改善去胶后晶圆洁净度的措施

改善去胶后晶圆洁净度的措施去胶是晶圆制造过程中必不可少的一步，但其去除过程中容易留下一些污染物，如胶渍、纤维和微尘等，严重影响晶圆的质量和性能。

为了提高去胶后晶圆的洁净度，可采取以下措施：
1.采用高效去胶剂：选择高效去胶剂能够有效去除胶渍及杂质。

2.安装过滤系统：设置过滤系统能够有效过滤掉去胶过程中产生的微尘及纤维等杂质，提高洁净度。

3.保持清洁环境：提高厂房内的洁净度和处理设备的干净度，减少污染物的来源，保证去胶后晶圆的洁净度。

4.进行二次清洗：经过去胶处理的晶圆，还要进行二次清洗，以去除残留的杂质及化学物质。

综上所述，采取这些措施，能够有效改善晶圆去胶后的洁净度，提高产品质量和性能。