Bi3.15Eu0.85Ti3O12铁电薄膜的结构与光学性能

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Ｂｉ１Ｅｕｏ８５Ｔ３２电薄膜的结构与光学性能３５ｉＯ１铁
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阮凯斌，伍广亨，周洪，刘银春
（．福建农林大学机电工程学院，建福州１福３００；５０２２．中山大学物理科学与３程技术学院光电材料与技术国家重点实验室，广东广州５０７）－１２５
度的升高而增大，ＳＭ观察结果一致。对Ｂｕ与ＥＥＴ薄膜的拉曼光谱研究表明，ｕ主要取代钙钛矿层中的ＥＢ位。光学透过率曲线显示，ｉ在大于５０ｎ的波段，Ｂｕ０ｍ各ＥＴ薄膜的透过率均比较高，其禁带宽度约为３６ＶＢｕ．９ｅ。ＥＴ薄膜的发光随着退火温度的升高而增强，可归因于其结晶状况的改善。这
摘要：采用化学溶液沉积法在石英衬底上制备了ＢＥＴ，Ｂｕ）ｉｕｉ：ＥＴ铁电薄膜，０（研究了Ｂｕ薄膜的结ＥＴ
构和光学性能。ＸＤ结果表明，同温度退火的ＢｕＲ不ＥＴ皆形成铋层状钙钛矿型结构，晶粒尺寸随着退火温其
关键词：膜；致发光；学溶液沉积法；学透光率薄光化光文献标识码：ＡＤ：１．７８ｆｂ０２３７０５ＯＩ０３８／ｇ２１３０．７４ｘ
中图分类号：４３０４
ＳｒｔａｎＯｐｔｃｌＰｒｐｒｉｓｏｔｕｃｕｒｌａｄｉａｏｅｔｅｆ
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第３３卷
第７期
发光学报
ＣＨＩＮＥＳＯＵＲＮＡＬＯＦＬＥＪＵＭＩＮＥＳＣＥＮＣＥ
Ｖｏ．Ｎｏ７１３３．
２１０２年７月
Ｊｌ２２ｕｙ，０１
文章编号：１０－０２２１）７０５－６００７３（０２０－７４０