单晶硅生长技术的研究与发展
内蒙古单晶硅项目可行性研究报告
内蒙古单晶硅项目可行性研究报告一、项目背景随着科技的发展和对新能源的需求增加,太阳能发电逐渐成为人们关注的热点。
太阳能电池的核心材料之一是单晶硅,而内蒙古地区具备丰富的硅资源,因此在该地区建设一座单晶硅项目具有极大的潜力和可行性。
二、项目概述该项目旨在建设一座生产单晶硅的工厂,主要生产用于太阳能电池的硅片。
项目计划占地面积500亩,总建筑面积约10万平方米,总投资额为1亿元。
项目预计年产5000吨单晶硅,预计年销售收入为1.5亿元。
三、市场分析1.行业发展趋势:目前,太阳能发电已成为全球新能源发展的主流之一,市场需求持续增长。
2.竞争分析:国内外已有较多的单晶硅生产企业,但内蒙古地区缺乏该种类厂家,因此具备一定的市场竞争优势。
3.市场规模:根据市场调研,预计未来五年内太阳能发电市场需求将保持20%以上的年增长率。
四、技术可行性1.生产工艺:采用现代化自动化生产线,提高生产效率和产品质量。
2.设备选型:选用国内外先进设备,提高生产水平和竞争力。
五、经济可行性1.投资回报:根据市场调查和预测分析,项目预计在三年内实现投资回报。
2.财务评估:项目预计年销售收入为1.5亿元,年利润为5000万元,考虑到工厂运营成本和市场需求,项目具备较高的盈利能力。
六、环境可行性1.资源充足:内蒙古地区具有丰富的硅矿资源,能够满足项目的原材料需求。
七、风险和对策1.市场风险:新能源市场受政策和技术变化的影响较大,项目应积极调整生产策略,防范潜在风险。
2.财务风险:项目应制定合理的资金计划,控制成本,确保项目能够按时还本付息,排除财务风险。
八、总结与建议基于市场调研和分析,本项目具备良好的市场前景和经济效益。
因此,建议项目尽快启动,并制定详细的实施计划,以确保项目的顺利进行和高效运营。
同事,项目负责人应密切关注市场动态和技术变革,及时作出调整和改进,以保持竞争力。
单晶硅和多晶硅发展现状和趋势
二 单晶硅和多晶硅的现状
• 1 单晶硅的现状 • 单晶硅建设项目具有巨大的市场和广阔的发展空间。 在地壳中含量达25.8%的硅元素,为单晶硅的生产 提供了取之不尽的源泉。近年来,各种晶体材料, 特别是以单晶硅为代表的高科技附加值材料及其相 关高技术产业的发展,成为当代信息技术产业的支 柱,并使信息产业成为全球经济发展中增长最快的 先导产业。单晶硅作为一种极具潜能,亟待开发利 用的高科技资源,正引起越来越多的关注和重视。
• 单晶硅为灰色金属光泽。密度2.32~2.34。熔点1410℃。 沸点2355℃。溶于氢氟酸和硝酸的混酸中,不溶于水、硝 酸和盐酸。硬度介于锗和石英之间,室温下质脆,切割时 易碎裂。加热至800℃以上即有延性,1300℃时显出明显 变形。常温下不活泼,高温下与氧、氮、硫等反应。高温 熔融状态下,具有较大的化学活泼性,能与几乎任何材料 作用。具有半导体性质,是极为重要的优良半导体材料, 但微量的杂质即可大大影响其导电性。电子工业中广泛用 于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、 电子计算机等的基础材料。由干燥硅粉与干燥氯化氢气体 在一定条件下氯化,再经冷凝、精馏、还原而得。 • 多晶硅可作拉制单晶硅的原料,多晶硅与单晶硅的差 异主要表现在物理性质方面。例如,在力学性质、光学性 质和热学性质的各向异性方面,远不如单晶硅明显;在电 学性质方面,多晶硅晶体的导电性也远不如单晶硅显著, 甚至于几乎没有导电性。在化学活性方面,两者的差异极 小。多晶硅和单晶硅可从外观上加以区别,但真正的鉴别 须通过分析测定晶体的晶面方向、导电类型和电阻率等。
• 多晶硅产业发展预测 • 高纯多晶硅是电子工业和太阳能光伏产业的 基础原料,在未来的50年里,还不可能有其他材 料能够替代硅材料而成为电子和光伏产业主要原 材料。 • 随着信息技术和太阳能产业的飞速发展,全 球对多晶硅的需求增长迅猛,市场供不应求。世 界多晶硅的产量2005年为28750吨,其中半导体 级为20250吨,太阳能级为8500吨。半导体级需 20250 8500 求量约为19000吨,略有过剩;太阳能级的需求 量为15600吨,供不应求。近年来,全球太阳能 电池产量快速增加,直接拉动了多晶硅需求的迅 猛增长。全球多晶硅由供过于求转向供不应求。 受此影响,作为太阳能电池主要原料的多晶硅价 格快速上涨。
单晶硅太阳能电池技术的研究与发展
单晶硅太阳能电池技术的研究与发展一、引言太阳能电池作为绿色能源的代表之一,已经成为当前世界各国科学技术发展的热点和重点研究的对象。
其中,单晶硅太阳能电池技术因为其高效、可靠、稳定、长寿命等优点,已经成为主流的太阳能电池技术之一。
本文主要介绍了单晶硅太阳能电池技术的研究与发展。
二、单晶硅太阳能电池的基本原理单晶硅太阳能电池是太阳能电池中最常见的一种,它的基本原理是利用半导体材料与阳光的相互作用产生光生电效应,将太阳能转化成电能。
具体地说,当阳光照射到单晶硅太阳能电池的P-N结区域时,电子从半导体的价带跃迁到导带中,形成电子空穴对,同时,在P-N结区域内形成一个电场,使得电子、空穴在电场力下分别向N型、P型半导体集结,然后通过电路输出直流电能。
三、单晶硅太阳能电池的制造工艺1.单晶硅锭生长单晶硅锭生长是单晶硅太阳能电池制造的第一步,生产单晶硅锭所需的原料为硅源、掺杂原料和能源。
将这些原料混合后,通过高温熔解、晶核种植、拉晶和切割步骤,得到高纯度的单晶硅锭。
2.硅片制备将单晶硅锭研磨压成圆形、平整的硅片,然后通过化学氧化、扩散、光刻、蚀刻和金属化等步骤,制造出单晶硅太阳能电池的芯片。
3.电池片组装将单个单晶硅太阳能电池片组装成整块电池板,然后通过系列接线、密封、贴膜、填充树脂和包装等步骤,完成整体制造。
四、单晶硅太阳能电池的特点1.高效特性单晶硅太阳能电池的光电转换效率可以达到20%以上,较其他太阳能电池技术有更高的能量利用率和转化效率。
2.稳定性好单晶硅太阳能电池主要成分是硅,硅在太阳辐射下稳定性好,在高温、高湿度、长期使用等条件下,能保持较好的性能。
3. 寿命悠长单晶硅太阳能电池的寿命长达30年以上,在确定的使用条件下能够长期稳定输出电能。
五、单晶硅太阳能电池的应用前景单晶硅太阳能电池因为性能优良与可靠性高,已经在各领域得到了广泛应用。
它适用于太阳能发电、光伏路灯、太阳能电池板、太阳能电池组等领域,特别是在家庭和商业应用方面,如家庭光伏系统、储能系统、电动汽车等,具有广泛的市场前景。
太阳能电池用硅材料的研究现状与发展趋势
太阳能电池用硅材料的研究现状与发展趋势一、本文概述随着全球能源结构的转型和环保意识的日益增强,可再生能源的开发和利用已经成为当今世界的重要议题。
其中,太阳能作为一种清洁、无污染、可持续的能源形式,受到了广泛关注。
太阳能电池作为将太阳能转化为电能的关键设备,其性能与材料的选择密切相关。
硅材料因其优异的半导体性能、丰富的储量以及相对成熟的生产工艺,成为了太阳能电池的主流材料。
本文旨在探讨硅材料在太阳能电池领域的研究现状,分析其在不同应用场景下的性能特点,并展望其未来的发展趋势。
本文将对硅材料的基本性质进行介绍,包括其晶体结构、电子特性以及光学性质等,为后续的研究提供理论基础。
我们将详细分析当前硅材料在太阳能电池中的应用现状,包括不同类型的硅太阳能电池(如单晶硅、多晶硅、非晶硅等)的优缺点、制造工艺以及光电转换效率等方面的内容。
我们还将探讨硅材料在柔性太阳能电池、异质结太阳能电池等新型电池技术中的应用前景。
在此基础上,本文将深入探讨硅材料研究的最新进展,包括纳米硅材料、硅基复合材料以及表面改性技术等新型硅材料的开发与应用。
这些新技术和新材料的出现,为硅太阳能电池的性能提升和成本降低提供了新的可能性。
我们将对硅材料在太阳能电池领域的发展趋势进行展望,探讨未来硅材料研究的方向和重点,以期为推动太阳能电池的持续发展和广泛应用提供参考。
二、硅材料的性质及其在太阳能电池中的应用硅是一种半导体材料,具有独特的电子结构,使其成为太阳能电池的理想选择。
硅的禁带宽度适中(约为1电子伏特),可以吸收可见光及近红外光区的太阳光,使其具有较高的光电转换效率。
硅材料还具有丰富的储量、良好的稳定性和相对较低的成本,这些因素使得硅成为商业化太阳能电池中最广泛使用的材料。
硅材料主要分为单晶硅、多晶硅和非晶硅三种类型。
单晶硅具有最高的光电转换效率,但成本也相对较高;多晶硅成本较低,效率略低于单晶硅;非晶硅则以其低廉的成本和易于大规模生产的特性而受到关注,但其光电转换效率相对较低。
2022-2022年中国单晶硅棒市场深度调查与投资前景调研报告范文-图文
2022-2022年中国单晶硅棒市场深度调查与投资前景调研报告范文-图文单晶硅棒什么是行业研究报告行业研究是通过深入研究某一行业发展动态、规模结构、竞争格局以及综合经济信息等,为企业自身发展或行业投资者等相关客户提供重要的参考依据。
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一个全面竞争的时代,不但要了解自己现状,还要了解对手动向,更需要将整个行业系统的运行规律了然于胸。
行业研究报告的构成一般来说,行业研究报告的核心内容包括以下五方面:行业研究的目的及主要任务行业研究是进行资源整合的前提和基础。
对企业而言,发展战略的制定通常由三部分构成:外部的行业研究、内部的企业资源评估以及基于两者之上的战略制定和设计。
行业与企业之间的关系是面和点的关系,行业的规模和发展趋势决定了企业的成长空间;企业的发展永远必须遵循行业的经营特征和规律。
行业研究的主要任务:解释行业本身所处的发展阶段及其在国民经济中的地位分析影响行业的各种因素以及判断对行业影响的力度预测并引导行业的未来发展趋势判断行业投资价值揭示行业投资风险为投资者提供依据2022-2022年中国单晶硅棒市场深度调查与投资前景调研报告【出版日期】2022年【交付方式】Email电子版/特快专递报告目录第一章2022-2022年国内外单晶硅产业整体运行态势分析第一节2022-2022年世界单晶硅产业运行总况一、全世界单晶硅的产能二、硅片市场的国际化和生产垄断化已经形成三、硅片制造技术进一步升级第二节2022-2022年中国单晶硅产业的发展形势综述一、中国单晶硅稳步发展二、中国单晶硅产销回顾第三节2022-2022年中国单晶硅生产主要地区项目建设动态分析一、涿鹿打造国内最大单晶硅生产研发基地二、青海单晶硅产业化项目技术取得突破三、15亿元单晶硅项目入驻杞县四、青海聚阳能硅业年产3500吨单晶硅项目开建第四节2022-2022年中国硅单晶技术取得的重要进展一、12英寸硅单晶生长技术已经成熟二、有效控制原生颗粒缺陷形成三、12英寸硅单晶抛光片加工技术成熟四、外延优化衬底技术获得发展第五节2022-2022年中国单晶硅技术及生产设备分析一、中国硅单晶生产设备发展现状二、中国硅单晶生产设备技术取得重大突破三、中国太阳能硅单晶生产设备发展分析1、太阳能硅单晶生产设备销量直线上升2、太阳能硅单晶生产设备发展水平亟待实质性提高第二章2022-2022年中国单晶硅棒行业市场发展环境解析第一节2022-2022年中国宏观经济环境分析一、国民经济运行情况GDP(季度更新)二、消费价格指数CPI、PPI(按月度更新)三、全国居民收入情况(季度更新)四、恩格尔系数(年度更新)五、工业发展形势(季度更新)六、固定资产投资情况(季度更新)七、财政收支状况(年度更新)八、中国汇率调整(人民币升值)九、存基准利率调整情况十、存款准备金率调整情况十一、社会消费品零售总额十二、对外贸易&进出口第二节2022-2022年中国单晶硅棒市场政策环境分析一、单晶硅棒、单晶硅片加工贸易单耗标准二、相关行业政策三、法律法规第三节2022-2022年中国单晶硅棒市场技术环境分析第四节2022-2022年中国单晶硅棒市场社会环境分析一、人口环境分析二、教育环境分析三、文化环境分析四、生态环境分析五、中国城镇化率六、居民的各种消费观念和习惯第三章2022-2022年中国单晶硅棒行业市场运行态势剖析第一节2022-2022年中国单晶硅棒产业技术研究新进展一、单晶硅棒技术指标分析二、单晶硅棒加工成单晶硅抛光硅片工艺流程三、单晶硅产业化节能技术取得科技突破第二节2022-2022年中国单晶硅棒重点区域市场动态分析一、宜昌南玻成功拉制出直径8英寸单晶硅棒二、肥东获单晶硅技术新成果三、榆林光伏产业第一根太阳能级单晶硅棒下线第三节2022-2022年中国单晶硅棒产业项目研究一、单晶硅棒、单晶切片生产项目二、单晶硅棒中外合资项目三、单晶硅棒产业招投标分析第四节2022-2022年中国单晶硅棒产业热点问题探讨第四章2007-2022年中国单晶硅棒制造行业数据监测分析第一节2007-2022年中国单晶硅棒制造行业规模分析一、企业数量增长分析二、从业人数增长分析三、资产规模增长分析第二节2022年中国单晶硅棒制造行业结构分析一、企业数量结构分析1、不同类型分析2、不同所有制分析二、销售收入结构分析1、不同类型分析2、不同所有制分析第三节2007-2022年中国单晶硅棒制造行业产值分析一、产成品增长分析二、工业销售产值分析三、出货值分析第四节2007-2022年中国单晶硅棒制造行业成本费用分析一、销售成本统计二、费用统计第五节2007-2022年中国单晶硅棒制造行业盈利能力分析一、主要盈利指标分析二、主要盈利能力指标分析第五章2022-2022年中国单晶硅棒市场深度部析第一节2022-2022年中国单晶硅棒市场总况一、单晶硅棒加工企业规模及产能分析二、单晶硅棒的市场需求及增长情况三、单晶硅棒市场供需形势四、信息家电和通信产品需求旺盛对单晶硅棒市场的推动第二节2022-2022年中国单晶硅棒市场价格分析一、中国单晶硅棒重点区域市场价格走势二、影响价格因素分析第六章2006-2022年中国单晶硅棒进出口贸易市场数据监测第一节2006-2022年中国电子工业用直径≥7.5cm单晶硅棒进出口数据分析一、电子工业用直径≥7.5cm单晶硅棒进出口数量分析二、电子工业用直径≥7.5cm单晶硅棒进出口金额分析三、电子工业用直径≥7.5cm 单晶硅棒进出口国家及地区分析第二节2006-2022年中国电子工业用直径<7.5cm单晶硅棒进出口数据分析一、电子工业用直径<7.5cm单晶硅棒进出口数量分析二、电子工业用直径<7.5cm单晶硅棒进出口金额分析三、电子工业用直径<7.5cm 单晶硅棒进出口国家及地区分析第七章2022-2022年中国单晶硅棒市场竞争格局透析第一节2022-2022年中国单晶硅棒行业竞争现状一、品牌竞争分析二、价格竞争分析三、营销方式竞争分析第二节2022-2022年中国单晶硅棒行业集中度分析一、市场集中度分析二、生产企业的集中分布第三节2022-2022年中国单晶硅棒行业竞争中存的问题第四节2022-2022年中国单晶硅棒行业竞争趋势分析第八章2022-2022年中国单晶硅棒优势生产企业竞争力及关键性数据分析(企业可自选)第一节天威保变一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第二节天津中环半导体股份有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第三节晶龙实业集团有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第四节浙江昱辉阳光能源有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第五节江苏顺大半导体发展有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第六节镇江大成硅科技有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第七节河北宁晋松宫半导体有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第八节常州现代通讯光缆有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第九节江阴市爱多光伏科技有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第十节婺源县隆泰电子科技有限公司一、企业概况二、企业主要经济指标分析三、企业盈利能力分析四、企业偿债能力分析五、企业运营能力分析六、企业成长能力分析第十一节略第九章2022-2022年中国单晶硅棒行业发展趋势与前景展望第一节2022-2022年中国单晶硅棒行业发展前景分析第二节2022-2022年中国单晶硅棒行业发展趋势分析一、单晶硅技术发展方向分析二、单晶硅棒技术与节能趋势第三节2022-2022年中国单晶硅棒行业市场预测分析一、单晶硅棒行业市场产量预测分析二、单晶硅棒行业市场销量预测分析第四节2022-2022年中国单晶硅棒市场盈利预测分析第十章2022-2022年中国单晶硅棒行业投资价值研究第一节2022年中国单晶硅棒投资概况一、中国单晶硅产业投资准入情况二、国家扶持项目单晶硅棒拉制项目第二节2022-2022年中国单晶硅棒行业投资机会分析一、单晶硅棒重点区域投资潜力分析二、与产业政策调整相关的投资机会分析第三节2022-2022年中国单晶硅棒行业投资风险预警一、宏观调控政策风险二、市场竞争风险三、技术风险四、金融风险第四节权威专家投资建议相关行业推荐化工2022-2022年中国三聚氰胺市场深度调查与市场竞争态势报告2022-2022年中国聚乙烯醇行业全景调研与市场竞争态势报告2022-2022年中国碳纤维产品市场全景调查与行业运营态势报告2022-2022年中国电解铝市场深度调查与市场竞争态势报告2022-2022年中国建筑涂料行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年中国防水涂料市场深度调查与市场竞争态势报告2022-2022年中国纺织印染助剂行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年中国家具漆行业深度调研与投资前景预测报告2022-2022年中国稀土市场前景调查与投资潜力研究报告2022-2022年中国纤维素酒精行业深度调研与投资潜力研究报告2022-2022年PA(尼龙)行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年生化试剂行业深度调研与投资潜力研究报告2022-2022年中国食品增稠剂市场深度调查与投资前景调研报告2022-2022年中国氟化工行业深度调研与投资前景预测报告2022-2022年中国环氧树脂市场全景调查与产业竞争格局报告2022-2022年中国净水剂行业全景调研与市场竞争态势报告2022-2022年中国粉末涂料行业深度调研与投资前景评估报告2022-2022年中国硅油市场前景调查与投资潜力研究报告目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录2022年最新报告推荐行业房产建材2022-2022年中国壁纸行业深度调研与投资前景预测报告2022-2022年中国眼镜行业深度调研与投资前景预测报告2022-2022年中国有机膨润土市场调查与投资前景预测报告2022-2022年中国内墙砖行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年中国日用陶瓷制品市场调查与投资前景预测报告2022-2022年中国阀门水暖行业深度调研与投资前景预测报告2022-2022年中国婴幼儿教具行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年中国木地板市场调查与投资前景预测报告2022-2022年中国建筑市场全景调查与产业竞争格局报告2022-2022年中国五金工具市场全景调查与投资战略分析报告2022-2022年中国厨具市场深度调查与投资前景调研报告2022-2022年中国感应自动门行业深度调研与行业运营态势报告2022-2022年中国石材市场全景调查与投资战略分析报告2022-2022年中国美甲行业深度调研与行业运营态势报告2022-2022年建筑施工市场深度调查与产业竞争现状报告2022-2022年中国商用厨房设备行业全景调研与投资前景调研报告石油化工2022-2022年中国煤制甲醇行业调研与投资战略研究报告2022-2022年中国聚乙烯醇行业全景调研与市场竞争态势报告2022-2022年中国三聚氰胺市场深度调查与市场竞争态势报告2022-2022年氯磺酸市场全景调查与产业竞争格行业旅游商贸目录2022-2022年中国体育服务市场调查及投资潜力研究报告目录2022-2022年中国家政服务市场调查与投资前景预测报告目录2022-2022年中国专利版权转让行业深度调研与投资潜力研究报告目录2022-2022年中国劳动力行业全景调研与投资前景调研报告目录2022-2022年中国商业智能(BI)市场前景调查与投资潜力研究报告目录2022-2022年中国智慧城市行业深度调研与行业运营态势报告目录2022-2022年中国便利店行业调研与投资战略研究报告目录2022-2022年中国餐饮市场全景调查与产业竞争格局报告目录2022-2022年中国奢侈品行业深度调研与行业运营态势报告目录2022-2022年中国老年人(银发族)服务市场调查与投资战略研究报告目录2022-2022年中国滨海旅游行业全景调研与产业竞争格局报告目录2022-2022年中国运动品牌连锁行业全景调研与投资前景调研报告目录2022-2022年中国中档商务酒店连锁行业调研与投资战略研究报告目录2022-2022年中国创意产业园区行业调研与投资战略研究报告目录2022-2022年中国农业保险行业深度调研与投资前景评估报告目录2022-2022年中国便利店市场全景调查与行业运营态势报告TMT产业目录2022-2022年中国耳机市场深度调查与市场竞争态势报告目录2022-2022年中国倒车雷达市场深度调查与市场竞争态势报告目录2022-2022年中国数字音乐市场调查与投资战略研究报告目录2022-2022年中国数字微波通信行业深度调研与投资目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录局报告2022-2022年中国硫酸锰市场深度调查与市场竞争态势报告2022-2022年中国原油加工及石油制品市场深度调查与市场竞争态势报告2022-2022年指甲油行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年中国油酸市场深度调查与投资前景调研报告2022-2022年中国碳酸锰市场调查与投资前景评估报告2022-2022年中国碳酸二甲酯行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年PVD行业深度调研与投资前景预测报告2022-2022年中国切削液行业全景调研与市场竞争态势报告2022-2022年中国草甘膦市场调查与投资前景评估报告2022-2022年中国橡胶管行业深度调研与投资潜力研究报告2022-2022年中国油墨行业深度调研与投资潜力研究报告2022-2022年中国1,4-丁二醇(BDO)市场全景调查与行业运营态势报告2022-2022年中国成品油行业全景调研与市场竞争态势报告2022-2022年中国新材料行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年中国精细化工行业全景调研与产业竞争格局报告2022-2022年中国新型煤化工行业调研与投资战略分析报告2022-2022年中国加油站市场调查与投资战略研究报告2022-2022年中国草酸行业调研与投资战略分析报告2022-2022年中国废塑料行业深度调研与投资前景评估报告2022-2022年中国润滑油行业调研与投资战略研究报告2022-2022年中国微晶玻璃市场前景调查与投资潜力研究报告2022-2022年中国唇彩行业全景调研与投资前景前景预测报告目录2022-2022年手机摄像头行业全景调研与市场竞争态势报告目录2022-2022年中国银行自助服务终端行业全景调研与产业竞争现状报告目录2022-2022年中国智能手表市场调查与投资前景预测报告目录2022-2022年中国会议系统行业全景调研与市场竞争态势报告目录2022-2022年中国对讲机市场调查与投资前景预测报告目录2022-2022年中国电影院线行业调研与投资战略分析报告目录2022-2022年中国信息技术市场调查与投资战略研究报告目录2022-2022年中国影视后期制作市场全景调查与产业竞争格局报告目录2022-2022年中国广告市场深度调查与市场竞争态势报告目录2022-2022年中国KTV行业深度调研与投资潜力研究报告目录2022-2022年中国电影行业调研与投资战略分析报告目录2022-2022年中国网络财经信息服务市场调查与投资战略研究报告目录2022-2022年中国专网通信市场调查与投资前景预测报告目录2022-2022年中国广电设备行业全景调研与市场竞争态势报告目录2022-2022年中国通信天线市场深度调查与产业竞争现状报告目录2022-2022年中国电脑主板市场前景调查与投资潜力研究报告目录2022-2022年中国台式机市场深度调查与投资前景调研报告目录2022-2022年中国杀毒软件行业全景调研与产业竞争现状报告目录2022-2022年中国IT运维管理行业深度调研与行业运营态势报告目录2022-2022年大数据市场全景调查与产业竞争格局报告目录2022-2022年中国CAD软件市场全景调查与行业运营态势报告目录2022-2022年中国电影院市场深度调查与市场竞争态目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录目录调研报告2022-2022年中国碳纤维产品市场全景调查与行业运营态势报告2022-2022年中国工程胶粘剂行业深度调研与投资前景评估报告能源矿产2022-2022年钛精矿市场全景调查与投资战略分析报告2022-2022年中国针状焦行业全景调研及投资潜力研究报告2022-2022年中国铜合金行业深度调研与投资前景评估报告2022-2022年中国勃姆石市场深度调查与市场竞争态势报告2022-2022年中国整体煤气化联合循环发电系统(IGCC)市场全景调查与产业竞争格局报告2022-2022年中国软磁材料行业调研与投资战略分析报告2022-2022年中国高压电瓷行业全景调研及投资潜力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半导体材料的历史现状及研究进展(精)
半导体材料的历史现状及研究进展(精)半导体材料的研究进展摘要:随着全球科技的快速发展,当今世界已经进入了信息时代,作为信息领域的命脉,光电子技术和微电子技术无疑成为了科技发展的焦点。
半导体材料凭借着自身的性能特点也在迅速地扩大着它的使用领域。
本文重点对半导体材料的发展历程、性能、种类和主要的半导体材料进行了讨论,并对半导体硅材料应用概况及其发展趋势作了概述。
关键词:半导体材料、性能、种类、应用概况、发展趋势一、半导体材料的发展历程半导体材料从发现到发展,从使用到创新,拥有这一段长久的历史。
宰二十世纪初,就曾出现过点接触矿石检波器。
1930年,氧化亚铜整流器制造成功并得到广泛应用,是半导体材料开始受到重视。
1947年锗点接触三极管制成,成为半导体的研究成果的重大突破。
50年代末,薄膜生长激素的开发和集成电路的发明,是的微电子技术得到进一步发展。
60年代,砷化镓材料制成半导体激光器,固溶体半导体此阿里奥在红外线方面的研究发展,半导体材料的应用得到扩展。
1969年超晶格概念的提出和超晶格量子阱的研制成功,是的半导体器件的设计与制造从杂志工程发展到能带工程,将半导体材料的研究和应用推向了一个新的领域。
90年代以来随着移动通信技术的飞速发展,砷化镓和磷化烟等半导体材料成为焦点,用于制作高速高频大功率激发光电子器件等;近些年,新型半导体材料的研究得到突破,以氮化镓为代表的先进半导体材料开始体现出超强优越性,被称为IT产业的新发动机。
新型半导体材料的研究和突破,常常导致新的技术革命和新兴产业的发展.以氮化镓为代表的第三代半导体材料,是继第一代半导体材料(以硅基半导体为代表和第二代半导体材料(以砷化镓和磷化铟为代表之后,在近10年发展起来的新型宽带半导体材料.作为第一代半导体材料,硅基半导体材料及其集成电路的发展导致了微型计算机的出现和整个计算机产业的飞跃,并广泛应用于信息处理、自动控制等领域,对人类社会的发展起了极大的促进作用.硅基半导体材料虽然在微电子领域得到广泛应用,但硅材料本身间接能带结构的特点限制了其在光电子领域的应用.随着以光通状态所需的能量。
毕业设计(论文)-直拉单晶硅的制备
毕业设计(论文)-直拉单晶硅的制备题目:直拉法制备单晶硅的研究摘要:单晶硅是目前最广泛应用于光电子器件和太阳能电池领域的材料之一。
本研究主要通过直拉法制备单晶硅,并对其制备过程中的影响因素进行研究和优化。
使用不同的原料、控制拉丝速度和控制拉丝温度等参数进行实验,并通过光学显微镜、扫描电子显微镜和X射线衍射仪等手段进行表征和分析。
关键词:单晶硅、直拉法、控制参数、光电子器件、太阳能电池1. 引言随着科技的快速发展,光电子器件和太阳能电池作为可再生能源领域的重要组成部分,对高纯度、大尺寸、无缺陷的单晶硅的需求越来越大。
直拉法是一种广泛应用于制备单晶硅的方法,通过控制拉丝过程中的参数,可以获得高质量的单晶硅。
2. 直拉法的工作原理直拉法制备单晶硅的过程主要包括原料准备、熔化、拉丝和固化等阶段。
在拉丝过程中,通过初始晶种的引入和拉丝速度的控制,可以实现单晶硅的制备。
3. 影响直拉法制备单晶硅的因素3.1 原料选择:原料的纯度和成分对单晶硅的质量有着重要影响,不同的原料对单晶硅的生长速率和晶体结构有不同的影响。
3.2 拉丝速度:拉丝速度对于单晶硅的形成和生长起到至关重要的作用,过快或过慢的拉丝速度都会影响单晶硅的质量。
3.3 拉丝温度:拉丝温度对单晶硅晶体的质量和纯度有很大影响,需在合适的温度范围内进行控制。
4. 实验设计和结果分析4.1 实验材料和设备的选择:选用高纯度硅片作为原料,使用恒温炉和拉丝机进行实验。
4.2 实验步骤:控制不同拉丝速度和拉丝温度下的直拉法实验。
4.3 结果分析:通过光学显微镜、扫描电子显微镜和X射线衍射仪等手段对实验结果进行表征和分析。
5. 结论本研究通过直拉法制备单晶硅的实验,得出了原料选择、拉丝速度和拉丝温度对制备单晶硅的影响,并优化了制备过程中的参数,从而获得了高质量的单晶硅。
硅片制备工艺的发展趋势
硅片制备工艺的发展趋势引言硅片是集成电路制造的基础材料,其制备工艺的发展对电子行业的发展具有重要意义。
本文将探讨硅片制备工艺的发展趋势,从材料选择、加工技术、设备创新以及智能化生产等方面进行分析和讨论。
一、材料选择硅片制备工艺的首要问题是选择合适的材料。
传统上,单晶硅是最常用的材料,但其生产成本高、能源消耗大等问题逐渐凸显。
因此,研究人员开始寻找新型材料替代单晶硅。
其中,多晶硅和非晶硅成为研究热点。
多晶硅具有较高的导电性能和较低的生产成本,在太阳能电池等领域得到广泛应用。
然而,多晶硅存在结构不均匀性和导电性能差异大等问题,限制了其在集成电路领域中应用。
非晶硅是一种非结晶态固体,在光伏领域具有巨大潜力。
相比于传统单晶或多晶硅,非晶硅具有更高的光吸收系数和更低的生产成本,但其导电性能有待提高。
未来,材料选择将更加多样化,例如石墨烯、碳化硅等材料的应用将成为硅片制备工艺发展的新方向。
二、加工技术加工技术是硅片制备工艺中另一个关键因素。
传统的制备工艺主要包括晶体生长、切割和抛光等步骤。
然而,随着电子行业对高性能和微型化要求的提升,传统加工技术已经难以满足需求。
微细加工技术是未来发展的方向之一。
通过光刻、蚀刻等微细加工技术可以实现亚微米级别的器件制造。
同时,在多晶硅和非晶硅等新型材料上开展微细加工研究也具有重要意义。
另外,3D打印技术也为硅片制备带来了新的可能性。
通过3D打印可以实现复杂结构器件的快速制造,并且可以根据需求进行定制化生产。
三、设备创新设备创新是推动硅片制备工艺发展的重要驱动力。
随着工艺的不断演进,制备设备也需要不断更新和改进。
首先,制备设备需要具备更高的自动化和智能化水平。
传统的制备设备大多需要人工干预和调节,效率低下且易出现人为失误。
引入智能化技术可以提高生产效率和产品质量。
其次,制备设备需要更高的生产能力和稳定性。
随着电子产品需求的增长,硅片制造需求也在不断增加。
因此,提高生产能力是硅片制造企业面临的重要挑战。
直拉单晶硅等径生长过程直径建模与控制研究
直拉单晶硅等径生长过程直径建模与控制研究直拉单晶硅等径生长过程直径建模与控制研究摘要:直拉单晶硅是太阳能电池制造中常用的材料,其质量和直径对电池性能有着重要影响。
本文通过对直拉单晶硅等径生长过程的研究,提出了直径建模与控制方法,旨在提高单晶硅的生产效率和质量。
1. 引言太阳能电池作为一种可再生能源利用技术,具有广阔的应用前景。
直拉单晶硅作为太阳能电池的主要材料,其优良的电学性能和化学稳定性使其成为首选材料。
然而,直拉单晶硅的生长过程中直径的均匀性对电池性能有着重要影响。
因此,直径建模与控制研究对于提高太阳能电池的制造效率和质量具有重要意义。
2. 直拉单晶硅等径生长过程直拉单晶硅等径生长是指通过在熔融硅中拉取单晶硅晶体,使其直径保持不变。
在等径生长过程中,熔融硅在拉动和冷却的作用下逐渐凝固形成单晶硅。
直径建模与控制的关键在于准确预测和控制熔融硅的温度和流动状态,以确保单晶硅的直径均匀性。
3. 直径建模方法3.1. 热传导方程模型基于热传导方程的模型是最常用的直径建模方法之一。
通过考虑熔融硅的热传导和热辐射特性,可以建立一个与时间和空间相关的温度分布模型。
这个模型可以用来预测熔融硅的温度分布,从而间接地推断出单晶硅的大小和形状。
3.2. 流动力学模型除了考虑热传导,流动力学模型也是直径建模的重要方法。
通过考虑熔融硅的流动特性,如速度分布和涡流等,可以建立一个与时间和空间相关的熔融硅流动模型。
这个模型可以用来预测熔融硅中的流动情况,从而间接地推断出单晶硅的直径均匀性。
4. 直径控制方法4.1. 单晶硅引心设计单晶硅引心是直径控制的重要手段之一。
通过设计合适的引领机构,可以在等径生长过程中控制熔融硅的流动,从而影响单晶硅的直径。
4.2. 温度控制熔融硅的温度对等径生长过程中单晶硅的直径具有重要影响。
控制熔融硅的温度可以通过调节加热功率和冷却速度等参数来实现。
4.3. 流动控制熔融硅中的流动特性对等径生长过程中单晶硅的直径均匀性有着重要影响。
直径300mm硅单晶生长过程的热场模拟
北京有色金属研究总院硕士学位论文直径300mm硅单晶生长过程的热场模拟姓名:翟立君申请学位级别:硕士专业:材料物理与化学指导教师:周旗钢;王敬20040324摘要摘要本文对直径300mm.晶体生长热场进行了数值模拟,并模拟计算了晶体生长过程中单晶炉内的氩气流动情况。
热场的模拟计算结果与实验测量的结果基本一致,较好地模拟了单晶炉内的热场分布情况。
通过对氩气流动情况的模拟分析,更好地了解了单晶炉内氩气流场的分布情况,这有利于我们更好地控制单晶炉内的氨气流的流速和流向,以及单晶中氧含量。
通过对有热屏和无热屏两种状态下的热场分布和晶体质量的比较,我们得出;单晶炉内施加热屏,可以很好地改进单晶炉内的热场分布,从而改善CZ硅单晶的生长条件,可以较好地控制晶体中的各种缺陷;同时,通过加装热屏,可以改进熔体内的温度分布,增大晶体生长的稳定性,从而获得更大的晶体生长速度,这样有利于提高生产效率;加装热屏还可以减少单晶炉内的热量损失,从而降低加热功率,减少了熔体与坩埚壁的反应,从而有利于控制晶体中的氧含量。
关键词:直拉硅晶体,热屏,300mm,热场,氩气流,数值模拟_—__——,—_——_-—_。
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’—’————一一一.垒!!塑璺———AbstractInthispaper,thehotzoneandtheargonflowdistributionduring300mmsinglecrystalgrowthprocessweresimulated.Thehotzonenumericalsimulationresultswereessentiallyinaccordancewitllexperimentalresuas.DifferentargonflowdistributionsinCZ—Sicrystalfurnacewereanalyzed,whichcanhelpUSunderstandtheargonflowdistributionsinCZ-Sicrystalfi瑚aceeffectivelyandadjusttheoxygenconcentrationbyanddirectioninCZ—Sicrystalfurnace.controllingargonflowvelocityComparingthehotzoneconfigurmionswithandwithoutheatshield,wefoundthatheatshieldcouldimprovethehotzoneconfiguration,crystalgrowthconditionsanddefectsintheCZ-Sicrystal.Simultaneously,throughadoptinghemshield,themelttemperaturedistributionswereimproved,thestabilityofcrystalgrowthWasenhancedandtheproductionefficiencyWaSincreaSedbyincreasingcrystalgrowthvelocity.ThehealersupplyingpowerWasreducedbyapplyingheatshieldbecauseofthereductionofheatloss,andtheinterstitialoxygeninthecrystalcanbedecreasedbecauseoftherestraintofthereactionbetweenthecrucibleandmelt,whichwasthemainsourceofoxygen.KeyWords:CZ-Sicrystal,heatshield,300mm,hotzone,argonflow,numericalsimulation.11.原创性声明本人郑重声明:所呈交的论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得研究成果。
单晶材料发展现状
单晶材料发展现状单晶材料是指晶体中存在一个区域具有完全相同的结构和取向,而其他区域则具有完全不同的结构和取向的材料。
它具有良好的热力学和力学性能,广泛应用于航空航天、能源、电子、光电等领域。
以下是单晶材料发展现状的介绍。
首先,单晶金属材料的发展进展迅速。
随着航空航天行业的不断发展,对高温、高强度、高韧性材料的需求越来越迫切。
单晶镍基合金作为一种重要的高温结构材料,具有良好的高温性能和抗氧化性能,已经成功应用于航空航天领域。
其次,单晶半导体材料的研究也取得了重要进展。
单晶硅是目前最常用的半导体材料,广泛应用于电子和光电子器件。
近年来,随着半导体技术的快速发展,人们逐渐开始研究其他单晶半导体材料,如氮化镓、碳化硅等,这些材料具有更高的载流子迁移率和更宽的能隙,可以应用于高性能功率器件和光电子器件。
另外,单晶陶瓷材料的研究也取得了一定的进展。
单晶陶瓷材料具有优异的力学性能和耐高温性能,被广泛应用于航空发动机、汽车发动机等高温工况下的零部件。
近年来,人们开始研究新型单晶陶瓷材料,如氧化锆、氧化铝等,以提高其力学性能和热稳定性,为高温工况下的应用提供更好的材料。
最后,单晶材料的制备技术也在不断改进和发展。
传统的单晶材料制备方法主要包括自发生长法、凝结法和加工法。
近年来,随着材料科学和制备技术的进步,人们开始采用先进的技术,如溶剂热法、气相沉积法等,以提高单晶材料的质量和尺寸,同时降低制备成本。
总的来说,单晶材料作为一种具有独特性能的材料,在航空航天、能源、电子、光电等领域具有广阔的应用前景。
随着材料科学和制备技术的不断进步,相信单晶材料的研究和应用将得到进一步的推动和突破。
硅产业发展现状和趋势研究报告
硅产业发展现状和趋势研究报告硅产业是指以硅材料为基础的产业,包括硅材料的生产、加工和应用等环节。
硅材料主要分为单晶硅、多晶硅和非晶硅等类型,是现代电子信息产业、太阳能产业和光电子产业的基础材料之一、本文将对硅产业的发展现状和趋势进行研究。
一、硅产业发展现状:1.生产环节:硅材料的生产主要集中在少数发达国家和地区,如美国、日本、韩国和中国等。
中国是全球硅材料生产第一大国,年产量占全球的70%以上。
中国的单晶硅生产技术达到国际先进水平,但多晶硅和非晶硅的生产技术还有待提高。
2.加工环节:硅材料加工主要包括切割、打磨和组装等工序。
目前,硅材料加工技术已经相对成熟,但在高速切割和薄片处理等方面仍有一定的技术难题。
3.应用环节:硅材料的应用非常广泛,主要包括电子信息产业、太阳能产业和光电子产业等。
在电子信息产业中,硅材料被广泛应用于半导体芯片、集成电路和显示屏等产品中。
在太阳能产业中,硅材料则是光伏电池的核心材料。
在光电子产业中,硅材料主要用于光学器件和光纤通信等领域。
二、硅产业发展趋势:1.技术创新:随着科技的不断进步,硅产业将会面临技术创新的挑战和机遇。
在硅材料生产环节,需要进一步提高多晶硅和非晶硅的生产技术,降低制造成本。
在硅材料加工环节,需要解决高速切割和薄片处理等技术难题,提高产品质量和加工效率。
在硅材料应用环节,需要加强光电子产业和新能源产业的融合应用,推动硅材料在光伏电池、光学器件和光纤通信等领域的创新应用。
2.资源优化:硅材料的生产需要大量的石英矿石和电力资源。
随着石英矿石和电力资源的稀缺性增加,硅产业将面临资源优化的压力。
因此,需要进一步提高硅材料的资源利用效率,降低生产过程中的能耗和排放。
3.绿色发展:硅产业对环境的影响较大,主要表现为能源消耗和废物排放等方面。
为了实现可持续发展,硅产业需要加大绿色技术和绿色制造的研发力度,减少能源消耗和废物排放,并积极推行循环经济模式,实现资源的可再生利用。
单晶硅可行性研究报告
单晶硅可行性研究报告一、绪论单晶硅是一种广泛应用于半导体和光伏产业的材料,其在现代科技领域具有重要的地位。
随着科技的发展和人们对可再生能源的需求增加,单晶硅的应用领域不断扩大。
本报告旨在对单晶硅的可行性进行深入研究,探讨其在不同领域的应用潜力,分析未来发展趋势,为相关产业的发展提供决策参考。
二、单晶硅的特性及制备方法1. 单晶硅的特性单晶硅具有良好的电学特性和光学特性,其高纯度的晶体结构使其具有较高的电子迁移率和光电转换效率,适用于制备太阳能电池、光学器件等。
此外,单晶硅的晶格结构稳定,化学惰性强,具有较高的机械强度和耐高温性,适用于制备微电子器件、功率器件等。
2. 单晶硅的制备方法目前制备单晶硅的主要方法包括Czochralski法、浮区法、分子束外延法等。
其中,Czochralski法是目前应用最为广泛的单晶硅生长方法,其制备工艺流程简单、成本较低,并且能够获得较大尺寸和较高质量的单晶硅。
三、单晶硅在半导体领域的应用1. 微电子器件单晶硅在微电子器件中广泛应用,如集成电路、传感器、存储器件等。
其高纯度和稳定的晶体结构能够保证器件的稳定性和可靠性,适用于信息技术、通信技术等领域。
2. 功率器件单晶硅可以制备高性能的功率器件,如IGBT、MOSFET等。
其较高的电子迁移率和较低的杂质浓度使得功率器件具有较高的导通能力和开关速度,有望在电力电子领域实现应用。
四、单晶硅在光伏领域的应用1. 太阳能电池单晶硅太阳能电池具有高光电转换效率和长期稳定性,广泛应用于太阳能发电系统。
其在储能系统、光伏电站等领域具有良好的应用前景。
2. 光电器件单晶硅在光电器件中的应用也日益广泛,如光伏控制器、太阳能光伏逆变器等。
其高纯度和稳定性能够保证光电器件的长期可靠运行,有望在未来的光伏领域发挥更大作用。
五、单晶硅的未来发展趋势随着科技的发展和能源需求的增加,单晶硅的应用领域将不断扩大。
未来单晶硅在半导体领域的应用将更加广泛,微电子器件和功率器件的性能将不断提高,并且在新一代信息技术和通信技术中发挥更重要的作用。
专家传略—曾世铭教授
曾世铭(1 9 3 3 -)曾世铭,〞半导体硅材料技术专家,中国半导体硅单晶制备技术的主要开拓者之一。
1956-1957年从事半导体锗的原料制备和单晶生长技术工作。
1958年起至今一直从事于半导体级直拉硅单晶,区熔硅单晶和太阳电池级硅单晶的科研开发及生产工作,历时五十余年。
由于成绩突出,多次获得国家级和部级科技进步奖及北京有色金属研究总院的立功奖。
1991年荣获国务院政府特殊津贴。
曾世铭,1933年7月19日出生于江苏省徐州市。
年幼时随家庭迁徙在西北读完了小学、初中。
1948年回昆明以优异成绩获得奖学金于天南中学读高中。
1951年考取云南大学矿冶系,1953年院校合并转至昆明工学院有色冶金系学习。
1955年7月毕业,服从国家统一分配至有色金属研究院工作,任技术员,1981年晋升为高级工程师,1987年晋升为教授级高工。
1.拉制出中国第一根硅单晶和研发成功细硅芯拉制工艺技术拉制出中国第一根硅单晶:1956-1957年从事半导体锗的原料制备和单晶拉制工作。
1958年起转为半导体硅的科研和开发,担任课题组长并参与单晶炉的设计工作。
当时由于我国受到欧美等国的技术封锁,既无硅多晶原料,也没有籽晶,更没有单晶炉。
北京有色研究院为了攻克国家发展急需的这种高科技材料,承担了攻关任务。
1957年开展了硅多晶的研制工作,1958年“十一”献礼,研制出了100公斤的四氯化硅锌还原的针状硅,并设计和制造了单晶炉,使用从苏联带回来的籽晶,仅用了一个多月的时间,于1958年11月和同事们昼夜奋战,拉制出了我国的第一颗硅单晶,解决了有无问题。
之后在单晶的掺杂技术和增大直径方面经过努力也大有进展。
研发成功细硅芯拉制工艺技术:1963年使用有色金属研究院开发的高频基座拉晶炉研究成功细硅芯拉制工艺,成功地解决了批量生产高纯硅多晶工业中,氢还原工序必需的细硅芯材料问题。
以往都是用机床来切割成细硅芯的,速度慢,损耗大,长度短不利于工业化。
课程思政在《晶体生长与凝固技术》中的实践与探索
课程思政在《晶体生长与凝固技术》中的实践与探索作者:陈媛芝汪沉沉来源:《科技资讯》2020年第11期摘; 要:本文反思了以往《晶体生长与凝固技术》的授课方式,结合习近平总书记在全国高校思想政治工作会议和学校思想政治理论课教师座谈会上的重要讲话,对该课程思政建设进行了教学探讨。
以立德树人为总目标,探讨了晶体生长与祖国发展、民族命运相联系的教学模式,实现“润思政”于无声,在传授相关专业知识的同时,与思想政治理论课同向同行,形成协同效应,培养社会主义事业的合格建设者和可靠接班人。
关键词:晶体生长与凝固技术; 课程思政; 立德树人儒家经典《大学》的开篇第一句即“大学之道,在明明德,在亲民,在止于至善。
” 因此,大学的宗旨不仅在于传道授业解惑,也在于培养正确的思想观道德观和价值观。
特别是在互联网和新媒体日益膨胀的今天,各种信息井喷式向大学生涌来,对于肩负祖国未来、民族希望和中华民族伟大复兴使命的当代大学生的思想教育工作也提出了新的挑战。
2016年12月,习近平总书记在全国高校思想政治工作会议上强调课堂教学在高校思想政治工作中的重要性,其他各类课程应同样肩负思想政治教育的德育使命,与思政课程相互协同呼应,共同开拓全面育人的新局面[1]。
2019年3月18 日,习总书记又在主持召开学校思想政治理论课教师座谈会并发表重要讲话,指出“新时代贯彻党的教育方针,要坚持马克思主义指导地位,贯彻新时代中国特色社会主义思想,坚持社会主义办学方向,落实立德树人的根本任务,坚持教育为人民服务、为中国共产党治国理政服务、为巩固和发展中国特色社会主义制度服务、为改革开放和社会主义现代化建设服务,扎根中国大地办教育,同生产劳动和社会实践相结合,加快推进教育现代化、建设教育强国、办好人民满意的教育,努力培养担当民族复兴大任的时代新人,培养德智体美劳全面发展的社会主义建设者和接班人。
”并强调:“办好思想政治理论课,最根本的是要全面贯彻党的教育方针,解决好培养什么人、怎样培养人、为谁培养人这个根本问题。
光伏单晶硅的发展史
光伏单晶硅的发展史光伏单晶硅的发展史引言光伏单晶硅作为太阳能产业的重要组成部分,凭借其高效能和环保特性,成为了可再生能源中最为主流的应用之一。
本文将深入探讨光伏单晶硅的发展史,并对其技术进步、市场应用以及未来前景进行全面评估。
一、光伏单晶硅的诞生与初期发展1.1 光伏单晶硅的诞生光伏单晶硅是指通过对硅材料进行精炼、晶体生长、切片等工艺步骤,制备出具有单一结晶结构的硅片。
光伏单晶硅的发展可追溯到20世纪50年代末,当时美国贝尔实验室首次成功利用硅材料制备出具有均匀结晶结构的光伏电池。
1.2 光伏单晶硅的初期发展起初,光伏单晶硅技术仅限于实验室研究,由于制备过程复杂且昂贵,并没有大规模应用于工业生产。
然而,在20世纪60年代末和70年代初,光伏单晶硅的生产成本逐渐下降,使得其在航天、航空等领域开始得到广泛运用。
二、光伏单晶硅的技术进步与市场应用2.1 光伏单晶硅技术的进步随着科学技术的进步和工艺的改进,光伏单晶硅的效率逐渐提升。
通过改进硅材料的生长工艺,如Czochralski法和Float-Zone法,提高了晶体的纯度和均匀性,从而提高了电池的转换效率。
引入了表面退火和抗反射膜等工艺,减少能量损失和提高光吸收效率。
通过结构优化和材料改良,减少了电池的漏电流和热损失,进一步提高了光伏单晶硅的效率。
2.2 光伏单晶硅的市场应用随着光伏单晶硅技术的不断进步,其在市场上的应用也得到了大规模的拓展。
光伏单晶硅模块广泛应用于住宅和商业建筑的屋顶、立面和地面等位置,通过将太阳能转化为电能,为人们提供了清洁、可再生的能源。
随着能源需求的增加和环境保护意识的提高,光伏单晶硅还被广泛应用于农村地区的电力供应、航天航空领域和移动通信设备等。
三、光伏单晶硅的未来发展前景3.1 技术突破与创新光伏单晶硅在不断追求更高效率的也面临着挑战。
未来,随着人们对清洁能源的需求不断增加,光伏单晶硅技术将不断突破瓶颈,实现更高的转化效率。
直拉单晶硅工艺技术黄有志
直拉单晶硅工艺技术黄有志直拉单晶硅工艺技术是制备单晶硅材料的一种重要方法。
该技术的发展,对于现代半导体产业的推动和发展具有重要意义。
黄有志博士是在该领域取得突破性进展的科学家之一。
以下是对其工艺技术的一些介绍。
直拉单晶硅工艺技术是制备高纯度、高晶质结构的单晶硅材料的关键技术之一。
它是将多晶硅材料通过高温熔融状态下拉制而成的。
在这个过程中,使用的原料是通常用石英砂进行还原制备的多晶硅材料,通过特定的工艺参数控制,使其在高温下逐渐冷却凝固,形成单晶硅材料。
直拉单晶硅工艺技术具有高效、高质量的特点。
首先,该工艺技术能够有效地提高单晶硅材料的纯度。
在熔融状态下,通过控制氧气处理时间和掺杂剂的加入,可以有效地去除杂质。
其次,该工艺技术能够制备出高质量的单晶硅材料。
通过控制拉伸速度和温度梯度,可以减少晶体结构的缺陷,提高晶体的完整性和结晶度。
最后,该工艺技术还具有高效率的特点。
相比于其他制备单晶硅材料的方法,直拉工艺技术可以大规模生产,并且成本低廉,适用于工业化生产。
黄有志博士在直拉单晶硅工艺技术的研究领域做出了突出的贡献。
他主要关注在工艺参数的优化和工艺过程的监控控制方面。
通过对熔融硅的温度、拉伸速度、氧气处理时间等参数的研究,他成功地优化了工艺参数,提高了单晶硅材料的质量和产量。
同时,他还研发了一套先进的监控系统,可以实时监测熔融硅的温度和拉伸速度等参数,确保工艺过程的稳定性和可控性。
黄有志博士的工艺技术在半导体产业中得到了广泛的应用。
单晶硅材料是半导体器件制备中不可或缺的基础材料,而直拉单晶硅工艺技术能够高效、高质量地制备出该材料,为半导体器件的生产提供了重要保障。
目前,黄有志博士的工艺技术已广泛应用于半导体材料制备企业中,并且取得了良好的经济效益和应用效果。
总之,直拉单晶硅工艺技术是制备高纯度、高质量的单晶硅材料的关键技术之一。
黄有志博士在该领域的研究和创新,为该技术的发展和应用做出了重要贡献。
他的工艺技术在半导体产业中得到了广泛应用,为半导体器件的制备提供了重要支持。
单晶硅片发展史
单晶硅片发展史1. 起源和发展初期单晶硅片是指由纯硅材料制成的晶体片,具有高纯度、均匀性好和电学性能优越等特点,广泛应用于电子器件中。
其历史可以追溯到20世纪60年代初期。
当时,电子行业正迅速发展,对于新型材料及其制备方法的研究需求逐渐增加。
纯度较高的硅材料被发现在半导体领域有巨大潜力,因为硅具有较好的导电和绝缘特性。
为了实现可控的硅片制备,科研人员开始对硅材料进行纯化、晶体生长以及切割处理等工艺的研究。
2. Czochralski法20世纪60年代中叶,波兰科学家托德罗斯·科赫拉尔斯基(Jan Czochralski)发明了一种新的硅片制备方法,这就是著名的Czochralski法(CZ法)。
CZ法是通过将一根种子晶体浸入炉中的熔融硅中,然后慢慢上拉出来,使熔融硅凝固形成硅单晶。
这种方法有效解决了硅片制备过程中晶体纯化和生长问题,大大提高了硅片的制备效率和品质。
随着CZ法的出现,单晶硅片的生产量得以大幅度增加,使得半导体产业出现了快速发展的良好基础。
3. 其他发展尽管CZ法成为了主流的硅片制备方法,但随着电子行业的不断发展,人们对更高纯度和更完美晶体结构的单晶硅片需求日益增加,科研人员纷纷探索新的制备方法。
在20世纪80年代后期,由于化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)技术的突破,形成了向多晶硅制备方法迁移的新趋势。
CVD技术通过气相反应将硅腊沉积在制备衬底上,然后以适当的工艺条件在高温下熔化使其形成单晶结构。
此外,还有其他一些方法如分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)等被应用于制备高质量的单晶硅片。
4. 现代应用和进展如今,单晶硅片已经成为电子行业和太阳能光伏领域中最重要的材料之一。
在电子行业中,单晶硅片广泛用于制造半导体器件,如晶体管、光电池、LED 等。
其高纯度和均匀性使得电子器件的性能得以有效提升。
而在太阳能光伏领域,单晶硅片通过切割成薄片并组合成太阳能电池板,能够将太阳能直接转化为电能。
单晶硅原理
单晶硅原理
单晶硅是指硅材料由一个晶体结构组成。
其制备过程包括以下步骤:首先通过高温熔化硅原料,然后将熔融的硅液缓慢冷却,使其形成一个完整的晶体。
在冷却过程中,硅原子会按照一定的排列顺序结晶,形成一个具有规则晶格的晶体结构。
由于此过程中硅液内部不存在杂质,因此形成的单晶硅纯度极高。
单晶硅具有许多优良的特性,使其成为电子行业中广泛应用的材料。
首先,单晶硅的电学性能稳定,具有优异的导电性和半导体特性,使其成为制备半导体器件的理想基底材料。
其次,单晶硅具有高硬度和抗腐蚀性能,使其在微电子加工过程中能够承受高温、高压和强酸碱等恶劣环境。
此外,由于单晶硅具有高光透过率和低光反射率,因此也被广泛应用于太阳能电池板的制造。
在制备单晶硅的过程中,需要严格控制原料的纯度和加工的工艺参数。
由于单晶硅晶体结构的完整性对其性能至关重要,因此在材料制备过程中需要避免晶体内部的缺陷、杂质和晶界等问题。
制备出的单晶硅通常具有长方体、方柱状或圆柱状的外形,可以根据具体应用需求进行切割和加工。
总之,单晶硅的制备过程包括高温熔化硅原料、缓慢冷却形成完整晶体等步骤。
其具有优异的电学性能、硬度和抗腐蚀性能,被广泛应用于电子行业和光伏产业中。
制备单晶硅需要严格控制材料纯度和工艺参数,确保晶体结构完整性。
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单晶硅生长技术的研究与发展摘要:综述了单晶硅生长技术的研究现状。
对改良热场技术、磁场直拉技术、真空高阻技术以及氧浓度的控制等技术进行了论述。
关键词:单晶硅;真空高阻;磁场;氧含量;氮掺杂一、前言影响国家未来在高新技术和能源领域实力的战略资源。
作为一种功能材料,其性能应该是各向异性的,因此半导体硅大都应该制备成硅单晶,并加工成抛光片,方可制造IC器件,超过98%的电子元件都足使用硅单晶”引。
生产单晶硅的原料主要包括:半导体单晶硅碎片,半导体单晶硅切割剩余的头尾料、边皮料等。
目前,单晶硅的生长技术主要有直拉法(CZ)和悬浮区熔法(FZ)。
在单晶硅的制备过程中还可根据需要进行掺杂,以控制材料的电阻率,掺杂元素一般为Ⅲ或V主族元素.生长制备后的单晶硅棒还需经过切片、打磨、腐蚀、抛光等工序深加工后方可制成用作半导体材料的单晶硅片。
随着单晶硅生长及加工处理技术的进步,单晶硅正朝着大直径化(300ram以上)、低的杂质及缺陷含晕、更均匀的分布以及生产成本低、效率高的方向发展。
二、单晶硅的生长原理在单晶硅生长过程中,随着熔场温度的下降,将发生由液态转变到固态的相变化。
对于发生在等温、等压条件下的相变化,不同相之间的相对稳定性可由吉布斯自由能判定。
AG可以视为结晶驱动力。
△G=△H—TAS (1)在平衡的熔化温度瓦时,固液两相的自由能是相等的,即AG=0,因此△G=AH一瓦X AS---O (2)所以,AS=AH/T= (3)其中,AH即为结晶潜热。
将式(3)代入式(1)可得(4)由式(4)可以看出,由于AS是一个负值常数,所以△兀即过冷度)可被视为结晶的唯一驱动力。
以典型的CZ长晶法为例,加热器的作用在于提供系统热量,以使熔硅维持在高于熔点的温度。
如果在液面浸入一品种,在品种与熔硅达到热平衡时,液面会靠着表面张力的支撑吸附在晶种下方。
若此时将晶种往上提升,这些被吸附的液体也会跟着晶种往上运动,而形成过冷状态。
这节过冷的液体由于过冷度产生的驱动力而结晶,并随着晶种方向长成单晶棒。
在凝固结晶过程中,所释放出的潜热是一个间接的热量来源,潜热将借着传导作用而沿着晶棒传输。
同时,晶棒表面也会借着热辐射与热对流将热量散失到外围,另外熔场表面也会将热量散失掉。
于是,在一个固定的条件下,进入系统的热能将等于系统输出的热能陟。
三、硅单晶生长方法1直拉(CZ)法直拉法的生产过程简单来说就是利用旋转的籽晶从熔硅中提拉制备单晶硅。
此法产量大、成本低,国内外大多数太阳能单晶硅片厂家多采用这种技术。
目前,直拉法生产工艺的研究热点主要有:先进的热场构造、磁场直拉法以及对单晶硅中氧浓度的控制等方面。
(1)先进的热场构造在现代下游IC产业对硅片品质依赖度日益增加的情况下,热场的设计要求越来越高。
好的热场必须能够使炉内的温度分布达到最佳化,因此一些特殊的热场元件正逐渐被使用在先进的CZ长晶炉内。
任丙彦等对φ200mm太阳能用直拉单晶的生长速率进行了研究。
通过采用热屏、复合式导流系统及双加热器改造直拉炉的热系统(图1)进行不同热系统下的拉晶试验,结果发现平均拉速可从0.6mm/min提高到0.9mIn/min,提升了50%。
用有限元法对氩气流场和单晶炉热场进行模拟试验,结果表明:改造后的氩气流场被明显优化,界面附近的晶体纵向温度梯度增加,熔体纵向温度梯度减小。
研究发现,直拉炉中增加热屏后平均拉速明显提高的原因主要有两个:一方面热屏阻止加热器的热量向晶体辐射,减弱了固液界面热辐射力度;另一方面,热屏起到了氩气导流作用。
在敞开系统中,氩气流形成漩涡,增加了炉内气氛流动的不稳定性,氩气对晶体的直接冷却能力弱,不利于生长出无位错单晶。
增加热屏后,漩涡消失,氩气流速增加,对晶体的直接冷却和溶液界面吹拂能力加强。
直拉炉加装导流筒后,炉膛被分成了上下两个空间,氩气流局限在复合式导流系统中,然后仅从内层保温罩一加热器、加热器一石墨坩埚这两个缝隙中通过,流速进一步增加,并在流动过程中不断从炉内带走结晶潜热。
通过对模拟结果的后处理,得到两种热系统下界面10cm附近晶体和熔体的8个温度值,经分析得出:与敞开系统相比,密闭系统界面附近晶体轴向温度梯度增大约10℃,而熔体中轴向温度梯度降低约5℃。
在CZ长晶过程中,当熔体中的温度梯度越小而晶体温度梯度越大时,生长速率越高,如图2、图3所示。
在向大直径发展,投料量急剧增加。
由于大熔体严重的热对流不但影响晶体质量,甚至会破坏单晶生长。
目前,抑制热对流最常用的方法是在长晶系统内加装磁场。
在磁场下生长单晶,当引入磁感应强度达到一定值时,一切宏观对流均受到洛仑兹力的作用而被抑制。
引入磁场的磁力线分布有纵向、横向和Cusp三种,从抑制硅单晶氧浓度考虑,应以Cusp磁场为最佳。
宇慧平”等研究了不同磁场对大直径单晶硅生长中的动量与热量传输的影响,并进行数值分析。
通过采用紊流模型对大直径硅单晶在垂直磁场及勾行磁场作用时熔体内动量及热量进行数值模拟和利用有限体积法离散控制方程、SMPLE等算法对压力和速度场进行耦合得出:垂直磁场对动量及热量的分布具有双重效应。
垂直磁场强度过大(融胆100毗2000),不利于晶体生长。
对无磁场、垂直磁场及勾形磁场作用下熔体内的传输特性进行比较后发现,随着勾形磁场强度的增加,熔体内子午面上的流动减弱,并且紊流强度也相应降低。
徐岳生HTI等使用钕铁硼永磁体向熔体空间引入磁场,研究了永磁体所产生的磁场对3”硅单晶生长的影响。
研究发现,采用钕铁硼永磁体向熔硅所在空间中引入Cusp磁场后,当坩埚边缘磁感应强度达到0.15T时,熔硅中杂质输运受到扩散控制,熔硅自由表面观察到明显的表面张力对流,单晶硅的纵向、径向电阻率均匀性得到改善。
通过试验得出了磁感应强度B对应等效微重力的量级关系式:硅单晶生长,用硅熔体的有关物性参数代入盯表示式,可求得在石英坩埚边缘处所产生的等效微重力接近于一般低轨道卫星的微重力等级。
在坩埚边缘处,B值相同情况下,大直径坩埚对应的等效微重力量级较高,但实现B值较困难。
研究表明,增加永磁体的数量可以达到要求。
(3)氧浓度的控制在直拉单晶硅生长过程中,由于石英坩埚的溶解,一部分氧通常会进入到单晶硅中,这些氧主要存在于硅品格的间隙位置。
当间隙氧的浓度超过某一温度下氧在硅中的溶解度时,间隙氧就会在单晶硅中沉淀下来,形成单晶硅中常见的氧沉淀缺陷。
如果不对硅片中的氧沉淀进行控制,将会对集成电路造成危害。
通过一定的工艺,在硅片体内形成高密度的氧沉淀,而在硅片表面形成一定深度的无缺陷洁净区。
该区域将用于制造器件,这就足“内吸杂”工艺。
如果氧浓度太低,就没有“内圾杂”作用,反之如果氧浓度太高,会使晶片在高温制程中产生挠曲。
因此适当控制氧析出物的含量对制备性能优良的单晶硅材料有重大意义。
符黎明等重点研究了直拉硅中氧沉淀在快速热处理(RTP)和常规炉退火过程中的高温消融以及再生长行为。
研究发现,RTP是一种快速消融氧沉淀的有效方式,比常规炉退火消融氧沉淀更加显著。
硅片经RTP消融处理后,在氧沉淀再生长退火过程中,硅的体微缺陷(BMD)密度显著增加,BMD的尺寸明显增大。
研究还发现,氧沉淀消融处理后,后续退火的温度越高,氧沉淀的再生长越快。
Kissinger等采用红外激光散射断层谱(承一LSD对1000。
C、l 100"C 退火后的掺氮直拉硅中氧沉淀的尺寸分布进行了详细的研究。
研究表明,随着退火时间的延长,小尺寸的氧沉淀逐渐减少,而大尺寸的氧沉淀逐渐增多。
这说明在退火过程中半径小于该温度下临界形核半径的氧沉淀被消融了,而半径大于该温度下临界形核半径的氧沉淀继续长大,这就是Oswald熟化机制。
研究还发现,氮浓度越高或退火温度越高,氧沉淀的熟化过程进行得越快。
李勇幢等利用傅立叶红外光谱仪研究了掺氮直拉单晶硅和普通盲拉单晶硅的原生氧沉淀以及模拟太阳电池制备热处理工艺下的氧沉淀行为。
结果发现,掺氮直拉单晶硅的原生氧沉淀浓度比普通直拉单晶硅的略高,这是因为氮在晶体生长过程中可以促进氧沉淀,如图4N 示。
但是研究发现,在模拟太阳电池制备热处理工艺中掺氮直拉单晶硅和普通直拉单晶硅一样,仅有非常少量氧沉淀产生。
这表明在太阳电池的短时间热处理工艺中,氮只会对氧沉淀产生微量影响,不会影响磷吸杂的效果,如图5所示。
2、区熔(FZ)法区熔法是先利用线圈将原料硅棒局部加热熔化,熔区因受到磁托浮力而处于悬浮态,然后从熔区下方利用旋转着的籽晶将熔硅拉制成单晶硅。
此法由于生长过程中熔区始终处于悬浮状态,不与任何物质接触,生长过程中的杂质分凝效应和蒸发效应显著等原因,因此产品纯度高,各项性能好。
但由于其生产成本高,对设备和技术的要求较为苛刻,所以一般仅用于军工、太空等高要求硅片的生长。
闫萍等采用真空区熔工艺,制备出导电类型为P 型,电阻率(3~5)X lO 3Ω2/cm 及(1~2)×lO 4Ωcm 两种规格的真空区熔硅单晶,其中电阻率为(3-5)x 103Ω的单晶除进行真空区熔提纯外,还需进行微量的掺杂。
两根单晶直径30~50mm ,晶向<11l>。
经检测,均无位错及漩涡缺陷,少子寿命达到1500μs 以上。
闫萍等通过在氩气气氛及真空环境下进行高阻区熔硅单晶生长试验发现,与在氩气气氛下生长硅单晶相比,在真空环境下采用较低的晶体生长速率即可生长出无漩涡缺陷的单晶,而当晶体生长速度较高时,尽管可以消除漩涡,但单晶的少子寿命却有明显的下降。
在真空中生长无漩涡缺陷单晶的生长速率,比在氩气气氛下生长同样直径单晶的生长速率低,但漩涡缺陷对单晶少子寿命的影响并不明显。
四、结语本文对单晶硅生长技术的研究进展进行了综述。
以前的研究表明,改进热场构造和在熔硅所在空间引进磁场分别可起到节能降耗和生长大直径单晶硅的目的。
氮在硅晶体生长过程中可以促进原生氧沉淀的形成,进而增加后续热工艺中的氧沉淀含量;氮还能增强氧沉淀的稳定性。
这两个特征使得掺氮直拉硅在集成电路工艺中的热预算减小,并且在硅片初始氧浓度降低的情况下仍能保持很强的内吸杂能力,因而备受硅材料产业界和学术界关注。
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