PECVD操作规程
PECVD操作指导书
1.目的确保管式PECVD 处于良好的运行状态。
2.使用范围适用于所有Centrotherm 管式PECVD 。
3.生产操作 3.1开机3.1.1开总电源。
用手扳住电柜外部的红色按钮，旋转90度。
从“OFF ”位置拔向“ON ”位置，机器上指示灯亮VAT 控制器灯亮，可确定总电源已开启。
注意，当机器出现故障，按下急停键后，首先松开急停键，然后将开关逆时针转到Reset 的位置，然后再顺时针转到“ON ”的位置。
机器上指示灯亮VAT 控制器灯亮，可确定总电源已开启。
3.1.2开真空泵。
（1） 合上真空泵电源，按下reset 按钮，start 按钮亮，然后按下start 按钮，pre run 按钮亮，此时真空泵启动，当真空泵运行到正常转速时，vacuum mode 灯亮，此时真空泵完全启动。
3.1.3 检查外围条件。
N2的压力>2.5Kg/2cm ，SiH4的压力约为1.5 Kg/2cm ，NH3的压力约为1.5Kg/2cm ，CDA 的压力为5～7 Kg/2cm 。
炉门处的冷却水流量计>4SLM ，设备炉体区顶部的冷却水流量计>4SLM ，主冷却器>8SLM ，设备尾部的冷却水流量计>4SLM ，射频电源的总冷却水流量计>18SLM.3.2界面操作（1） 启动CMI 程序。
开总电源后计算机自动启动。
输入密码“6065”后自动进入Windows 桌面。
用鼠标左键双击“CMI ”图标，启动CMI 。
（2） 进入CMI 画面，检查设备状态：SLS=UP （舟处于上位） ，DOOR=CLOSED （门处于关紧状态） ，PLC=OK ，LIFT=READY （机械壁必须在零位） ，TUBE=READY （炉管处于准备好状态）SET/ACT POSITION=0（桨处于原点位） ，PROCFLAG=OK （程序标志位OK 状态）3.2.1选择工艺程序，生产。
（1） 插片。
用小车承载石墨舟，在插片房中插满硅片。
48所PECVD操作规程
PECVD（48所）操作规程1.打开各路气体阀门。
包括氮气，CDA以及反应特气。
注意：打开反应特气（硅烷、氨气）时候须小心。
2.打开冷却水管的开关。
先打开出水管，后打开进水管。
即先打开上面4条水管，后打开下面4条水管。
切记顺序不能反，并且注意真空泵组以及设备有无水报警，检查水压。
3.打开电源总开关（在扩散车间），PECVD三相电源指示灯亮。
4.按下控制柜电源“上电”按纽，开启电脑。
5.手动设置工艺温度，然后按下加热“上电”开关，开始加热。
6.戴上工艺要求的手套开始将准备好的硅片放在石墨舟上，然后调整，使片子紧贴石墨舟。
7.待温度升至工艺要求的温度后，把石墨舟放在悬臂杆上.8.进入“PECVD设备计算机工艺自动控制系统V3.0”程序，在“手动”模式下，将悬臂杆降至“下位”归零，然后上升至“上位”单击“工艺编辑”，然后在“工艺编辑”窗口中选择工艺程序文件，将工艺程序各步参数下载到工艺运行缓冲区中。
9.在主窗口中单击“系统图”图标，进入“系统图”窗口。
单击“系统图”窗口工具栏中的“启动”图标，计算机会给出一些提示，逐条检查每一条提示，然后“确定”，即开始工艺运行。
10. 单击“系统图”窗口工具栏中的“自循环”图标。
保证工艺运行到最后一步时间耗尽时，会自动跳转到第1步继续执行，而不会中止工艺运行。
11. 在悬臂杆将石墨舟推入石英管的过程中，密切注意悬臂杆与石墨舟是否会撞到石英管。
并从炉尾处的小窗口观察，高频电源电极和石墨舟电极是否接触良好；悬臂杆后退时候，从炉口观察，是否会把石墨舟带出。
12. 工艺运行中…….，操作员工可准备其它石墨舟的上片工作。
13. 工艺运行至“取片”步，悬臂杆将石墨舟退出来以后，整个工艺运行完毕，计算机会给出一个提示。
将其它上好片子的石墨舟放在悬臂杆上后，单击“确定”即进入下一个工艺循环。
14. 生产结束后，在“手动”模式下关掉炉门，关闭罗茨泵。
按下加热“关”，退出PECVD设备计算机工艺自动控制系统V3.0，关闭电脑，但是不要断掉控制柜的电源。
^PECVD设备操作规程^
^PECVD设备操作规程^PECVD设备操作规程1(开机1.1 打开主氮气阀门(4-6bar)、主压缩空气阀门(5-7bar)、冷却水(2-4bar)、打开特气并确认。
1.2 确认六个红色急停按钮在正常位置状态。
1.3 打开主控制柜上的电源开关,打开电脑,此时电脑进入WINDOW操作界面。
1.4 自动进入软件程序。
1.5 作业员登录,输入名字和口令。
1.6 再次检查上式1.1项正常后,按F9。
1.7 在所有的门和盖子都关闭的情况下,在“system(系统)”状态下按“pu mps(真空泵)”按钮，先按中间的“evacuate(抽真空)”按钮，再按另外两个“evacuate”此时真空泵打开。
1.8 按“process chamber(工艺腔)”按钮，点“parameters(参数)”对加热“2”和加热“3”进行温度设定，设定“400”度，按“save”保存。
1.9 等待加热“2”和加热“3”达到设定的温度。
1.10 当加热“2”和加热“3”的温度达到设定的温度时进行工艺运行。
按“control(控制)”选择要加载的工艺名后(目前使用的预热工艺方案是“process prheating”),按“load(加载)”再按“start(开始)”，此时传输系统打开。
生产前，每次载板预热2次，载板预热结束后，点击停止，停止预热方案。
Test 01-25-07 low gas flow), 按“load1.11 选择生产工艺方案:点击工艺腔，选择工艺方案 ((加载)”再按“start(开始)”，待显示，工艺正在运行时，在传输台上放上预热过的载板。
(备注:开始工艺时，Test 01-25-07 low gas flow 下显示为:“等待温度达到设定值”------ “打开特气”------“打开微波源”------“工艺正在运行” )1.12 当硅片全部放入石墨框里的时候，同时按下传送台上的黑色按钮，石墨筐进入腔里进行镀膜。
PECVD操作流程
1.打开水箱和氩气：开水箱时，依次打开open，开关1，开关2。
开氩气（起保护作用）时，先旋转逆时针打开主阀，观察压力表检查瓶中是否有气。
注意顺时针打开打开减压阀，气流指示针为0.5.2.开PECVD和磁控电源开关。
3.清洗腔体并装入样本若有真空保护，需要打开空气进气阀使腔体的压强恢复到正常大气压105Pa。
若没有，则打开腔体，然后用纱布擦拭，并用吸尘器吸净。
样本需要先清洗、压平，然后才能放入腔体中。
若样本太轻，需要黏住。
如铜，要粗糙面向上，容易附着，便于薄膜生长。
然后封闭腔体。
4.打开机械泵：先打开机械泵开关和蝶阀开关。
然后先缓慢打开角阀V5，待压强显示数不变时，继续拧角阀V5..直到示数为200Pa 左右。
打开罗茨泵，调节角阀，是腔体内压强为10Pa左右，对腔体起清洗保护作用。
5.打开流量计和射频源开关：射频源提前打开是为了进行预热。
开流量计和气路模拟开关。
6.打开气路阀：抽净管道和流量计。
逐步对各个部分抽气。
7.打开硅烷SiH4，操作和开氩气流程一样，但硅烷主阀开5～20S即够我们实验用的量，随后关闭主阀，并使气流指示针显示到0.2.8.调节流量计，使硅烷和氩气的比例为1:10左右。
实验过程中要使这个比例数尽量保持不变。
调节射频匹配器，起辉。
使板压粗调和微调为 5.记录初始反应压强和时间。
时间约为10分钟。
9.先关硅烷和射频源电源，再通氩气3min，然后打开角阀，抽气5min。
关角阀，蝶阀，罗茨泵，机械泵。
10.缓慢放入空气，使得腔体达到大气压强，拿出实验样本。
打开机械泵，调节角阀，使腔体的压强为200Pa左右，为真空保护。
11.关闭角阀，蝶阀，机械泵。
先关PECVD电源开关，然后关磁控溅射开关。
关闭水箱和氩气。
管式PECVD插片、卸片作业标准指导书SOP-标准版
适用产品 Product ：125S 、M 、156S 、M 版次： Version作业名称 Station ：管式PE 岗位插卸片No.Qty No.No.11112122Step1：插卸片的准备Step1：吸笔垫先要压平Step2：把吸笔头清洗干净，用酒精布插试注意：真空力大，容易使吸住的硅片直接爆裂。
Step4：吸笔垫贴完后，再把吸笔头压Step3：撕开吸笔膜，从吸笔头的上方开始贴，贴好后在桌上，使吸笔头完全压平再把吸笔膜完全撕掉，顺着吸笔头的方向压平。
石墨舟手套（乳胶手套、棉布手套)PE岗位插卸片第一步（插卸片的精髓：动作要轻、慢、稳、做到无声操作）Ⅰ、工具使用需求 Tooling工具名称 Tooling 石英吸笔标准作业书 Standard.Operation.ProcedureⅢ、注意事项Ⅱ、劳保用品名称口罩内容调节吸笔真空的大小，石墨舟价格昂贵。
石英吸笔，易碎，保持吸笔头的干净，整洁。
确认吸笔上的贴膜，是否干净整洁，24小时更换一次。
调节节流阀，控制真空的吸力。
Step1：用右手食指按住吸笔孔，与硅片的上方，平行的吸住硅片Step2：确认吸住硅片后从承载盒内，水平的拉出。
Step3：吸住硅片顺着舟叶往下滑。
保持平行，不能折硅片，容易破碎注意：无声操作Step6：硅片卡住工艺点后，食指松开，拉出吸笔。
Step5：碰到2号3号工艺点时，要轻轻的接触。
Step4：避免碰到1号工艺点，无声操作，往下滑。
1号2号3号注意：等硅片卡住之后，再松开，拉出吸笔。
注意：接触工艺点时，轻轻的接触，避免卡碎。
注意：避开工艺点，小心碰碎Step1：吸笔贴着硅片的面，平行的下去，吸住硅片。
Step2：吸住硅片后，轻轻往上提，如提不动，在左右晃晃Step3：拉出硅片后，轻轻的放入卸片盒内，，确认硅片脱落工艺点后，再拉出。
卸片盒与舟面成60°夹角。
注意：确认吸笔完全吸住片子，避免片子吸不住，注意：把片子放入卸片盒中，动作要轻，避免硅片从卸片盒导致由于吸笔吸不住，硅片直接掉落。
PECVD SOP
PECVD SOP1．目 的为规范PECVD 操作流程，正确的操作设备、高效的进行生产，特制定本规程。
2．适用范围上海超日太阳能科技发展有限公司辖区内的PECVD 淀积车间。
3. 职 责3.1操作不规范可能引起原材料硅片的损耗，在进行操作之前，务必仔细阅读本规程。
3.2熟练掌握每道操作步骤。
4．定 义4.1PECVD 间只负责按规程操作，更改数据需技术部授权。
5. 程 序5.1 开启设备抽风系统电源。
5.2 向设备部确认SiH 4 和NH 3的供气系统及SiH 4燃烧塔已开启。
5.3 打开分气箱中的SiH 4气体的阀门（图1-1）和NH 3气体的阀门，开始向设备供气，调节压力控制阀来控制所需压力（图1-2）。
（图15.3 开启电控柜中PECVD 总电源，开始向设备供电。
5.4打开冰水机电源（图2-1），检查温度控制器的显示温度是否正常（图2-2），打开制冷开关（图2-3），打开冷液泵（图2-4），开始向系统提供冷却水。
（图2）5.5 打开真空泵电源开关（图3）。
（图3）5.6 在各项检查确认无误后整机开始通电，按下“上电开”按钮（图4-1），按下“加热开”按钮（图4-3），炉体开始加热，通过温度控制器的设定温度控制所需要的温度（图4-2），。
在运行过程中报警器鸣叫（图4-4），可能是停水、超温或断偶其中之一，故障解除后即停止鸣叫。
（图4）5.7 待显示温度达到设定温度时即可进行生产，将插满硅片的石墨舟放置在悬臂桨上，双击桌面上的“PECVD 计算机工艺自动控制系统”快捷键，在登陆界面密码框中输入“SA”，即进入控制系统（图5）。
（图5）5.8点击屏幕左上角的“编辑”按钮（图6）来选取工艺执行文件。
（图6）5.9点击“启动”（图7-1）→点击“确定”→点击“自循环”（图7-2）→点击“加锁”（图7-3），系统按程序自动运行。
（图7）5.10 在运行过程中，要时刻观察操作界面各运行参数是否正常，出舟后，稍作冷却，然后将石墨舟取下，放上第二只石墨舟点击“确定”，即可进行第二次循环操作。
PECVD标准作业指导书
PECVD标准作业指导书1. 目的该标准作业指导书旨在指导操作人员正确进行PECVD（等离子增强化学气相沉积）工艺，确保设备的安全和产品的质量。
2. 适用范围本标准作业指导书适用于所有使用PECVD工艺的设备和产品。
3. 安全要求- 在操作PECVD设备时，必须穿戴适当的个人防护装备，包括但不限于安全眼镜、防护手套和工作服。
- 在操作前，需要对设备进行全面的安全检查，确保设备正常运作并且没有安全隐患。
- 禁止在操作时使用不符合要求的物品，以免引起危险或质量问题。
4. 操作步骤- 开机前检查：检查PECVD设备的各个部件是否完好，确保真空泵、气体流控制系统、加热系统等均正常运转。
- 处理前准备：将待处理的衬底清洗干净并放置在PECVD反应腔中。
- 气体处理：根据工艺要求设置气体流量和流程，确保设备内气体的稳定和纯度。
- 处理参数设置：根据要求设置反应腔的温度、压力、沉积时间等参数。
- 处理结束：待沉积结束后，关闭气体供给和真空泵，将处理后的产品取出并进行必要的后续工艺。
5. 质量控制- 在进行PECVD处理前需要进行质量控制样品的测试，确保设备的稳定性和处理的产品质量符合要求。
- 在处理过程中需要定期检测设备的气体流量、温度、压力等参数，发现异常情况及时进行调整。
- 处理结束后，需要对产品进行外观和性能检测，确保产品质量符合要求。
6. 后续处理- 处理结束后，需要将设备做必要的清洁和维护，确保下次操作的安全和质量。
- 如有异常情况发生，需要及时记录并向相关部门汇报，以便进行故障排除和改进。
7. 相关记录- 操作人员应当及时记录每次PECVD处理的工艺参数、产品质量、设备状态、异常情况等，以供后续追溯和分析。
8. 责任分工- 设备操作人员负责具体的操作过程和设备维护，同时要确保操作安全和产品质量。
- 监督员负责监督操作过程，确保操作符合标准作业指导书的要求，并且做好相应记录和报告。
9. 总结本标准作业指导书介绍了PECVD操作的基本要求和步骤，并指导了在操作过程中应注意的安全和质量控制问题。
PECVD操作规程
PECVD操作规程1.目的为规范PECVD操作流程，正确的操作设备、高效的进行生产，特制定本规程。
2.适用范围上海超日太阳能科技发展有限公司辖区内的PECVD淀积车间。
3.职责3.1操作不规范可能引起原材料硅片的损耗，在进行操作之前，务必仔细阅读本规程。
3.2熟练掌握每道操作步骤。
4. 定义4.1PECVD间只负责按规程操作，更改数据需技术部授权。
5. 程序5.1 开启设备抽风系统电源。
5.2 向设备部确认SiH4和NH3的供气系统及SiH4燃烧塔已开启。
5.3 打开分气箱中的SiH4气体的阀门和NH3气体的阀门，开始向设备供气，调节压力控制阀来控制所需压力。
5.3 开启电控柜中PECVD总电源，开始向设备供电。
5.4打开冰水机电源，检查温度控制器的显示温度是否正常，打开制冷开关，打开冷液泵，开始向系统提供冷却水。
5.5 打开真空泵电源开关。
5.5 在各项检查确认无误后整机开始通电，按下“上电开”按钮，按下“加热开”按钮，炉体开始加热，通过温度控制器的设定温度控制所需要的温度，。
在运行过程中报警器鸣叫，可能是停水、超温或断偶其中之一，故障解除后即停止鸣叫。
5.6 待显示温度达到设定温度时即可进行生产，将插满硅片的石墨舟放置在悬臂桨上，双击桌面上的“PECVD计算机工艺自动控制系统”快捷键，在登陆界面密码框中输入“SA”，即进入控制系统。
5.7点击屏幕左上角的“编辑”按钮来选取工艺执行文件。
5.8 点击“启动”→点击“确定”→点击“自循环”→点击“加锁”，系统按程序自动运行。
5.9 在运行过程中，要时刻观察操作界面各运行参数是否正常，出舟后，稍作冷却，然后将石墨舟取下，放上第二只石墨舟点击“确定”，即可进行第二次循环操作。
5.10 操作结束后，先关闭特气供气阀门，将空的石墨舟送入炉体内，炉内抽至真空。
5.11 关机时先按下“加热关”按钮，退出“PECVD计算机工艺自动控制系统”界面，关闭真空泵，等显示温度低于250℃时方可关闭冷却循环水,最后按下“上电关”按钮，切断总电源。
PECVD操作规程
一、目的规范设备操作保证产品质量，防止错误操作造成人身安全、产品质量和设备安全等不良后果特制定此规程。
二、范围本规程规定了M8Z200-3UM卧式等离子增强化学气相淀积设备。
ADS602H真空泵及高频仪的操作方法、工艺要求及注意事项。
本规程适用于M8Z200-3UM卧式等离子增强化学气相淀积设备。
ADS602H真空泵及高频仪设备的运行和产品判定。
三、工具石墨舟，石英吸笔，石墨舟钩子，万用表，承载盒，海绵垫，硅片托垫，手电筒，石英吸笔吸盘垫片。
四、设备M8Z200-3UM卧式等离子增强化学气相淀积设备五、原辅材料硅片，硅烷、氨气，氮气，酒精，棉布手套，乳胶手套六、操作要求准备工作1、上班时穿好防静电净化服，工作鞋，按要求戴好口罩，棉布手套和乳胶手套。
2、接班时要确认上个班及当前运行工艺、设备状况、片源等有利于当班正常生产的各种信息。
3、准备A.准备拿片（拿放石墨舟和硅片应轻拿轻放，防止碰撞，不能裸手操作以防污染）。
B.将石墨舟工作台将装片工作台拉至平面并用专用钩子提到工作台上，石墨舟脚必须卡到两侧定位硅胶棒外。
C.打开石英吸管所用压缩空气,调至适用压力。
D.检查石英吸管吸盘垫片是否污染,如污染应更换。
E.从传递窗中拿出工艺流程卡核对数目是否相符, 若不相符应与上一道工序协调。
F.边缘一排轻轻往内推一点，拿住装片花蓝边缘，慢慢取出放到手推车上，拿完一批后将空花蓝整齐放入传递窗中关掉传递窗。
取片时应注意防止与相邻花蓝擦刮造成跌落。
G.双手将手推车轻推至装片工作台旁，将装有硅片的花蓝放到准备插片的石墨舟旁。
4、装片A. 装片前用手扶住石墨舟上将装片工作台倾斜至自身装片方向。
B. 插片时注意花蓝开口方向为扩散面，片掉落不清楚时可用万用表欧姆档测试两面电阻，电阻值小的一面为扩散面。
C. 左手轻轻托起花蓝底部，右手拿住石英吸笔用食指或拇指压住吸笔控制孔，吸盘靠住硅片扩散面，将硅片从花蓝中取出，检查表面，有绒面不良的应返工。
pecvd作业流程标准
pecvd作业流程标准下载温馨提示:该文档是我店铺精心编制而成，希望大家下载以后，能够帮助大家解决实际的问题。
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PECVD生产操作规程
82024/2/8
Figure 12: Gas system
92024/2/8
02024/2/8
12024/2/8
22024/2/8
32024/2/8
42024/2/8
52024/2/8
62024/2/8
02024/2/8
5.1 停止工艺运行
鼠标点击“control”按 钮，弹出下拉菜单
点击工艺“stop”按钮 点击传动“stop”按钮
12024/2/8
5.2 关墙壁气箱中特气阀，特气 管路吹扫
关上位于墙壁气箱中特气阀
通知经过培训的设备人员进行特气管路 吹扫
22024/2/8
5.3 关掉真空泵，向腔体冲入 N2
进入“system”状态画面，点击“pumps”控 制按钮，弹出下拉菜单
等待真空泵净化N2气阀关闭 点击三个真 空泵“pump off”控制按钮关掉
真空泵 点击反应腔“vent”控制按钮,向机器腔体冲
入净化N2，等待冲好指示灯点亮
32024/2/8
5.4 退出控制程序，关主电源
进入“service”状态画面，点 击系统中“switch off”控制按 钮，计算机显示回到win-nt 画面
42024/2/8
4.1 开真空泵，预加热
检查机器无故障显示后，开 真空泵
加热腔和反应腔预加热 当反应腔真空压力小于
1.0e-2mbar,温度达到预设 定的值，方可启动工艺
52024/2/8
4.2 启动指定工艺
打开墙壁气箱中特气阀 点击“control”控制按钮，“
technology ”框中选择规定 的工艺单后，加载“ load ”, 启动工艺“ start ”，在“ transp-ortation ”框启动传动
PECVD详细介绍
PECVD操作简介
PECVD开机 打开N2阀。确认面板上绿色N2阀已打开。压力值为1kg
/cm2左右
N2阀
PECVD操作简介
PECVD开机
按压START真空泵启动按钮，启动真空泵。
START按钮
CBI按钮
PECVD操作简介
4
管式PECVD日常报警说明
Recipe abort2----process abort! TO continue: enter AB.
说明：工艺推出----运行终止。继续 输入AB。
对工艺异常确认输入AB后，会出现 第（一）个报警
5
管式PECVD日常报警说明
Vacuum tube out of 1st(2nd) tolerance. 说明：石英管内的真空度超过第一（二）个限
该状态为已经扳过90度pecvd操作简介pecvd开机pecvd的操作流程戴好无纺布口罩戴好洁净手套取来待镀膜的硅片在刻蚀处检查硅片数量把石墨舟推到洁净工作台下取出承片盒放入洁净工作台取出石英吸笔并擦拭干净把硅片一片片插入石墨舟内注意硅片的扩散方向一舟插完后用小车推到设备的上料口对计算机进行相应的操作后让其自动运行工艺结束镀膜结束开门退舟设备自动运行待报警后按退车按钮退车把装有石墨舟的小车推到冷却房内进行冷却冷却结束后把小车推到插片房内卸片结束后放入指定的承载盒内把放满的承载盒拿到丝网上料准备进行印刷开始卸片
是退出并重新运行工艺
10
管式PECVD日常报警说明
Recipe couldn’t de started. please check protocol for reason.。
pecvd公司操作流程
2.2.1.4 打开操作页面的PECVD系统，打开真空泵→慢抽→加热
2.2.2 关机
2.2.2.1 提前一小时关闭加热。
2.2.2.2 降温：关闭炉门开始抽真空，边降边抽，等待真空泵显示2KPA时再打开炉门来降温，待温度降至250°时即可关闭炉门→抽真空→关闭PE程序→关闭计算机→关闭真空泵（按STOP→ENTER）.
之后，就开始插片，插片时每个员工一定要注意花篮的H面，H面是朝着石墨舟的方向插片(如图).
待插完后注意检查，看看是否有漏插、少插、多插和是否电池片卡住三个石墨钉。
2.3.2 放舟：把插好的电池片推到PECVD设备的旁边，用钩子把石墨舟提到传送杆上，注意要慢放平放正（如图） 。
然后按操作电脑页面上的“跳步”，再点击“放舟”自动放进去。
2.3.6.4 注入完之后封盖，让它洗半天之后再观察。
2.3.7 取舟：此步是在水槽中取舟，待舟洗好后，把洗完的HF酸排放，然后用纯水充干净后，将舟取出来待烘干。
2.3.8 烘干：在设备房有个烤箱，把洗干净的湿舟放入到烤干箱烘干，打开电源开上开关。调至到85度在里面烘一段时间。（如图） ）
1.4.8
1.5 注意事项
1.5.1 操作过程中与硅片接触时必须佩戴好汗布手套和胶手套，佩戴符合规范。
1.5.2 检查电池片扩散面在花篮中的方向，扩散面一定要朝着花篮的H面。
1.5.3 检查前道和本道工序的电池硅片，看是否有呈蓝紫色的色斑、白色色斑和隐裂片、碎片、缺角片、差异片以及未扩散片。
1.2.1.2 关机：长时间不做工艺，需要抽成真空后关机。关机前首先确定刻蚀机不在工作状态，且腔体内无硅片和夹具夹等物，按F2进入手动操作界面（如图所示），按F4进入预抽状态，待压力值低于500Pa时，按下SHIFT+F5进入主抽状态，同时按下F4退出预抽。约一分钟后，再按SHIFT+F5退出主抽，并按F0返回主页面，按下红色“机械泵关”按钮关闭机械泵，并关闭电源开关，最后关闭工艺气体阀门。
PECVD使用步骤
PECVD使用步骤开机抽真空过程：1.检查各阀门是否关闭，开水阀，总电源→机械泵→真空计→（开电磁阀Ⅰ→开蝶阀→当真空小于10Pa时，关蝶阀→关电磁阀Ⅰ）→开电磁阀Ⅱ→开分子泵电源→当分子泵频率稳定时，启动分子泵→开闸板阀G实验过程：2.关分子泵：关闸板阀G→停分子泵频率为0时，关分子泵电源→关电磁阀Ⅱ3.启动罗茨泵：开真空计→开流量计（5分钟左右）与射频电源（10分钟以上）预热→当真空小于0.5Pa时，开手动截止阀调节真空→开气路电磁截止阀→开电磁阀Ⅰ→开蝶阀→启动罗茨泵4.送气及调压步骤：关真空计，开薄膜压力计→开气压总阀→开减压阀（1格左右）→开气路截止阀→阀控→调节到所需气体流量→稍稍关闭蝶阀，至实验所需压强①射频电源：开灯丝开关，预热10分钟左右→开板压开关→调节旋钮至实验所需功率②偏压电源：偏压开关→调节旋钮至实验所需电压③热丝：先慢慢调节电流或电压旋钮（电流、电压旋钮不要同时扭动），待其稳定后→分别调节电流及电压旋钮至所需功率关机过程：1.依次逆时针调节旋钮到底，并关闭各电源（如射频、偏压电源）2.关气步骤：开蝶阀→关薄膜压力计，开真空计→关气压总阀→关减压阀→适当增大气体流量，待流量回落时（腐蚀性气体流量回落到0），关气路截止阀→清洗→流量计为关闭档→关流量计→关气路电磁截止阀→关手动截止阀3.停罗茨泵步骤：关蝶阀→关电磁阀Ⅰ→停罗茨泵4.关真空计→停机械泵→关闭总电源→关循环水→关闭空切开关注意事项：1.真空室暴露大气前一定要关紧闸板阀G，以免损坏分子泵；2.系统起辉时要关闭电离规（此时真空室压强变化大，以免损坏电离规）；3.突然停电时，所有开关按钮要复位（特别是电磁阀，以免突然来电时冲击并损坏电磁阀），过5－7分钟后才能重新启动分子泵；4.在取出或更换样品时，要注意真空室的清洁(必须戴手套操作)；5.升盖前一定要先放气及拔掉射频插座，降盖时注意各方位对齐；6.系统由大气抽低真空过程中，禁止开烘烤灯与照明灯；7.开启装置前，检查放气阀等阀门是否关紧，电源是否接通，水阀是否开启，机械泵分子泵的油标，以及所有仪表电源开关是否处于关闭状态；8.加热功率为6—7圈左右，注意加热温度与炉丝颜色关系，暗红停止加热；9.开机、关机前用氮气稀释系统，开机前注意机械泵正反转。
pecvd-pecvd
(一) PECVD使用手冊A、事前需知(1)無塵室之逃生門位置及使用方法。
(2)無塵室之呼吸袋及滅火器位置及使用方法。
(3)無塵室內之緊急按鈕。
(4)儀器負責人及保管人: 周勝鴻，葉祐名。
(5)儀器聯絡人員: 葉祐名(6607)，林育德(6623)。
B、準備步驟(1) 確認機台是否運轉中。
(檢查機台狀態告示牌)(2) 檢查pump的狀態。
(檢查螢幕是之pump是否開啟)(3) 檢查Locoal Scrubber是否運作正常。
(燈是否全都是綠色)(4) 檢查二次盤面之氣體是否正常。
C、製程操作(1)開啟PC2000軟體，並登入帳號及密碼。
(帳號及密碼均為user)(2)開啟Load Lock之鈕扣。
(3)點選Load Lock之[Vent]破真空後，置入wafer，所有試片(包含完整6吋晶圓)均需使用承載片。
(4)關上Load Lock，並點選[Evacuate]抽真空。
(待達到真空狀態時，load lock 和pump間之valve會呈關閉狀態，紅色為關，綠色為開)。
(5)點選Process主選單之[Recipe]，先確認左上角之狀態為[Automatic]，若為[manual]或[clean]請聯絡工程師。
(6)在[Recipe]畫面之中間，點選[load]，選擇所需之recipe，若需改recipe內之內容，在recipe內之步驟按左鍵，選擇[Edit]後，進入修改。
只須修改製程所預時間。
(7)Recipe選擇好之後，按[Run]後，即開始製程。
(8)製程結束後，wafer會自動傳回load lock。
(9)打開load lock之鈕扣，點選load lock之[Vent]破真空，拿出wafer。
(10)點選load lock之[Evacuate]抽真空，登出軟體，關螢幕。
注意事項:一、此部PECVD可沈積SiO2,Si3N4,非晶-Si,氮氧化矽。
二、PECVD一般沈積溫度設為300度，此部PECVD最高溫度可達400度。
PECVD-400型等离子辅助化学气相沉积系统操作规程
PECVD-400型等离子辅助化学气相沉积系统操作规程1.首先观察“报警选择”处于报警2.充气：（1）打开普N2瓶上全开总阀，分压阀。
（2）打开浮子流量计。
（3）打开仪器上的普N2充气阀。
有进气声，充满后（进气声停止）同时观察到仪器缝变宽。
3.“报警选择”打到“断水”打开仪器（左侧柜）“总控制电源”同时观察到电源“A”，“B”，“C”灯亮。
4.“报警选择”打到“断水”打开仪器（右侧柜）“总控制电源”同时观察到报警灯闪烁，电源“A”，“B”，“C”灯亮。
5. 升降电机选择“升”，边升边观察钟罩边缘线等。
6. 放样品。
7. 升降电机选择“降”，降钟罩，看边缘对齐。
8. 手动关普N2气瓶总阀，分压阀，浮子流量计和仪器上的N2充气阀。
9. 按下机械泵“启动”，按下罗兹泵“启动”，按下罗兹泵电磁隔断阀Ⅰ，手动开手动蝶阀（转90度使线水平）10. 开左侧柜真空计11. 接通冷却水电源（墙上），启动冷却水，水温小于20 0C(可调)，将左右柜上的“报警选择”都打到“报警”（上档）。
12. 打开分子泵电源“ON”按下Strat启动分子泵，等分子泵读数稳定为400.13. 观察真空计读数低于5Pa。
14. 关手动蝶阀（转90度使线竖直）。
15. 开左侧柜分子泵电磁阀Ⅱ.16. 开手动闸板阀到底再回来（18圈）17. 按下左侧柜“加热”功率限制4点，设定加热温度，再按STEP和△按校准钮选择温度，再按ENT确定。
18. 等待温度稳定，到真空度为5.4*10-4Pa。
19. 打开左侧柜流量显示仪电源到“通”，质量流量计预热，准备通气。
20. 关手动闸板阀，关分子泵，关右侧柜分子泵电磁隔断阀Ⅱ，开手动蝶阀（90度使线水平）。
21. 如果用射频确认“射频线接到仪器上，开射频电源：开灯丝开关，开板压开关，预热3~5分钟，准备通气。
22. 开复合真空计，开下面薄膜真空计。
23. 清洗气路：气瓶拧紧（1）开手动截止阀（开2圈），（2）再开Dci（i=123…6）。
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PECVD操作规程
1 目的：为规范PECVD操作流程，正确的操作设备、高效的进行
生产，特制定本规程。
2 适用范围：PECVD淀积车间。
3 职责：
3.1 操作不规范可能引起原材料硅片的损耗，在进行操作之前，
务必仔细阅读本规程。
3.2 熟练掌握每道操作步骤。
4 定义：PECVD操作人员只负责按规程操作，更改数据需技术部授
权。
5 运行程序：
5.1 检查设备外围的水、电、气是否满足设备的运行条件。
5.1.1 水：压力、流入量（大于设定值5）、温度（20 20C）应
同时满足。
(6－8bar左右)、压缩空气（6bar左右）的压力同
5.1.2 气：N
2
时满足。
5.2 打开电源的主开关，开启机器。
5.3 抽真空：顺序为工艺腔→进料腔→出料腔。
5.4 真空小于设定压力2.0×10-2时，点击“加载工艺”→再点击“启
动”→再点“开启传输系统”，待满足设备运行条件时，即可
将装有电池片的载板送入腔体内，系统会自动运行。
5.5在运行过程中，要时刻观察操作界面系统运行是否正常，出腔
后，稍作冷却，然后将电池片在载板上取下。
6 附件：
6.1 插片及取片
6.1.1 用吸笔轻轻的将硅片小心的放入载板内，此时要注意硅
片的正反面，插片时要将硅片扩散面（即正面）冲下。
6.1.2 硅片出腔后，取片时应小心，防止氮化硅薄膜受损。
技术部第一版
2008.7.11。