样蒙特
卡罗法在较少样本的情况下可以达到较高的精度要求,且计算效率较高。本文基于 MATLAB 编制的可靠度模拟
进行可靠度分析,求解验算点和可靠指标。用二次 多项式不含交叉项表示响应面函数的形式为[3-9],
∑ ∑ Z = G ( X1, X 2 ,", X n ) = a + n bi Xi + n ci Xi2 (5)
半导体集成电路可靠性测试及数据处理
Y 95371.1
different fitting methods Based on the basic LSE assumptions,the widely used method for data fitting,we propose to use suitable fitting method based on the error properties ofthe variables. 2
makes it a good opportunity for IC reliability researches in mainland China.This
paper studies wafer level reliability(WLR)tests and data analysis methods for
寿命分布的参数估计是基本的可靠性数据处理方法,我们回顾并讨论了可靠
性寿命分布参数估计的各种常用方法。最佳线性无偏估计以次序统计量理论以及 高斯-马尔可夫定理为出发点,是一种高精度且有效的可靠性寿命分布参数估计 方法。然而,它只能应用于样本总数比较小的场合并且不能应用于I型截尾数据。
极大似然估计法是另一种具有良好性质的参数估计方法。我们通过对各种参数估
半导体集成电路的晶圆级可靠性的主要测试项目包括MOS器件的热载流子 注入测试、栅氧化层完整性测试以及余属互连线的电迁移测试。有效的测试与可 靠的数据分析是可靠性测试成功的关键。注意到热载流子测试的主要时阳J是在电 应力加压阶段,我们提出了“并行加压、串行量测”的方法以解决MOS器件热 载流子测试时间过长问题。而运用带“保险丝”的测试结构,我们可以有效的防 止栅氧化层测试过程中,在栅氧击穿时瞬问大电流造成测试结构余属连线烧毁的 问题。针对JEDEC标准给出的两种计算电迁移测试中参数估计的方法,我们讨 论并澄清了这两种计算方法的差异,并给出了基于T50的更好的计算方法。双 应力加速测试常常被运用在晶圆级可靠性加速寿命试验中,我们以电迁移双应力 加速测试为研究对象,讨论如何进行适当的实验条件组合,达到较好的参数及『F 常应力下的寿命估计。最d,-乘估计被广泛的应用于试验数据的拟合,我们以热 载流子的测试数据分析为例讨论了最小二乘拟合中不同的拟合方式造成数据外 推的偏差问题,并基于最小二乘法的基本假设,建议根据变量的误差特性选择恰 当的拟合方式。
半导体器件失效机制与可靠性分析研究
半导体器件失效机制与可靠性分析研究引言半导体器件(简称芯片)广泛应用于各种电子设备中,其可靠性对设备的正常运行至关重要。
然而,事实上,芯片失效是常见的现象,会给设备和系统带来不可预估的损失。
因此,芯片的可靠性分析和失效机制研究是极为必要的。
本文将详细探讨芯片失效机制及可靠性分析方法。
一、芯片失效机制1. 电迁移效应电迁移(Electromigration,简称EM)是指电子在导体中发生漂移的过程。
当电子在导体中移动时,它们将数量有限的金属原子拖着向一个方向移动,形成金属原子的“空洞区域”和“电子密集区域”。
这种移动会给导体带来功耗损失,同时会导致导体紧张而失效。
2. 热膨胀效应随着芯片的尺寸不断减小,局部金属结构不断复杂化,使得芯片内各部分承受的热应力越来越大。
当芯片内某个局部的温度变化较大时,局部产生的热膨胀效应可能会导致芯片的破坏。
3. 硅氧化物断裂芯片上的金属线和晶体管等电路元件与硅质基板通过氧化物颗粒绝缘层进行电隔离。
当硅氧化物层长时间受电场和热应力的影响,就可能出现氧化物层内部的应力积累和局部氧化,导致氧化物层崩裂,从而破坏整个芯片的结构和电性能。
4. 金属间物相反应芯片中不同种类金属之间的相互作用也会引起失效。
在一些环境下,金属层会相互反应而产生新的化合物和相变,从而改变芯片中元器件的性能或导致元器件失效。
二、可靠性分析方法芯片可靠性分析是定位失效原因和提高芯片可靠性的关键步骤。
目前,常用的芯片可靠性分析方法有以下几种。
1. 失效分析失效分析是指在芯片失效的情况下,对失效芯片进行各种测试手段、观察、分析、检测,确立失效点并推断失效原因的过程。
失效分析是目前芯片可靠性分析的主要手段,通过失效分析,可以找到芯片失效的根本原因。
2. 退化分析芯片在使用过程中,其物理性质可能会发生变化,一般而言表现为电气参数的变化或退化。
退化分析需要在芯片未失效的情况下,通过监测芯片的可靠性参数,预测芯片可能出现失效的概率,并对可能出现的问题进行预防或针对性的修复。
引信在长期贮存下老化行为的仿真模拟与分析
装备环境工程第20卷第10期·56·EQUIPMENT ENVIRONMENTAL ENGINEERING2023年10月引信在长期贮存下老化行为的仿真模拟与分析娄文忠1,2,李昕哲1,2,3,冯恒振1,2*,何博1,2,苏文亭1,吕斯宁1,李志鹏1(1.北京理工大学 机电学院,北京 100081;2.北京理工大学 重庆创新中心,重庆 401120;3.西南技术工程研究所,重庆 400039)摘要:目的厘清某型引信在贮存14 a后的失效模式,研究温度周期性交变对引信及其薄弱零件的影响。
方法利用ANSYS workbench软件,建立基于时间硬化的蠕变仿真方法。
以某型引信为研究对象,开展周期性温度交变的蠕变仿真,根据仿真计算结果和实物的对比分析,找出薄弱零件,分析其老化失效模式。
结果在每个周期内环境温度循环条件下,仿真时长设定为14 a,结果显示,引信整体蠕变应变率超过1%,平均压紧应力下降21%,松弛稳定性变弱,密封性在一定程度上变差。
其中,引信电机外壳、电机扇叶、底部线路对接板为薄弱零件,容易发生失效行为。
结论引信贮存在典型西南湿热环境14 a后,周期性温度交变应力将导致引信出现缺陷,缺陷集中在电机外壳、电机扇叶、底部线路对接板处,应重点对这些部位进行防护。
关键词:引信;长期贮存;蠕变仿真;老化行为;薄弱零件;温度交变中图分类号:TJ430.89 文献标识码:A 文章编号:1672-9242(2023)10-0056-08DOI:10.7643/ issn.1672-9242.2023.10.007Simulation and Analysis of Aging Behavior of Fuzes under Long-term Storage LOU Wen-zhong1,2, LI Xin-zhe1,2,3, FENG Heng-zhen1,2*, HE Bo1,2, SU Wen-ting1, LYU Si-ning1, LI Zhi-peng1(1. School of Mechatronical Engineering, Beijing Institute of Technology, Beijing 100081, China;2. Chongqing Innovation Center, Beijing Institute of Technology, Chongqing 401120, China;3. Southwest Institute of Technology and Engineering, Chongqing 400039, China)ABSTRACT: The work aims to clarify the failure mode of a certain type of fuze after 14 years of storage, and to study the ef-fect of periodic temperature alternation on the fuze and its weak parts. A creep simulation method based on time hardening was established with ANSYS workbench. With a certain type of fuze as the research object, the creep simulation of periodic tem-perature alternation was carried out. According to the simulation calculation results, the weak parts were found and the aging failure mode was analyzed. Under the cyclic condition of ambient temperature in each cycle, the simulation time was set to 14 year. The results showed that the overall creep strain rate of the fuze exceeded 1%, the average compressive stress decreased by 21%, the relaxation stability became weaker, and the sealing became poor, among which the fuze motor housing, motor fan blade and bottom line docking plate were weak parts and were prone to failure behavior. After the fuze is stored in a southwest-ern hygrothermal environment for 14 years, the periodic temperature alternating stress will lead to defects in the fuze, and the de-收稿日期:2023-06-27;修订日期:2023-08-09Received:2023-06-27;Revised:2023-08-09基金项目:国家自然科学基金青年基金(62304022 ); 2022-2024年度中国科协创新融合学会联合体青年人才托举工程(2022QNRC001)Fund:National Natural Science Foundation of China Youth Fund (62304022); 2022-2024 China Association for Science and Technology Inno-vation Integration Society Consortium Young Talent Sponsorship Project (2022QNRC001)引文格式:娄文忠, 李昕哲, 冯恒振, 等. 引信在长期贮存下老化行为的仿真模拟与分析[J]. 装备环境工程, 2023, 20(10): 56-63.LOU Wen-zhong, LI Xin-zhe, FENG Heng-zhen, et al. Simulation and Analysis of Aging Behavior of Fuzes under Long-term Storag[J]. Equip-ment Environmental Engineering, 2023, 20(10): 56-63.*通信作者(Corresponding author)第20卷第10期娄文忠,等:引信在长期贮存下老化行为的仿真模拟与分析·57·fects are concentrated in the motor shell, motor fan blade and bottom line docking plate. Therefore, these parts should be protected.KEY WORDS: fuze; long-term storage; creep simulation; aging behavior; weak parts; temperature alternation引信是武器系统中至关重要的组成部分,它的设计和功能决定了武器的终端效应。
复合材料失效模式分析
复合材料失效模式分析★★★★★微谱检测:中国权威检测机构★★★★★------专业进行复合材料失效模式分析微谱检测是国内最专业的未知物剖析技术服务机构,拥有最权威的图谱解析数据库,掌握最顶尖的未知物剖析技术,建设了国内一流的分析测试实验室。
首创未知物剖析,成分分析,配方分析等检测技术,是未知物剖析技术领域的第一品牌!上海微谱化工检测技术有限公司,是一家专业从事材料分析检测技术服务的机构,面向社会各业提供各类材料样品剖析、配方分析、化工品检验检测、单晶硅纯度检测及相关油品测试服务。
本公司由高校科研院所教授博士领衔、多个专业领域专家所组成的技术团队具有长期从事材料分析测试的经验,技术水平和能力属国内一流。
通过综合性的分离和检测手段对未知物进行定性鉴定与定量分析,为科研及生产中调整配方、新产品研发、改进生产工艺提供科学依据。
微谱检测与同济大学联合建立微谱实验室,完全按照CNAS国家认可委的要求建设,通过CMA国家计量认证,并依据CNAS-CL01:2006、CNAS-CL10和《实验室资质认定评审准则》进行管理,微谱实验室出具的检测数据均能溯源到中国国家计量基准。
微谱检测的分析技术服务遍布化工行业,从原材料鉴定、化工产品配方分析,到产品生产中的工业问题诊断、产品应用环节的失效分析、产品可靠性测试,微谱检测都可以提供最专业的分析技术服务。
微谱检测深耕于未知物剖析技术领域内的创新,以振兴民族化工材料产业为己任!微谱检测可以提供塑料制品,橡胶制品,涂料,胶粘剂,金属加工助剂,清洗剂,切削液,油墨,各种添加剂,塑料,橡胶加工改性助剂,水泥助磨剂,助焊剂,纺织助剂,表面活性剂,化肥,农药,化妆品,建筑用化学品等产品的成分分析,配方分析,工艺诊断服务。
微谱检测是国内最大的未知物剖析服务机构,专业进行复合材料失效模式分析,技术实力居于国内领先水平。
虽然复合材料相比较单一组分材料具有强度、刚度、疲劳寿命、耐腐蚀性、耐磨性、导热性、隔音性等显著性能特点。
扫描电镜(SEM)在失效分析中的应用
扫描电镜(SEM)在失效分析中的应用石祝竹;莫煜【摘要】失效分析是故障分析的重要方法,而扫描电镜为失效分析的重要手段,两者在工程领域有着广泛的应用,尤其是在断口分析中的应用.通过扫描电镜可以确定失效的形式和机理,时于确定故障的原因和制定措施起着关键作用.笔者通过工程具体的实例,结合失效分析理论,应用扫描电镜的分析,针对具体工程问题分析了原因,并制定了措施,着重介绍了扫描电镜在失效分析中的应用.【期刊名称】《装备制造技术》【年(卷),期】2011(000)011【总页数】3页(P142-144)【关键词】电镜扫描;失效分析;断口分析【作者】石祝竹;莫煜【作者单位】上汽通用五菱汽车股份有限公司,广西柳州545007;上汽通用五菱汽车股份有限公司,广西柳州545007【正文语种】中文【中图分类】TH744扫描电镜(SEM)是利用静止的或在样品表面做光栅扫描的一束精细聚焦的电子束,轰击样品表面产生各种信号,利用电磁透镜系统成像,对固体材料进行分析的仪器。
由于SEM具有分辨率高(纳米级)、景深大而且可以从数十倍到数千倍连续放大的功能,因此自问世以来就成为材料研究和失效分析的利器。
判断失效的模式,查找失效原因和机理,提出预防再失效的对策的技术活动和管理活动,称为失效分析。
1 扫描电镜1.1 简介扫描电镜是用极细的电子束在样品表面扫描,将产生的二次电子用特制的探测器收集,形成电信号运送到显像管,在荧光屏上显示物体表面的立体构像,可摄制成照片。
扫描电镜的另一个重要特点是景深大、图像富立体感。
扫描电镜的焦深比透射电子显微镜大10倍,比光学显微镜大数百倍。
由于图像景深大,故所得扫描电子像富有立体感,具有三维形态,能够提供比其他显微镜多得多的信息,这个特点对使用者很有价值。
扫描电镜所显示的断口形貌从深层次,高景深的角度呈现材料断裂的本质,在教学、科研和生产中,有不可替代的作用,在材料断裂原因的分析、事故原因的分析以及工艺合理性的判定等方面是一个强有力的手段。
快速确定微电子器件失效激活能及寿命
退化机理的激活能: 373#:Q1=0.6eV;Q2=-1.3 eV;Q3=2.4 eV。 374#:Q1=0.6eV;Q2=-1.3 eV; Q3=2.3 eV。
374#样品表现出与 372#样品一致的退化模式。利用
第一段的数据,我们也计算出了这两支样品的正常
使用寿命:
τ373=3.8×107 (hr)。 τ374=1.3×107 (hr)。
同样,使用温度斜坡模型,可以计算出每段所对应
可以看出,器件保持单一退化模式直至达到失 效判据,说明采用第一段退化机理的失效激活能外 推器件正常工作条件下的寿命是合理的。
线的斜率
S,由于
S
=
−Q κ
,得到:
Q = −S ×κ
(7)
即得出了激活能 Q。若器件在试验过程中,出现一 个以上的退化机理,则会出现斜率不同的线性段, 就可以得到不同退化机理的激活能和加速退化时 间。
设在试验过程中,由 t1 时刻到 t2 时刻,器件的 特征参数退化到失效判据所引起的器件退化能量 积累为[10]:
ΔM = κA' exp( j n +V m )T 2 exp( − Q )
M0
βQ
κT
上式两边同取对数,得:
ln( ΔM
)=Biblioteka ln C+
− (
Q)
1
T 2M0
κT
(6)
其中 C = κA' exp( j n + V m ) 。 βQ
从(6)式看出,通过描绘
ln( ΔM ) T 2M0
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Fuze Micro-structure Reliability Analysis Based on Failure Mechanism
光谱分析设备开 展 了 MEMS 结 构 动 态 应 力 测 试 方
法研 究,并 基 于 此 进 行 可 靠 性 的 分 析;Jadaan 等 人[12] 基 于 威 布 尔 分 布 研 究 MEMS 脆 性 材 料 性 质,
因 此 ,本 文 以 引 信 微 结 构 为 研 究 对 象 ,从 失 效 机 理的层面,给出量化 的 微 结 构 可 靠 性 分 析 方 法 与 流 程,并以 ANSYS为 例 证 明 如 何 结 合 仿 真 方 法 进 行 可靠性分析。
1 基本问题描述
根 据 结 构 可 靠 度 理 论 ,微 结 构 失 效 概 率 模 型 为
Key words:fuze reliability;structural reliability;failure mechanism analysis;modeling;probabilistic sensitivity
0 引言
与微电子器件不同,MEMS 器件 不 仅 包 含 电 子 元 件 还 包 含 机 械 元 件 ,并 且 这 些 机 械 元 件 (如 引 信 用 的 MEMS悬臂 梁、弹 簧 等,结 构 特 征 尺 寸 在 1μm 至1mm 范围内,后续统称为引信微结构)之间常具 有相对的运动或相互的表面作用。在微观尺度下,
磨损
在相对运动 情 况 下,由 于 摩 擦、腐 蚀、粘 附 等 导致磨损失效
分层
由于光刻对位误差、热膨胀系数失配 等,导 致 的分层失效
在冲击、碰撞等情况下,由碎片和微粒 等 导 致 粒子污染
的粒子污染
涂 宏 茂 等 :基 于 失 效 机 理 的 引 信 微 结 构 可 靠 性 分 析 方 法
11
谓基于失效机理的微 结 构 可 靠 性 分 析 方 法,它 的 基
本 流 程 如 图 1 所 示 。可 以 看 出 ,基 于 失 效 机 理 的 微 结
构可靠性分析有两个 主 要 的 问 题 需 要 解 决:一 是 功
能 函 数g(x)的 建 立 与 简 化 ,涉 及 失 效 原 因 和 机 理 分
这些微结构的力学 特 性 发 生 了 很 大 变 化,结 构 失 效 模 式 更 多 样 、失 效 机 理 更 复 杂 。 例 如 ,在 冲 击 作 用 下 微悬臂梁常发生粘附失效包括S形和弓形两类变形 失 效 形 式[1],采 用 一 般 意 义 上 的 悬 臂 梁 力 学 模 型 难 以描述该失效问 题。 那 么,相 应 的 微 结 构 可 靠 性 设 计分析需要充分考虑 MEMS的特点,更关注结构在 微观尺寸下的失效 原 因 和 机 理,并 以 此 开 展 可 靠 性 的分析和预计 。 [2] 同时,由于仿真分析方法能够有
冲击等)进 行 了 分 类,并 针 对 每 种 类 型 给 出 了 失 效
原因和 机 理 的 分 析。Tanner等 人[9] 分 析 振 动、冲 击
和湿度环境对微机械 系 统 的 影 响,结 合 试 验 结 果 确
定主要 的 失 效 模 式 与 失 效 机 理;Shea[10] 分 析 了 真
空、辐射、温度冲击环境下的 MEMS结构失效机理, 给出相应的可靠性改进措施;Pomeroy等人[11] 采用
析 、失 效 判 据 确 定 等 ;二 是 失 效 概 率 模 型 或 可 靠 度 模
型的求解,包括失效 概 率 或 可 靠 度 的 计 算 和 可 靠 性
灵敏度的分析等。
图1 基于失效机理的微结构可靠性分析流程 Fig.1 Reliability analysis procedure of micro-structure
量 向 量 。对 应 的 微 结 构 可 靠 度 模 型 为
R =1-Pf = P (g(x)≥0)
(2)
由 式 (1)和 式 (2)可 以 看 出 ,若 已 知 微 结 构 失 效
事 件 (g(x)<0的 事 件 )的 统 计 数 据 ,则 可 以 获 取 微
结构失效的概率,这 就 是 所 谓 的 基 于 统 计 的 微 结 构
摘 要:针对引信微结构设计分析中仍缺乏有效的可靠性评估方法的问题,结合结构可靠度计算原理,给 出 基
于失效机理的引信微结构可靠性分析方法。该方法以微 结 构 失 效 模 式 和 失 效 机 理 分 析 为 基 础 ,建 立 表 征 微 结 构失效的数学模型,并以此为基础,进行微结构可靠性模型建立,以及可靠度和灵敏度的量 化 分 析。 同 时,针 对 可靠度分析程序对 CAE 软件的调用 需 求,提 出 了 通 用 的 可 靠 性 分 析 程 序 对 CAE 软 件 的 集 成 模 式,并 以 AN- SYS为例给出了相应的可靠性分析流程。最后,以 MEMS安 全 系 统 用 微 弹 簧 的 可 靠 性 分 析 为 例 ,证 明 该 方 法 在量化评估微结构可靠性水平方面的可行性和实用性。
表1 微结构常见失效模式与机理
Tab.1 Common micro-structure failure modes and mechanism
失效模式
失效机理
断裂
过载 导 致 的 瞬 时 断 裂,或 反 复 受 载 导 致 的 疲 劳断裂失效
粘附
在微尺寸效应下,由毛细力、范德瓦尔 斯 力 或 静电力导致的粘附失效
10
探测与控制学报
效 地 预 测 结 构 性 能 ,可 以 在 设 计 早 期 改 进 结 构 设 计 , 其越来 越 多 地 应 用 于 引 信 微 结 构 的 设 计 分 析 。 [3-4] 若能在可靠性设计 分 析 中,充 分 集 成 已 有 的 仿 真 分 析方法和工具手段,将 有 助 于 提 高 微 结 构 可 靠 性 设 计分析的效率,对于 预 测 产 品 的 可 靠 性 并 提 出 具 有 针 对 性 的 改 进 建 议 ,具 有 重 要 作 用 。
TU Hongmao1,2,LOU Wenzhong3,WANG Fufu3,LIU Fangyi 3
(1.Ordnance Science and Research Academy of China,Beijing 100089,China; 2.College of Mechanical Engineering and Automation,Northeastern University,Shenyang 110819,China;
bility analysis method based on the structural reliability calculation principles and the failure mechanisms was proposed.in this paper.Based on this model,reliability model was obtained and used for further reliability and sensitivity calculations.To facilitate the use of CAE software in the reliability program,which gave the general CAE integration mode for structural reliability analysis.The detail procedure of the structural relia- bility analysis based on ANSYS was depicted.A reliability analysis example of micro-spring in fuze safety mechanism demonstrated the feasibility and practicality of the method for fuze micro-structure reliability prob- lems.
Pf = P (g(x)<0)
(1)
式(1)中,P(* )表示事件“*”发生的概率;g(x)是
表 征 微 结 构 状 态 的 函 数 ,常 称 为 功 能 函 数 ,g(x)<0
表示 微 结 构 失 效,g(x)> 0 表 示 微 结 构 安 全, g(x)=0表示极限状态;x= (x1,…,xn)T 为随机变
可 靠 度 方 法 。但 是 ,这 一 方 法 的 问 题 在 于 无 法 获 知 微
结构失效的原因 和 规 律,无 法 判 别 随 机 变 量 向 量 x
对微结构的作用情况。如 果 微 结 构 失 效 概 率 预 计 结
果不满足要求,那么 基 于 统 计 的 分 析 方 法 难 以 提 出
有 针 对 性 改 进 措 施 。相 反 ,如 果 能 够 进 行 微 结 构 失
3.School of Mechanical-electronic Engineering,Beijing Institute of Technology,Beijing 100081,China)
Abstract:In order to quantitatively evaluate the reliability of the fuze micro-structure in design stage,a relia-
在微结构失效机理分析方 面,国 内 外 很 多 专 家
学 者 主 要 从 外 部 载 荷 、材 料 特 性 等 方 面 入 手 ,做 了 很
多的研究 工 作。如 Walraven[8] 依 据 MEMS 结 构 不