NCVM工艺简介ppt课件
手机工艺 PVD与NCVM
溅镀应用 G. Sputtering 溅镀应用
1.外观膜：金属、非金属、 1.外观膜：金属、非金属、多层膜 外观膜 2.光学膜 抗反射、全反射、 光学膜： 2.光学膜：抗反射、全反射、光柵 3.功能膜 功能膜： 隔绝、光学开关、 3.功能膜：IR or UV 隔绝、光学开关、EMI 4.透明导电膜 透明导电膜： 4.透明导电膜：ITO 5.显示器 显示器： 5.显示器：OLED 6.其他 6.其他
Confidential
NCVM与PVD的差別 C. NCVM与PVD的差別
★.颜 异：
PVD铝颜色为银白色
PVD镍颜色为银色带淡黃色
PVD铬颜色为银色带一点点 黑(与电镀颜色相似)
NCVM锡颜色为银色带 黑(比PVD铬深一点)
PVD不锈钢颜色为银色带咖 啡色
NCVM铟颜色为银色带一点点黑(与PV D铬相似) NCVM矽铝颜色为银黑色(比NCVM锡更 深)
Confidential
四、注意事项
1.素材禁止使用离模剂 1.素材禁止使用离模剂 素材禁止使用离模 2.素材要烘烤消除應力 2.素材要烘烤消除應力 3.烘烤过程胶圈要去除 3.烘烤过程胶圈要去除 4.严禁 4.严禁 触摸 Key 面，需有保護蓋 5.喷涂过程須严格控制配方 喷涂过程須严格控制配方、 5.喷涂过程須严格控制配方、条件与膜厚 6.首件確認要落實 外观、百格) 首件確認要落實( 6.首件確認要落實(外观、百格) 7.镀膜层表面不可擦拭或清洗 7.镀膜层表面不可擦拭或清洗 8.Primer—PVD—UV1过程要尽量 过程要尽量缩 8.Primer—PVD—UV1过程要尽量缩短时間
NCVM与PVD的差別 C. NCVM与PVD的差別
a. b. c. d. 功能特性－NCVM不导电， 功能特性－NCVM不导电，不会阻礙讯号 不导电 制程流程－相同（Primer－镀膜－H/C） 制程流程－相同（Primer－镀膜－H/C） 需求－ Primer 需求－因靶材而异 PVD靶材差异 PVD靶材差异 • 颜色差异 • 膜厚差异 • 透光差异
NCVM和EMI镀膜工艺
关于真空镀金属不导电膜NCVM-TNCVM鉴于目前流行的手机类IT配件真空镀金属不导电膜的巨大市场需求和大量的加工企业的涌现，本人以一个资深从业者的身份发表一些看法，以便给各位已经上此项目和准备上此项目的人士一点参考意见，请勿见笑。
所谓真空镀金属不导电膜，实质是在产品表面物理气相沉积一层金属或金属化合物薄膜，使产品表面拥有金属光泽和色彩并要求该膜层具有较大的电阻（并非完全不导电），一般以银白色不导电膜为主，还有部分是在银白色不导电膜表面进行各种颜色着色。
在这里，我主要讲高要求的银白色金属不导电膜的制作。
大家都知道，金属或金属化合物都具有导电性，只是导电程度不同而已。
但是，当金属或金属化合物呈一种薄膜的状态时，其相应的物理特性会有所不同。
常规的镀膜材料中，如：银是银白效果和导电性能最好的金属，但它厚度在5纳米以下时，它是不导电的；铝的银白效果和导电性比银稍微差一些，但它厚度在0.9纳米时，就已经具备导电性。
为什么会这样呢？那是因为银分子的连续性没有铝的好，所以在相对膜厚下，它的导电性反而较差。
我们真空镀金属不导电膜其实就是利用了某些金属的分子连续性差的原理，把它厚度控制在某个范围，使其具备银白色外观并且电阻超大。
由此可见，金属不导电膜的效果跟它的膜厚是直接相关的。
只有在固定的膜厚下，才能得到相应稳定的银白色不导电膜。
上面已经讲到，银白效果和导电性能最好的银在5纳米以下的厚度时，它是不导电的，那么，是不是可以用银来做我们需要的金属不导电膜呢？答案是否定的。
因为5纳米以下厚度的银基本上是透明无色的，尽管它不导电，但它不能同时具备银白色的效果。
同样，铝也不行。
所以，我们需要一种能够镀出银白色金属光泽并具有较大的电阻金属材料。
按照现目前的市场行情，大家所采用的是纯度在99.99%左右的锡。
厚度在30纳米以下的锡，连续性相当的差，但能取得银白色金属光泽并具有较大的电阻。
下面，我将主要讲讲在手机配件表面物理气相沉积锡的工艺。
NCVM制程介绍
NCVM的开发 的开发
如果成型素材的的VM面是 镜面, 特别是insertmolding件,在产品成型后 就会出现有很多的成型问 题(如:应力痕, 熔结痕,缩 水,麻点等问题), 到VM后 会将所有的缺陷放大,导致 良率很底, 所以我们可以 建议客户将模具的镜面改 成VDI-09的表面处理形式 (目前Lido 的front housing就是采用这种做 法).
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NCVM的开发 的开发
C.有的侧壁需要VM,但是下表面又不能VM到的状况,在设计VM 治具时可以在治具上加上一个大的倒角,利用VM金属的反弹 到侧壁上;
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NCVM的开发 的开发
此超声波线 不能做VM
此面是斜面 侧壁是VM面 由于客户要求此产品侧避进行VM,而且所以需要将绿色的遮蔽治具倒一个大 斜(如图红色面),这样才能喷到侧壁的VM面.
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波形在设定值的上下限之间 测试结果OK 测试结果
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NCVM的性能检测 的性能检测
2.皓石针探测仪测试原理
首先通过Network Analyzer测试临界NG和OK的 产品来校正Stud Scanner,得出测试允收范围, 然后产线才通过Stud Scanner全检产品,品管则 通过Network Analyzer抽检35pcs/shift,如果 , 出现异常,以Network Analyzer测试结果为准.
TNCVM= Tinted NCVM
2008/06
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NCVM工艺原理 工艺原理
电阻加热蒸发式真空镀膜机
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NCVM工艺原理 工艺原理
NCVM生流程介
镀膜方式
镀膜原理
制程
污染
毒性强 工业污染大 有大量废水废气
生产速度较慢 产能较小
污染少 使用原材皆经过SGS认证 符合TCO-99, ECO-99
生产速度快产能大(90sec/盘) 可连续性生产
污染少 使用原材皆经过SGS认证 符合TCO-99, ECO-99
品质异常难及时管控 产能大
生产性
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五、NCVM （真空溅镀）常见问题与解决方法
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NCVM （真空溅镀）工序八：镭雕
根据客户需求，镭射切割出不同的字符。 易镭雕 字符清晰，可做到局部透光、精美。 不影响后序加工
注意事项 镭雕功率，电流，频率，镭雕速度
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NCVM （真空溅镀）工序九：印刷
可在表面印刷名种字符 需用特殊的油墨； 再喷特殊的UV面漆保护， 达到字符常久耐磨擦； 可丝印，也可移印 用3M600#胶纸完全粘附5分钟后，成90° 角快速拉起。
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NCVM （真空溅镀）工序二：烘烤
• 把清洗干净的产品放入，以设定好温度（ 50~60° C）的 烤箱内烘干， 注意烘烤时间、温度（定时检测）, 检查是否已干透，表面是否清洗干净、有 无刮伤。 • 注意事项 • 1、温度的管控 • 2、时间的管控
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NCVM （真空镀）工序三：上治具
把清洗干净的产品摆放固定在专用的夹具上； 手不可以碰到产品表面； 可用干净的无尘布擦拭表面； 按规定的数量、统一的方向、一定的间距摆放
注意事项 选用特殊油墨
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NCVM工序（真空溅镀）十：喷涂（UV coating）
用全自动喷涂机在金属层表面涂装UV coating，来保护 金属层以及增加产品硬度和保证信赖性，（一般 14~20UM）；
真空镀膜(ncvm)工艺培训教材ppt-课件
编写人：张玉立 核准人：张经理
日期:08年03月20日
前 言：
• 1>.真空镀膜行业兴起背景：随着欧盟RoHS 指令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。 传统高污染之电镀行业已不符合环保要求， 必将被新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有 废水、废气等污染，在环保上拥有绝对优势， 必将兴起并普及。
• 因镀膜层太薄，故对底涂UV材料外观要求近乎苛刻，这就要求涂装室 洁净度极高。同时产品外观面积越大，不良率就可能就越高（目前奥科生 产车间洁净度为10000级，喷涂室、烤 箱、镀膜车间洁净度3000级）。
•
镀膜厚度目前主要通过光透过率及反射率来控制，镀层越厚，透光
率越差，反射率越高。
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二．真空镀膜的工艺特性:
2
• 一．真空镀膜技术及设备两百年发展史(1805-2007)
•1>. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、氧化法、离 子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生成法等。气 相生成法又可分为物理气相沉积法（physical Vapor Deposition简称PVD法）化学气相沉积法和放电聚合法等。
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• 二．真空镀膜的工艺特性:
• 2. 纳米级厚度、膜厚均匀。真空镀膜膜层厚度仅数SHI十至数百纳米
(一般≤0.2um)，膜层各部位厚度极为均匀。
• 例：镀铝层厚度达0.9nm时就可导电，达到30nm时性能就和固态铝材 相同，银镀层小于5nm时不能导电。各塑胶产品本身具有约0.5um的粗糙度， 结合第1条因素故塑胶表面均在镀膜前喷涂UV进行封闭流平，以达到理想 的镜面效果。
望远镜镜面镀铝成功。 • 1947年 美国国家光学实验室（DCLI）建立，用光透过率来控制薄膜的厚度。 • 1950年 溅射理论开始建立,半导体工业开始起步,各种微电子工业开始起步,塑料装饰膜开
真空镀膜(ncvm)工艺培训教材PPT课件
颜色不纯
由于反应不完全或杂质污染，膜层可能呈 现出不纯或斑驳的颜色。
分析方法
X射线衍射(XRD)
能谱分析(EDS)
分析膜层的晶体结构和相组成。
附着力测试
对膜层进行元素分析，了解各元 素的分布和比例。
通过划痕、拉拔等试验测定膜层 与基材之间的附着力。
显微观察
通过金相显微镜观察膜层的微观 结构，了解其均匀性、孔隙和缺 陷。
05
真空镀膜(NCVM)问题与 解决方案
常见问题
表面粗糙度大
镀膜后的表面粗糙，影响外观和使用性能 。
膜层不均匀
镀膜过程中，由于气体流动、温度分布不 均或反应物供应问题，可能导致膜层在表 面分布不均。
附着力差
镀膜层与基材之间可能存在弱附着力，导 致镀膜容易剥落。
孔隙率过高
膜层中存在过多的孔隙，影响其防护和装 饰效果。
04
真空镀膜(NCVM)技术参 数与优化
工艺参数
真空度
真空镀膜过程中，需要控制真空室的 真空度，以确保膜层的均匀性和附着 力。
温度
镀膜过程中，基材的温度对膜层的附 着力和性能有影响，需根据不同材料 和镀膜要求进行温度控制。
镀膜时间
镀膜时间的长短直接影响膜层的厚度 和均匀性，需根据工艺要求进行精确 控制。
防护眼镜
保护操作人员的眼睛免受镀膜过程中产生的 有害物质和紫外线的伤害。
夹具
用于固定基材，确保其在镀膜过程中位置稳 定。
手套
保护操作人员的手部免受镀膜过程中产生的 有害物质和高温的伤害。
03
真空镀膜(NCVM)工艺流 程
前处理
表面清洗
使用有机溶剂和超声波清洗技术去除 工件表面的污垢、油脂和杂质，以确 保镀膜层的附着力。
不导电电镀(NCVM)
电镀技术作为一种功能精饰技术，其合金镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性、致密度高等特点，已在电子产品中获得大量应用。
随着电子工业的迅猛发展，对电镀技术的要求越来越高，新技术、新产品、新工艺层出不穷。
NCVM 又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。
真空电镀，简称VM，是vacuum metalization的缩写。
它是指金属材料在真空条件下，运用化学、物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。
真空不导电电镀，又称NCVM，是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。
它的加工工艺高于普通真空电镀，其加工制程比普通制程要复杂得多。
编辑本段特点NCVM是采用镀出金属及绝缘化合物等薄膜，利用各相不连续之特性，得到最终外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。
首先要实现不导电，满足无线通讯产品的正常使用；其次要保证“金属质感”这一重要的外观要求；最后通过UV 涂料与镀膜层结合，最终保证产品的物性和耐候性，满足客户需求。
NCVM可应用于各种塑料材料，如PC、PC+ABS、ABS、PMMA、NYLON、工程塑料等，它更符合制作工艺的绿色环保要求，是无铬（Non-Chrome）电镀制品的替代技术，适用于所有需要表面处理的塑料类产品，特别适用于有讯号收发的3C产品，尤其是在天线盖附近区域，如MobilePhone、PDA、Smart Phone、GPS卫星导航、蓝芽耳机等。
NCVM的主要特征是结合了传统真空镀膜技术的特性，采用新的镀膜技术、新的材料，做出普通真空电镀的不同颜色的金属外观效果，起到美化工件表面之功用。
采用NCVM技术制出的成品可以通过高压电表几万伏特的高压测试，不导通或不被击穿。
正是因为它的不导电性，当手机或蓝牙耳机收讯或是发射讯号时，产生的电磁场不被导电的镀层所屯积，从而不影响手机的RF（射频）性能以及ESD（静电放电）性能，也就是说使得无线产品达到更好的收讯效果，无杂音，更不会对人体产生任何影响。
NCVM涂装工艺介绍.
加熱系統的主要功能就是利用電阻絲 加熱,將欲鍍物質加熱,達到蒸發(或直接由固 體升華為氣體)﹐從而達到使原子或分子飛向 并沉積在工件表面的目的.
C)動力系統
驅使被鍍物做規律性運動,從而達到均勻 鍍層的目的.
1-4.真空镀膜方法比较
PVD 三种镀膜方法比较
项目 真空蒸镀 镀金属 能 镀合金 能，但困难 镀高溶点化和物 能，但困难 沉积离子能量 0.1~1eV 沉 积 速 度 µm/min 0.1~75 镀层外观 光 泽 ~半 光 泽 镀层密度 较低 镀层孔隙度 中 界面 界面清晰 附着性 不太好 膜的纯度 取决材料纯度 基片镀膜 仅面对蒸发源 情况 表面被镀膜 表面处理 脱气辉光放电 常 用 压 强 Torr 厚度均匀性 机理 10-5 ~10-6 不太均匀 真空蒸镀 PVD 溅射镀膜 能 能 能 1~10eV 0.01~2 半 光 泽 ~无 光 泽 高 少 很清晰 较好 取决靶材纯度 面对靶材表面 被镀膜 溅射刻蚀 1.5×10-1~2×10-2 均匀 辉 光 放 电 .溅 射 CVD 离子镀 能 能，但困难 能，但困难 30-1000eV 0.1~50 半 光 泽 ~无 光 泽 高 少 有扩散 非常好 取决材料纯度 所有表面完全 被镀膜 溅射清洗 2×10-1 ~5×10-3 均匀 辉光放电 能 能 能 几 ~几 百 高 极少 有扩散 非常好 纯度较高 所有表面完全 被镀膜 脱气 103-10-3 均匀 气相化学反应
基材
Types of NCVM Coatings - I
Top coat Top coat Middle coat Vapor Metal Basecoat Primer Plastic material (PA+GF) Film structure on PA+GF
电镀资料
纯棉布蘸无水酒精（浓度≥99.5％），施加 175g力，在表面摩擦200个循环
网络分析仪测试，中间射频1.75GHz，上限范围为 1.95GHz，下线范围1.55GHz
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干扰测试
不超过此范围为OK
NCVM介绍
六、目前的技术水平及在同行业的地位
1、已与国内外多家知名客户展开合作，提供产品服务，目 前产品已经通过认证测试的客户有：
UV喷涂（UV coat）
NCVM介绍
五、欣旺达NCVM配套设备介绍以及产能评估:
1、欣旺达NCVM配套设备介绍:
（1）、万级无尘生产车间;
NCVM介绍
（2）、拥有多条进口的全自动1涂1烤的UV喷涂线;
NCVM介绍
（3）、拥有多台进口多功能磁控溅射镀膜机;
NCVM介绍
2、欣旺达NCVM产能评估及产品性能:
（1）当前产能评估及生产合格率：
真空镀膜：20000PCS/日; UV喷涂：40000PCS/日;
生产合格率：60%~80%;
NCVM介绍
3、NCVM产品优良的品质及物理性能:
序号 1 2 3 4 5 6 7 测试项目 附着力（百格测试） 铅笔硬度测试 RCA耐磨测试 橡皮擦耐磨测试 高温高湿测试 恒湿恒温测试 耐醇测试 测试方法 用刀片划1mm2小格，用粘附力为350-400g/cm2胶纸 在同一位置拉三次； 用三菱2H铅笔以45º 角500g力滑动5条5mm长 专用的耐磨纸带测试仪，载荷175g力 用橡皮擦施加175g力来回磨擦 在温度60℃，湿度为90%存放72H 在-40 ℃条件下存放72H 测试标准 掉漆在15%以下为合 格 无划伤，无见底为OK 250～300cycle不流底 材为OK 1000次不见底为OK 产品表面无异常为OK 产品表面无异常为OK 产品镀层不透底为OK
NCVM制程 简介
Ncvm Quality Control
Ite m Inspection method 2H pencil 2H铅笔 2H铅笔 Drawing dim. Nominal surface hardness (10N/50mm) 表面硬度(10N/5 (10N/5条 表面硬度(10N/5条) cross test 百格測試 (175g/250cycles) 耐磨耗性(175g/250 (175g/250回 耐磨耗性(175g/250回) abrasive resistance(175g/1000cycles) 耐磨耗性(175g/1000 (175g/1000回 耐磨耗性(175g/1000回) ethanol resistance(dip in2H) 耐酒精測試(浸泡2H) 耐酒精測試(浸泡2H) high temp.resistance( 90% 65℃ 96H) 耐高溫測試( 90% 65℃ 96H) low temp. resistance( -40℃ 96H) 耐低溫測試( -40℃ 96H)
NCVM 概論
(Non Conductive Vaccum Metalization) In Brief
Contents
Evaporation& Sputter What is Non-Conductive Vacuum Metallization (NCVM)? NCVM Process Flow NCVM Production Line Layout Coxon’s NCVM Production Capacity
蒸鍍(Evaporation)原理 蒸鍍(Evaporation)原理 (Evaporation)
表面蒸著即是真空蒸鍍， 表面蒸著即是真空蒸鍍，其原理是在 真空中把製造薄膜的物質加熱蒸發並 使其蒸氣附著在部品適當的表面的過 程。蒸發的過程就是熱交換的過程， 蒸發的過程就是熱交換的過程， 用這種方法製作的薄膜稱爲真空蒸鍍 薄膜。 薄膜。
真空镀技术-NCVMPPT课件
生产效率低
由于需要抽真空和加热等前期 准备和后处理工作，导致生产
效率相对较低。
对环境要求高
真空镀技术需要在高度洁净的 环境中进行，对环境要求较高
。
操作难度大
真空镀技术需要专业人员进行 操作和维护，操作难度较大。
真空镀技术的改进方向
提高效率
通过改进工艺和设备， 提高生产效率和降低成
本。
扩大应用范围
研究新的镀膜材料和工 艺，以扩大真空镀技术
真空镀技术的发展趋势与未来展望
01
02
03
智能化与自动化
随着科技的发展，真空镀 技术将趋向于智能化和自 动化，提高生产效率和产 品质量。
新材料与新工艺
未来真空镀技术将不断探 索和应用新材料、新工艺， 以满足更广泛的应用需求。
绿色环保
随着环保意识的提高，真 空镀技术将更加注重绿色 环保，减少对环境的负面 影响。
加热的方式有多种，如电阻加热、高频感应加热等，根据不同的材料和需求选择合 适的加热方式。
需要控制加热温度和时间，以获得最佳的镀膜效果。
镀膜
在镀膜阶段，蒸气分子在待镀 表面凝结并形成固态薄膜。
控制镀膜的厚度和均匀性是关 键，可以通过调节蒸气流速、 温度和时间等参数来实现。
镀膜过程中需要注意防止杂质 和污染物的引入，以保证镀膜 的质量和性能。
镀后处理
镀后处理包括冷却、退火、清洗等环节，以优化镀膜的机械性能和稳定性。
冷却过程需缓慢进行，以减少热应力对镀膜的影响。退火处理则可以提高镀膜的 晶格结构和致密度。清洗环节则主要是去除残留物和污染物，提高镀膜表面的清 洁度。
04
真空镀技术的设备与装 置
真空泵
01
02
03
PVD与NCVM制程介绍
Target
Anode (+)
Coating Atoms/ Molecule
Substrate
G R O U P
一.PVD 原理介紹
B.3 離子鍍
離子源
Ti+N2→TiN(x) △
基板
離子束
靶 材
G R O U P
一.PVD 原理介紹
C. 圓桶型蒸鍍機介紹
爐式機台
G R O U P
一.PVD 原理介紹
Out
G R O U P
一.PVD 原理介紹
E.蒸鍍與濺鍍比較 E.蒸鍍與濺鍍比較
Evaporation △ ○ 多 X 長 低 低 一般 Sputtering ○ X 少 OK 短 高 中 優
G R O U P
Thickness Uniform 側邊均勻性 靶材限制 In-Line 設計 每模時間 設備成本 單價 素材接著力
G R O U P
1.素材禁止使用離模劑 1.素材禁止使用離模劑 2.素材要烘烤消除應力 2.素材要烘烤消除應力 3.烘烤過程膠圈要去除 3.烘烤過程膠圈要去除 4.嚴禁觸摸 4.嚴禁觸摸 Key 面，需有保護蓋 5.噴塗過程須嚴格控制配方 噴塗過程須嚴格控制配方、 5.噴塗過程須嚴格控制配方、條件與膜厚 6.首件確認要落實 外觀、百格) 首件確認要落實( 6.首件確認要落實(外觀、百格) 7.鍍膜層表面不可擦拭或清洗 7.鍍膜層表面不可擦拭或清洗 8.Primer—PVD—UV1過程要盡量縮短時間 8.Primer—PVD—UV1過程要盡量縮短時間
連續式機台
G R O U P
一.PVD 原理介紹
InD. In-Line Sputtering 介紹
In
NCVM技术介绍
NCVM技術介紹作者:佚名电镀技术作为一种功能精饰技术，其合金镀层具有优异的耐磨性、耐蚀性、镀层厚度均匀性、致密度高等特点，已在电子产品中获得大量应用。
随着电子工业的迅猛发展，对电镀技术的要求越来越高，新技术、新产品、新工艺层出不穷。
NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。
真空电镀，简称VM，是vacuum metalization的缩写。
它是指金属材料在真空条件下，运用化学、物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。
真空不导电电镀，又称NCVM，是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。
它的加工工艺高于普通真空电镀，其加工制程比普通制程要复杂得多。
1、什么是NCVM ？NCVM技术是使塑胶及其板材具有金属化外观，同时镀层又处于特殊绝缘结构，电阻率高达109Ω.M，镀层不对任何高频信号产生衰减，可以有效地保证通讯信号的传输与接收，同时又具有金属镀膜镜面效果，且颜色丰富，是理想的3C产品镜面和外观部件的高技术材料。
2、技术与产品应用（1）该技术可以广泛应用于PMMA，PC手机镜片和按键镀膜（2）仪器面板，MP4，数码相机和其它电子通讯产品窗口镀膜（3）和UV等结合，制造出绚丽多彩的NCVM外观件VM就是真空溅镀，NCVM是其中的一种， Non conductive vacuum metalization；普通电镀的塑件在电镀区域是导电的，而NCVM的塑件在电镀区域是不导电的。
NCVM可以做出带颜色的金属效果的产品出来，同时由于它的不导电性能，又不影响手机的RF 性能以及ESD。
NCVM的制程比较复杂，如果要做出带颜色的金属效果的产品出来，需要四五次的涂烤。
一般的ＶＭ制程工序为Base coating - middle coating - VM- top coating 即我们所谓的三涂，也有做两涂或四涂的，以产品不同.导电与不导电主要取决与靶金属的不同，举个例子，同样是银色效果，导电的话靶金属就是锌，若是不导电靶金属就是锡，而且膜厚要控制的很薄才行大概是５～８UM，厚了一样会导电．制程良率比较低．导电的ＶＭ制程量产良率杂在８５％～９０％之间．不导电ＶＭ制程量产良率在７０％以下．况且宣称是不到电可我们那去测阻抗远不能达到不导电的效果.1.良率：NCVM的良率比传统的水电度要高，但是如果产品面积较大，则相应会低些；2. 应用：近几年NCVM在手机镜片、外壳、内部结构件以及汽车等内部塑料件应用较多，特别在手机零件上的应用有上升趋势；目前众多手机厂商已经开始将VM应用在整套手机殼上的工艺研究；3. 性能：NCVM在第二道工艺后的性能其实相当脆弱，因为那是金属在原子雾状态下吸附于塑料壳表面的，完全暴露于空气中，由于此时的金属膜层具有一定“金属活动性”，因此像指紋~刮碰~等接触都是直接影响外观与性能，但是在经过TOP-COATING 后(表面经过UV烘烤)后，性能就大大提高，因为那时在最外层的不再是金属膜，而是硬化的油漆！4. 衍生：NCVM可以达到金属亮色，白色，灰色的效果，依据不同的金属靶材决定，如铬，铝，镍，钴等；初次之外，VM可以达到“彩色金属”的效果，即”彩镀“；方法有很多，一是在VM炉中加入色粉，成本较低；另一种是通过TOP-COATING油漆的颜色实现，因此实际上并不一定是金属本色，而是油漆的颜色，另外，VM还可以产生半透明效果(彩色白色都可以)，在手机上用的较多NCVM的色差问题造成的原因很多，如果是批量出现，与电镀的关系较大。
设计工艺知识
设计工艺知识一、什么是NCVMNCVM是英文Non conductive vacuum metalization的缩写，又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。
真空电镀，简称VM，是vacuum metalization的缩写。
它是指金属材料在真空条件下，运用化学、物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。
真空不导电电镀，又称NCVM，它的加工工艺高于普通真空电镀，其加工制程比普通制程要复杂得多。
二、NCVM的工艺流程如下示意图是NCVM工艺流程的实景图：膜层示意图如下：很多情况下为了提高底、中漆的附着性并提高产品抗水煮性，很多工厂采用在镀膜层上面喷涂一层处理剂（厚度1-2um）；三.镀膜常见问题点及原因分析1.镀膜偏黄或偏蓝镀膜材料质量过大会偏黄，过少会偏蓝一些。
另如果真空镀炉如果气密性差，或真空规管出现异常的情况下，炉腔内真空度不够，会造成镀膜层整体发蓝；2.少镀镀膜时产品放置的层间距太小会导致产品顶部和底部有少镀现象，需要通过在两层之间增加套筒以加大层间距来改善；有的产品结构比较复杂，造成某些背对蒸发源的部位少镀，一般通过降低产品放置密度来改善；3.镀膜层耐压测试击穿镀膜层太厚造成膜层电阻小，测试时呈导通状态。
一般情况下我们需要减少镀材的质量，降低镀膜层厚度以提高其电阻。
正常生产状态下会有极微小的概率出现耐压测试NG，通过对镀膜机进行两次空载抽真空可以解决该异常；所以在打样及生产过程中都需要对每炉产品进行耐压抽测，要求至少达到30KV无击穿4.镀膜后雾面无金属光泽底漆UV固化能量不够，造成UV底漆未能完全固化，通过提高底漆能量改善。
有些超大或结构复杂的表面需要注意调整UV 等的角度及距离，保证喷涂表面都能照射到足量的UV光，如果有些部位照射不到会造成雾面，无金属光泽的现象；四、NCVM与结构设计1.素材材质一般采用PC或PC GF(10%)，避免选用PA GF；主要是由于PA GF材料硬度高，表面极性小，不利于油漆附着；2.素材表面的纹路：产品表面要求省光面，高光性为NCVM的装饰特性，如果产品表面为纹面NCVM后产品会有发麻现象，影响高光效果；3.NCVM部件不采用金属材质，首先金属键采用NCVM是工艺上的重复与浪费，另外金属键的NCVM外观及性能差；4.需要做NCVM的主要壳料，其棱角需R0.5以上，装饰件类产品R0.3以上，宽度1.2mm以上，以保证整机振动耐磨测试；5.部件PL面需倒R0.1或者做0.2直伸边,避免尖角造成牙边问题；6.外型轮廓的R角大于0.3(建议0.4-0.5)；7.尽量避免出现连续的厚薄胶位；8.NCVM颜色不能太深，色浆添加比例3%以上存在水煮起泡，掉百格的风险；9.大平面、孔边缘、直角边位置NCVM会存在积油问题，尽量避免使用；。
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信
高 效
3
PVD 與 NCVM 製程介紹
VM：
Vacuum Metallization 真空金屬化
专
C-VM：
业
Conductive VM 導電真空鍍膜
诚 信
NC-VM： Non-conductive VM 非導電真空鍍膜
TNCVM：
高
Tinted-NCVM 染色非導電真空鍍膜
效
4
1、蒸鍍
专
业
Evaporation
诚 信
高 效
PVD 與 NCVM 製程介紹
Substrate Cloud Material
Vacuum chamber
Heater
5
PVD 與 NCVM 製程介紹
2、濺鍍
专 业
诚
Target
信
高 效 Argon
Gas
Coating Atoms/ Molecule
Substrate
Cathode (-) Secondary Electrons Plasma
转序
真空电镀
面漆喷涂
中漆喷涂
三涂产品生产工艺流程
極負極 Sn絲蒸發
源(鎢絲)
電極銅棒
﹢ ﹣﹢
17
NCVM工艺原理
真空电镀结构 专 业
诚 信
表面涂层
高
中间涂层
效
真空电镀层
底部涂层
基材
(PC+ABS /PC/ABS/PA+GF)
产品是否需要中涂，视产品性能要求而定。一般产品直接在面涂中上色即可
18
NCVM工艺原理
专 业
诚
清洗除尘
信
高 效
静电除尘
底漆喷涂
背面印刷製程的顏色取決於PVD或NCVM的靶材本
诚 身顏色，因此顏色的選擇性較少，若無字體，則可將 信 PC素材注塑成有顏色，在背面PVD之後，就會有有色
高 金屬的質感。 效
15
PVD 與 NCVM 製程介紹
NCVM與PVD的差別 专 PVD靶材差異 业 透光差異：
NCVM由於鍍膜層會透光，因此做正面噴塗時會 诚 有表面透光的問題，造成L/E字體在背光源打開時的 信 對比變差。 高 效
NCVM工艺简介
讲师： Waals 日期：2016.11.12
;.
1
PVD 與 NCVM 製程介紹
何謂 PVD？
PVD(Physical Vapor Deposition)物理氣相沉積法,顧名思義此種薄膜形成的方式乃
专
利用外力(能量),使靶材(Target = Al)由固體變成氣體,慢慢堆積在物體表面，形成均勻
稱為非導電PVD製程，由於一般PVD製程所用的金屬
诚 為優良導體，因此PVD金屬化都是導電的，NCVM採用 信 特殊金屬，因此可做出具有金屬光澤同時具備非導
高 電性質的薄膜。 效
8
PVD 與 NCVM 製程介紹
为什么需要NCVM？
专
手機訊號(RF)收發時，若訊號碰到導體，則會受
业 干擾造成訊號變差，甚至訊號無法穿透而無法作，因
Anode (+)
6
PVD 與 NCVM 製程介紹
3、离子鍍
专 业
诚 信
高 效
離子源
Ti+N2→TiN(x) △
離子束
靶材
基板
7
PVD 與 NCVM 製程介紹
NCVM是什么？
专
NCVM (Non-Conductive Vacuum Metalize)顧
业 名思義，為一種非導電的真空金屬化鍍膜製程，或
信 屬靶材的接著性，避免因接著不足而產生百格脫落
問題。
高
就靶材來說，鋁靶的接著效果是最穩定的。
效
11
PVD 與 NCVM 製程介紹
NCVM與PVD的差別：
PVD靶材差異：
专 业
種類差異：
PVD常使用鋁(Al)、鎳(Ni)、鉻(Cr)、不锈钢(SUS)；
诚 NCVM使用靶材錫(Sn)、銦(In)、硅鋁(SiAl)。 信
业
的薄膜。ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
此薄膜本質上透過物理性變化,所以製程前後靶材性質變無改變,依據公司案例,我們
诚
將鋁靶變成鋁膜,製程前後仍然是鋁。
信
高 效
2
PVD 與 NCVM 製程介紹
PVD 的種類:
一般常見三種方法：
专
1.蒸鍍(Evaporation)
业
2.濺鍍(Sputtering)
诚
3.離子鍍(Ion-Plating)
膜厚差異：
高 效
PVD從很透光到不透光都可以；
NCVM從很透光到半透光，現況無法做到不透光。
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PVD 與 NCVM 製程介紹
NCVM與PVD的差別： 专 PVD靶材差異 业 顏色差異：
PVD鋁顏色為銀白色； 诚 PVD鎳顏色為銀色帶淡黃色； 信 PVD鉻顏色為銀色帶一點點黑(與電鍍顏色相似)；
PVD不鏽鋼顏色為銀色帶咖啡色； 高 NCVM錫顏色為銀色帶黑(比PVD鉻深一點)； 效 NCVM銦顏色為銀色帶一點點黑(與PVD鉻相似)；
业 B、製程流程－相同（Primer－鍍膜－H/C）
C、Primer 需求－因靶材而異
诚 D、PVD靶材差異
信
• 顏色差異
高
• 膜厚差異
效
• 透光差異
10
PVD 與 NCVM 製程介紹
NCVM與PVD的差別:
专
Primer 需求:
业
PVD使用的靶材為鋁(Al)，NCVM使用的靶材為錫
诚
(Sn)或銦(In)，因此Primer材料必須思考與不同金
PVD 打光效果佳
NCVM 打光效果差
16
NCVM工艺原理
在真空狀態下﹐將欲鍍物質(如金屬或合金或其化合物) 通過直接或間接加熱﹐使之熔解﹐然後蒸發(或直接由固體 专 昇華為氣體)﹐獲得足夠能量的原子或分子飛向並沉積在工 业 件表面﹐沉積一定厚度的膜層。
诚 信
高
效
熱耦電阻加熱電
極正極
熱耦電阻加熱電
此PVD製程會使訊號穿過按鍵時產生干擾。
诚
由於PVD製程能使塑膠表面變成金屬外觀，因此
信 受客戶青睞，為了此外觀需求，於是我們開發NCVM製
高 程，讓产品具有PVD金屬外觀，同時又不導電，一舉 效 兩得。
9
PVD 與 NCVM 製程介紹
NCVM與PVD的差別：
专 A、功能特性－NCVM不導電，不會阻礙訊號；
NCVM矽鋁顏色為銀黑色(比NCVM錫更深)。
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PVD 與 NCVM 製程介紹
NCVM與PVD的差別：
PVD靶材差異
专 业
正面噴塗配色差異： PVD顏色較淺,偏銀白色,因此外觀可以做淺色有色金屬的
诚 外觀,例如:淺紅金屬色、亮橘金屬色,要做深色比較困難,會產生
信 色差顏色分布不均勻,例如:黑色金屬色、深藍黑金屬色等。
NCVM顏色比較深,因此外觀可以做深色有色金屬的外觀, 高 例如：黑色金屬色、深藍黑金屬色等.做淺色有色金屬色會做 效 不出來,例如：淺紅金屬色、亮橘金屬色,因為淺色塗料在深色
金屬上,其顏色也會透底色而變深。
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PVD 與 NCVM 製程介紹
NCVM與PVD的差別:
PVD靶材差異
专 业
背面印刷配色差異：