【CN209791522U】一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备【专利】
【CN209997992U】一种玻璃颗粒清洗机【专利】
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)实用新型专利(10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201920460287.4(22)申请日 2019.04.08(73)专利权人 长沙浩发再生资源有限公司地址 410600 湖南省长沙市宁乡县流沙河镇长盛村十三组肖菊梅家(72)发明人 肖新华 (74)专利代理机构 长沙中海宏图专利代理事务所(普通合伙) 43224代理人 左卫泽(51)Int.Cl.B08B 3/02(2006.01)B08B 3/10(2006.01)B08B 3/06(2006.01)B08B 3/14(2006.01)B08B 11/00(2006.01)B08B 13/00(2006.01)(54)实用新型名称一种玻璃颗粒清洗机(57)摘要本实用新型涉及一种玻璃颗粒清洗机，包括机体，所述机体内上下分为清洗室和储水室，所述清洗室内设置有筛筒，所述筛筒一端环设有凸条另一端设置有转轴，所述转轴一端与筛筒连接另一端穿过机体与设置在机体外的电机的传动轴相连接，所述凸条对接在托轮上，所述托轮设置在与凸条同侧的机体内壁上。
该玻璃颗粒清洗机可以对玻璃颗粒循环清洗，清洗效果更佳，且冲洗水可以多次循环利用节约了水资源。
权利要求书1页 说明书3页 附图1页CN 209997992 U 2020.01.31C N 209997992U权 利 要 求 书1/1页CN 209997992 U1.一种玻璃颗粒清洗机，包括机体（1），其特征在于所述机体（1）内上下分为清洗室（2）和储水室（3），所述清洗室（2）内设置有筛筒（4），所述筛筒（4）一端环设有凸条（5）另一端设置有转轴（6），所述转轴（6）一端与筛筒（4）连接另一端穿过机体（1）与设置在机体（1）外的电机（7）的传动轴相连接，所述凸条（5）对接在托轮（8）上，所述托轮（8）设置在与凸条（5）同侧的机体（1）内壁上。
2.根据权利要求1所述的玻璃颗粒清洗机，其特征在于所述筛筒（4）下设置有倒锥形活性炭过滤网（9），所述清洗室（2）与储水室（3）之间通过设置水管c（15）相互连通，所述储水室（3）内设置有水泵a（10）和水泵b（11），所述水泵a（10）和水泵b（11）分别接通有水管a（12）和水管b（13），所述水管a（12）的出水口延伸到清洗室（2）内，所述水管b（13）从筛筒（4）的中心线延伸到筛筒（4）内，且水管b（13）位于筛筒（4）内的那部分上设置有喷头（14）。
一种粉体材料表面低温等离子体处理装置[实用新型专利]
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专利名称：一种粉体材料表面低温等离子体处理装置专利类型：实用新型专利
发明人：王红卫
申请号：CN201120333721.6
申请日：20110907
公开号：CN202205701U
公开日：
20120425
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本实用新型提供了一种粉体材料表面低温等离子体处理装置，所述装置包括电极、流化床、流量调节器、气瓶、等离子体电源发生器、粒子过滤阱以及真空泵，气体经流量调节器从流化床底部喂入，真空泵通过管道与粒子过滤阱连接，粒子过滤阱连接流化床的上部，流化床外壁设有电极组。
本实用新型适合于处理粉体物料，实现单个微粒的表面得到全部的处理，处理均匀性好，处理效率高，处理效果理想。
申请人：苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
地址：215000 江苏省苏州市高新技术产业开发区泰山路2号
国籍：CN
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【CN209708938U】等离子体流化床粉体处理装置【专利】
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)实用新型专利(10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201920566003.X(22)申请日 2019.04.24(73)专利权人 南京奥依菲光电科技有限公司地址 210000 江苏省南京市经济技术开发区兴科路12号科创基地308室(72)发明人 余柯涵 许天昊 马裕杰 王倩倩 刘陈威 韦玮 (74)专利代理机构 南京德铭知识产权代理事务所(普通合伙) 32362代理人 肖念(51)Int.Cl.H01J 37/20(2006.01)(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利(54)实用新型名称等离子体流化床粉体处理装置(57)摘要本实用新型提供一种等离子体流化床粉体处理装置，包括：直立设置的变径流化床体，由至少两段不同内径的圆管组成；微波发生器；开圆孔的矩形波导；微波磁控管产生的微波通过矩形波导耦合进入变径流化床体，在床体内部产生等离子体；馈气系统，向变径流化床体口补入单一或者混合气体；旋风分离器，用以回收粉体并重新循环。
变径流化床体顶部的出气口经由一四通管分别与真空计、放气阀和旋风分离器的进气口连接，旋风分离器的出气口通过并联的角阀与精确调控阀连接到真空泵；旋风分离器的出粉口通过循环导管与变径流化床体的侧面连通。
变径流化床体的底部圆管与进气口之间设置有气体分布器，用以使气流分布均匀并承载粉体。
权利要求书1页 说明书4页 附图1页CN 209708938 U 2019.11.29C N 209708938U权 利 要 求 书1/1页CN 209708938 U1.一种等离子体流化床粉体处理装置，其特征在于，包括：直立设置的变径流化床体，由至少两段不同内径的圆管组成，圆管的管径由下至上依次递增；所述变径流化床体的顶部设置有出气口，底部设置有进气口；微波发生器，通过微波磁控管产生微波；耦合装置，构造为上下开圆孔的矩形波导，所述变径流化床体穿过所述圆孔；所述微波磁控管产生的微波通过矩形波导耦合进入变径流化床体，在床体内部产生等离子体；馈气系统，被设置通过输气管路向所述变径流化床体的进气口补入单一或者混合气体；旋风分离器，被设置用以回收粉体并重新循环进入变径流化床体；其中，所述变径流化床体顶部的出气口经由一四通管分别与真空计、放气阀和旋风分离器的进气口连接，旋风分离器的出气口通过并联的角阀与精确调控阀连接到真空泵；旋风分离器的出粉口通过循环导管与变径流化床体的侧面连通，使得通过旋风分离器分离出的粉体被回收重新进入流化床体；所述变径流化床体的底部圆管与进气口之间设置有气体分布器，用以使气流分布均匀并承载粉体；其中，所述微波发生器还被设置用于向变径流化床体进行微波加热，通过微波加热使得变径流化床体内反应室的加热温度达到500℃以上。
一种等离子体处理装置及其处理方法
一种等离子体处理装置及其处理方法随着科学技术的不断进步，等离子体处理技术在材料加工、环境保护、医疗等领域得到了广泛的应用。
本文将介绍一种新型的等离子体处理装置及其处理方法，旨在提高等离子体处理的效率和质量。
一、背景等离子体是由气体中的电离气体分子组成的第四态物质，具有高温、高能、高活性等特点。
等离子体在清洁表面、改善物质表面性能、杀灭细菌等方面具有独特的优势，在电子工业、材料加工、医疗卫生等领域具有重要的应用价值。
二、等离子体处理装置的结构及原理1. 等离子体处理装置的结构该装置包括等离子体发生器、等离子体处理室、气体供给系统、电源控制系统等部分。
等离子体发生器用于产生等离子体，等离子体处理室则用于对待处理物体进行等离子体处理。
2. 等离子体处理装置的原理等离子体处理装置通过激发气体分子产生等离子体，利用等离子体的高温、高能特性对待处理物体进行表面清洁、杀菌消毒、表面改性等处理。
在这个过程中，等离子体处理装置所伴随的实体化学变化为提升材料处理效率提供了基础。
三、等离子体处理方法及其优势1. 等离子体表面处理方法通过对待处理物体的物理性能和化学性能进行研究，采用辅助助剂或气体局部作用等方式，实施等离子体表面处理方法。
通过等离子体表面处理，可以获得材料表面的清洁度和粗糙度，提高材料的表面粘接性，增强附着力，改善表面性能。
2. 等离子体杀菌消毒方法等离子体杀菌消毒方法利用等离子体的高能特性对微生物进行杀灭，可有效减少微生物数目，达到消毒杀菌的效果，适用于医疗卫生、食品加工等领域。
3. 等离子体表面改性方法通过等离子体的物理、化学作用改变材料表面的化学组分和结构，实施等离子体表面改性方法，可以有效提高材料的耐磨性、耐腐蚀性、附着性，改善材料的表面性能。
等离子体处理方法的优势在于处理速度快、效果好、环保、无化学污染等，适用于各种材料的表面处理，具有广泛的应用前景。
四、等离子体处理装置及其处理方法的应用展望随着现代工业的发展，对材料表面性能要求越来越高，等离子体处理技术将会得到更广泛的应用。
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201920433680.4
(22)申请日 2019.04.01
(73)专利权人 深圳市奥普斯等离子体科技有限
公司
地址 518000 广东省深圳市龙岗区宝龙街
道宝龙社区宝龙四路2号安博科技宝
龙厂区3号厂房1楼
(72)发明人 欧阳军 朱威
(74)专利代理机构 深圳市中科创为专利代理有
限公司 44384
代理人 梁炎芳 谭雪婷
(51)Int.Cl.
B01J 19/08(2006.01)
B01J 3/03(2006.01)
(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
(54)实用新型名称
一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设
备
(57)摘要
本实用新型公开了一种颗粒和粉体材料等
离子体表面处理设备，包括真空外腔、
真空内腔、颗粒搅拌机构及等离子体发生器，所述真空内腔
设在真空外腔内，所述颗粒搅拌机构设在真空内
腔内；所述真空外腔右侧设有真空抽气口及进气
口，所述真空内腔包括反应仓及过滤网板，所述
进气口与真空内腔右侧连通；所述等离子体发生
器包括电极组及等离子体发生电源。
本实用新型
通过颗粒搅拌机构对粒子进行搅拌，处理均匀；
同时设置真空外腔及真空内腔，密封良好，防止
处理粒子外溢；在真空内腔设置过滤网板，可处
理颗粒和粉体的粒径范围广，通过激发不同种类
的等离子体对粒子表面进行亲水、疏水、包覆涂
层等功能化处理。
权利要求书1页 说明书5页 附图2页CN 209791522 U 2019.12.17
C N 209791522
U
权 利 要 求 书1/1页CN 209791522 U
1.一种颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：包括真空外腔、真空内腔、颗粒搅拌机构及等离子体发生器，所述真空内腔设在真空外腔内，所述颗粒搅拌机构设在真空内腔内，所述等离子体发生器设在颗粒搅拌机构上；所述真空外腔右侧设有真空抽气口及进气口，所述真空内腔包括反应仓及过滤网板，所述反应仓顶部开口，所述过滤网板设在反应仓顶部，所述进气口与真空内腔右侧连通；所述等离子体发生器包括电极组及等离子体发生电源，所述电极组设在过滤网板上方。
2.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述颗粒搅拌机构包括中空转轴及若干搅拌叶，所述各搅拌叶分别与中空转轴连接，所述中空转轴前面与后面分别设有若干布气孔，所述中空转轴右侧设置有进气管轴，所述进气管轴与进气口连接。
3.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述过滤网板的目数为1000-5000目。
4.根据权利要求2所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述中空转轴上的布气孔孔径为0.1-2mm。
5.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述真空外腔包括左盖体、右盖体及中间体，所述中间体两侧分别与左盖体、右盖体连接。
6.根据权利要求5所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述中间体的形状为圆筒状或矩形状的任意一种。
7.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述电极组为正极，所述反应仓为负极。
8.根据权利要求1所述的颗粒和粉体材料等离子体表面处理设备，其特征在于：所述电极组为负极，所述反应仓为正极。
2。