抛光等级、表面粗糙度对应表知识分享
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6μm，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
(完整版)粗糙度、光洁度、抛光级别对应表
抛光等级对照表
Polish Grade Comparision
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6，两个三角就是3.2
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是μm，两个三角就是μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra
表面光洁度13级=Ra
表面光洁度12级=Ra
表面光洁度11级=Ra
表面光洁度10级=Ra
表面光洁度9级=Ra
表面光洁度8级=Ra
表面光洁度7级=Ra
表面光洁度6级=Ra
表面光洁度5级=Ra
表面光洁度4级=Ra
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是μm，两个三角就是μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra
表面光洁度13级=Ra
表面光洁度12级=Ra
表面光洁度11级=Ra
表面光洁度10级=Ra
表面光洁度9级=Ra
表面光洁度8级=Ra
表面光洁度7级=Ra
表面光洁度6级=Ra
表面光洁度5级=Ra
表面光洁度4级=Ra
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6μm，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
粗糙度、光洁度、抛光级别对应表
抛光等级对照表
Polish Grade Comparision
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是，两个三角就是
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra
表面光洁度13级=Ra
表面光洁度12级=Ra
表面光洁度11级=Ra
表面光洁度10级=Ra
表面光洁度9级=Ra
表面光洁度8级=Ra
表面光洁度7级=Ra
表面光洁度6级=Ra
表面光洁度5级=Ra
表面光洁度4级=Ra
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1。
6μm, 两个三角就是3。
2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0。
025
表面光洁度12级=Ra 0。
050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0。
2
表面光洁度9级=Ra 0。
4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3。
2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光等级、表⾯粗糙度对应表抛光尺⼨与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最⼤峰⾼与最⼤⾕深的⾼度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系⼤概是Rmax = 4Ra µin是半导体⽅⾯的单位与1µm=µin
倒三⾓是⽇本的粗糙度，⼀个三⾓是是µm，两个三⾓就是µm
国标新旧标准对照：
表⾯光洁度14级=Ra
表⾯光洁度13级=Ra
表⾯光洁度12级=Ra
表⾯光洁度11级=Ra
表⾯光洁度10级=Ra
表⾯光洁度9级=Ra
表⾯光洁度8级=Ra
表⾯光洁度7级=Ra
表⾯光洁度6级=Ra
表⾯光洁度5级=Ra
表⾯光洁度4级=Ra
表⾯光洁度3级=Ra 25
表⾯光洁度2级=Ra 50
表⾯光洁度1级=Ra 100
以上表⾯粗糙度单位均为µm,即微⽶。
粗糙度、光洁度、抛光级别对应表
抛光等级对照表
Polish Grade Comparision
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6，两个三角就是3.2
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
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抛光等级、表面粗糙度对应表
. 抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6μm，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
.。
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39。
37μin
倒三角是日本的粗糙度,一个三角是是1.6μm，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0。
012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0。
1
表面光洁度10级=Ra 0。
2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0。
8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12。
5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm，即微米。
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光尺寸与粗拙度精度品级对比表之阿布丰王创作
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值Rmax是在取样长度内最年夜峰高与最年夜谷深的高度差Rmax和Ra没有直接关系,统计上两者间的关系年夜概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单元与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗拙度,一个三角是是1.6μm, 两个三角就是
3.2μm
国标新旧标准对比：
概况光洁度14级=Ra 0.012
概况光洁度13级=Ra 0.025
概况光洁度12级=Ra 0.050
概况光洁度11级=Ra 0.1
概况光洁度10级=Ra 0.2
概况光洁度9级=Ra 0.4
概况光洁度8级=Ra 0.8
概况光洁度7级=Ra 1.6
概况光洁度6级=Ra 3.2
概况光洁度5级=Ra 6.3
概况光洁度4级=Ra 12.5
概况光洁度3级=Ra 25
概况光洁度2级=Ra 50
概况光洁度1级=Ra 100
以上概况粗拙度单元均为μm,即微米.。
抛光等级、表面粗糙度对应表
抛光等级、表面粗糙度对应表(总1
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抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是μm，两个三角就是μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra
表面光洁度13级=Ra
表面光洁度12级=Ra
表面光洁度11级=Ra
表面光洁度10级=Ra
表面光洁度9级=Ra
表面光洁度8级=Ra
表面光洁度7级=Ra
表面光洁度6级=Ra
表面光洁度5级=Ra
表面光洁度4级=Ra
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
2。
粗糙度、光洁度、抛光级别对应表
抛光等级对照表
Polish Grade Comparision
Ra是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra
μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6，两个三角就是3.2
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。
表面粗糙度等级对照表讲解学习
Rz
Ra
表面形状特征
加工方法举例
N12
200
50
粗糙面
明显可见刀痕
锯断、粗车、粗铣、粗刨、
钻孔以及用粗纹锉刀、粗砂
轮等加工
N11
100
25
可见刀痕
N10
50
12.5
微见刀痕
N9
25
6.3
半光面
可见加工痕迹
冷拉、精车、精绞、粗绞、粗磨、刮削、粗拉刀加工等
N8
12.5
3.2
微见加工痕迹
N7
6.3
0.1
0.012
雾状镜面
0.05
镜面
表面特征
表面粗糙度(Ra)数值
加工方法举例
明显可见刀痕
Ra100、Ra50、Ra25、
粗车、粗刨、粗铣、钻孔
微见刀痕
Ra12.5、Ra6.3、Ra3.2、
精车、精刨、精铣、粗铰、粗磨
看不见加工痕迹，微辩加工方向
Ra1.6、Ra0.8、Ra0.4、
精车、精磨、精铰、研磨
表面粗糙度等级对照表
镜面0.006微米
雾状镜面0.012
镜状光泽面0.025
亮光泽面0.05
暗光泽面0.1
不可见加工痕迹的方向0.2
可见加工痕迹方向0.8
微见加工痕迹方向0.4
看不清加工痕迹方向1.6
微见加工痕迹方向3.2
可见加工痕迹方向6.3
微见刀痕12.5
可见刀痕25
明显可见刀痕50
表面粗糙度别对照及应用
暗光泽面
Ra0.2、Ra0.1、Ra0.05、
研磨、珩磨、超精磨、抛光
1.6
看不见加工痕迹
抛光等级
[19]中华人民共和国国家知识产权局[12]发明专利申请公布说明书[11]公开号CN 101401896A [43]公开日2009年4月8日[21]申请号200810168826.3[22]申请日2008.09.28[21]申请号200810168826.3[71]申请人湖北福人药业股份有限公司地址437400湖北省咸宁市通城县石南镇石南桥[72]发明人刘焱文 干国平 孙进 [74]专利代理机构北京华科联合专利事务所代理人王为[51]Int.CI.A61K 36/896 (2006.01)A61P 15/00 (2006.01)A61P 35/00 (2006.01)A61K 125/00 (2006.01)权利要求书 2 页 说明书 13 页 附图 2 页[54]发明名称菝葜有效成分及其提取方法[57]摘要本发明涉及菝葜有效成分及其提取方法，具体步骤包括：菝葜的乙醇提取液浓缩后，加水至一定体积，滤过，滤液过大孔吸附树脂，先用水洗脱，继用乙醇洗脱，浓缩乙醇洗脱液，上清液经喷雾干燥，沉淀经减压干燥，混匀，得提取物。
200810168826.3权 利 要 求 书第1/2页1.一种菝葜有效成分提取物，其特征在于，其中的总黄酮，总皂苷和总鞣质的含量之和为75～95％。
2.权利要求1的提取物，其特征在于，其中总黄酮占35～43％，总皂苷占20～26％，总鞣质占20～26％，三者含量之和为75～95％。
3.权利要求1的提取物，其特征在于，若不计算总鞣质，其中总黄酮，总皂苷的含量之和为40～90％。
4.权利要求1的提取物，其特征在于，若不计算总鞣质，其中总黄酮，总皂苷的含量之和为55～69％。
5.权利要求1的提取物的制备方法，其特征在于，经过以下步骤，菝葜用乙醇提取，提取液浓缩后加水，过滤，滤液通过大孔吸附树脂吸附，先用水洗脱，继用乙醇洗脱，浓缩乙醇洗脱液，即得。
6.权利要求4的制备方法，其特征在于，经过以下步骤，a.取菝葜饮片，加6～10倍药材量的40～95％的乙醇提取1～3次，每次60～120分钟，合并乙醇提取液；b.将乙醇提取液浓缩至无醇味，加蒸馏水使药液体积为2.5～10倍药材量，，静置过滤后，得到滤液；c.滤液以每小时0.5～3倍柱床体积的流速通过大孔吸附树脂柱，先用2～4倍树脂量的水洗脱除去杂质，再用3～7倍药材量的40～95％的乙醇以每小时0.5～3倍柱床体积的流速进行洗脱，得到洗脱液；d.将洗脱液浓缩至相对密度为1.05，上清液喷雾干燥，沉淀减压干燥，两部分混匀得到菝葜抗炎有效成分提取物。
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抛光等级、表面粗糙
度对应表
抛光尺寸与粗糙度精度等级对照表
Ra 是在取样长度内轮廓偏距绝对值的算术平均值
Rmax 是在取样长度内最大峰高与最大谷深的高度差
Rmax 和Ra没有直接关系，统计上两者间的关系大概是Rmax = 4Ra μin是半导体方面的单位与1μm=39.37μin
倒三角是日本的粗糙度，一个三角是是1.6μm，两个三角就是3.2μm
国标新旧标准对照：
表面光洁度14级=Ra 0.012
表面光洁度13级=Ra 0.025
表面光洁度12级=Ra 0.050
表面光洁度11级=Ra 0.1
表面光洁度10级=Ra 0.2
表面光洁度9级=Ra 0.4
表面光洁度8级=Ra 0.8
表面光洁度7级=Ra 1.6
表面光洁度6级=Ra 3.2
表面光洁度5级=Ra 6.3
表面光洁度4级=Ra 12.5
表面光洁度3级=Ra 25
表面光洁度2级=Ra 50
表面光洁度1级=Ra 100
以上表面粗糙度单位均为μm,即微米。