110415-产业信息快递-4月(14)

产业信息快递中电控股规划发展部第14期 2011.4.15目录一、市场跟踪 (2)1. 1月全球芯片销售收入增长14%至255亿美元 (2)2. 中小尺寸面板扩大释单台湾工厂 (2)二、企业动态 (5)1. 英特尔10nm设计规则初定EUV技术恐错过良机 (5)2. 深圳IC设计企业加速登陆创业板 (7)3. AMD驳斥Oracle收购传闻 (9)三、产业信息 (12)1. 针对中国物联网产业市场规模数量化预测 (12)2. 日本地震波及全球半导体产业 (13)四、热点分析 (15)1. 日本震区芯片企业最新动态 (15)2. 运营商大战移动支付 (16)一、市场跟踪1.1月全球芯片销售收入增长14%至255亿美元出自：网易科技美国半导体行业协会（SIA）周一发表报告称，受使用芯片产品日益增长的推动，2011年1月全球芯片销售收入同比增长14%，环比增长1.5%，至255亿美元。

美国半导体行业协会的成员包括了英特尔、AMD和LSI等。

该机构称，去年工业部门芯片销售收入同比增长50%，汽车电子芯片销售增长44%。

汽车电子的繁荣来自于混合动力和电动汽车、娱乐应用、发动机控制和导航系统对芯片的需求增长。

按照地区划分，1月份美洲地区销售收入同比增长25%，至47亿美元；欧洲地区销售收入增长13%至33.1亿美元；日本销售收入增长9.6%至38.3亿美元，亚太地区销售收入增长12%至136.8亿美元。

SIA总裁布赖恩•图希（BrianToohey）表示：“这个行业将继续稳定增长，因为芯片日益应用到广泛的产品中。

过去1年里芯片销售一直快速增长，随着我们每天使用的产品变得更智能、速度更快、价格更便宜，所有主要终端市场的需求都很强劲。

特别是工业和汽车行业出现大幅增长，这种趋势令人鼓舞”。

所有垂直部门，包括消费电子、汽车、计算机、工业、通讯和政府应用等，芯片集成度日益提高，推动2010年芯片销售增长了32%。

节能工具的集成和工业应用自动化的提高，为行业增长做出了贡献。

2.中小尺寸面板扩大释单台湾工厂出自：经济日报日本二度发生强震，中小尺寸面板与存储器产业链都将继续有短期转单效应，为奇美电、群联、旺宏、力成等业者淡季营运添柴火。

日立显示器公司宣布因工厂位于限电区，工厂生产受到影响，将把更多智能型手机使用的小尺寸面板外包给奇美电，转单效应最快8月出货，市场预期，其它日本中小尺寸面板厂可能跟进日立，扩大委外释单给台厂。

法人指出，夏普、日立和东芝为日本中小尺寸面板主要供应商，日立显示将把供应智能手机用的4寸面板生产工作，外包给奇美电，这将使得整个日本中小尺寸面板厂产能得以增加20%至30%。

台湾中小尺寸面板业者证实，日本接连强震，有助接到短期急单。

若5月中过后关键零组件材料的库存仍吃紧，将可视为长期订单。

存储器方面，尔必达(Elpida)、东芝两大厂尚未完全摆脱前次强震冲击，又再度面临超大余震来袭。

尔必达位于秋田的工厂虽无人员伤亡，但仍被迫停工，将更依赖对台湾子公司瑞晶与封测协力厂力成的依赖。

市调机构IHS iSuppli认为，日本强震使得DRAM芯片供应受到影响，出现售价无预警上涨情况。

该机构将今年DRAM芯片销售额预估，由先前的减少10.6%上调至减少4%。

另外，全球逾三分之一的储存型快闪存储器(NAND Flash)产出来自日本，日本强震也将使得供给受阻，推升报价走扬。

台湾与NAND Flash相关的业者包括威刚、创见群联等，都将受惠。

编码型快闪存储器(NOR Flash)转单效应也正加温，旺宏便指出，近期有不少急单涌入，该公司3月NOR芯片比重大增，本季转单效应会更显著，挹注营运力道会更强。

际，又面临强大余震再度影响生产，有助舒缓第二季市场供需失衡压力。

二、企业动态1.英特尔10nm设计规则初定 EUV技术恐错过良机出自：电子工程专辑评论：从这篇文章上，我们可以看到中国的集成电路水平与国际水平的差距。

目前，中芯号称可以做到90纳米的水平，但是并不稳定。

国内集成电路企业在台湾同行的帮助下，可以从事60纳米的设计工作，而英特尔已经实现了22纳米的商用，且进一步进入到10纳米级的开发中。

英特尔公司正在计划将目前的193nm浸入式微影技术扩展到14nm逻辑节点，此一计划预计在2013下半年实现。

同时，这家芯片业巨头也希望能在2015年下半年于10nm逻辑节点使用超紫外光(EUV)微影技术进行生产。

但英特尔微影技术总监SamSivakumar指出，超紫外光(EUV)微影技术正面临缺乏关键里程碑的危机。

尽管英特尔在距今4年前便已开始计划10nm节点，但该公司目前正在敲定相关的制程设计规则，而EUV则迟迟未能参与此一盛晏。

“EUV赶不及参与10nm 节点设计规则的定义。

”Sivakumar说。

Sivakumar表示，若生产工具顺利在2012年下半年交货，那么，EUV技术仍然很可能被应用在该公司的10nm节点。

但即便如此，EUV技术的进度仍然落后。

英特尔正在考虑两家公司的EUV技术工具：ASML和Nikon。

据报导，ASML 公司即将为英特尔推出一款“预生产”的EUV微影工具。

ASML公司的这款工具名为NXE:3100，它采用Cymer公司的光源。

而Nikon日本总部和研发组织Selete则已开发了EUV alpha工具。

今年或明年，ASML和Nikon应该都能推出成熟的EUV工具。

尽管如此，对EUV技术而言，时间依然紧迫。

EUV是下一代微影(next-generationlithography,NGL)技术，原先预计在65nm时导入芯片生产。

但该技术一直被推迟，主要原因是缺乏光源能(powersources)、无缺陷光罩、阻抗和量测等基础技术。

先进芯片制造商们仍然指望能将EUV技术用在量产上，以努力避免可怕且昂贵的双重曝光(doublepatterning)光学微影技术。

然而，除了朝双重曝光方向发展之外，芯片制造商们似乎别无选择。

专家认为，目前EUV主要瞄准16nm或更先进的节点。

设计规则的规则英特尔在45nm节点使用干式193nm微影。

在32纳米则首次使用193nm浸入式生产工具，这部份主要使用Nikon的设备。

在22纳米，英特尔将继续使用193nm浸入式微影技术。

这家芯片巨头将在22nm节点的关键层同时使用ASML和Nikon的设备，预计2011下半年进入量产。

而后在14nm，这家芯片制造商将继续使用193nm浸入式微影加上双重曝光技术，该公司称之为两次间距曝光(pitchsplitting)。

在一些会议上，英特尔曾提及在14nm节点使用五倍曝光(quintuplepatterning)。

该公司希望为14nm节点建立一条EUV试产线，但目前尚不清楚EUV技术所需的准备时间。

英特尔已经确定其14nm节点的设计规则，有时甚至在产品量产前两年便制订完成。

“针对14nm的设计规则目前是确定的。

”Sivakumar说。

在65纳米及以上制程，英特尔采用2D随机和复杂的布局设计芯片。

但在45nm时则很难再将2D随机布局微缩。

因此，在推进到45nm时，英特尔便转移到1D的单向、栅格式(gridded)设计规则，他说。

针对10nm节点，英特尔希望在非关键层使用193nm浸入式技术，以及在更复杂和更精细的线切割步骤中使用EUV。

“在这些步骤中，EUV是我们的首要选择，”他说。

如果EUV尚未就绪，那么英特尔很可能会使用无光罩或193nm 浸入式技术来处理线切割步骤。

英特尔也已大致确立了其10nm设计规则，它将是基于1D单向、栅格式的设计。

但难题是：英特尔的10nm设计规则必须以EUV或是193nm浸入式方案其中一种为主，他表示。

EUV显然赶不及英特尔的10nm节点设计规则定义时程了，他说。

据报导，英特尔已开始制定基于193nm浸入式和多重曝光(multiple-patterning)的设计规则。

当EUV工具就绪，英特尔可能会回头重新定义设计规则。

因此，实际上EUV 仍有可能用于10nm节点。

但若工具没有准备好，英特尔就必须寻求其他的选择。

该公司的10纳米设计规则将正式在2013年第一季抵定。

2.深圳IC设计企业加速登陆创业板出自：深圳商报在国家、深圳市力推新兴产业发展的政策“暖风”劲吹下，深圳ＩＣ设计产业已成为发展势头最强劲的一个细分新兴产业领域，有望在创业板形成一个新的“上市阵营”，这是记者昨日从深圳ＩＣ基地及有关企业获悉的。

据介绍，继国民技术、朗科登上创业板后，深圳芯邦、明微也将于近期上市，长运通、艾科创新等一批深圳本土ＩＣ设计新锐企业也在加快股改，积极筹备登陆创业板。

去年销售近百亿最近的统计数据显示，２０１０年深圳高新技术产业继续保持快速发展，实现高新技术产品产值达９１３２亿元，这其中，电子信息（ＩＴ）产业实现产值约８０７０．５亿元，占据了绝对主力。

深圳ＩＴ产业超快发展，并成为深圳经济的支柱产业，这背后，每件ＩＴ产品必须的ＩＣ（芯片、集成电路），可谓灵魂、技术核心。

而处于整个高新技术产业链最前端的ＩＣ设计的快速发展，则是深圳ＩＴ产业实现高速发展的重要“推进器”。

深圳ＩＣ基地主任周生明表示，据不完全统计，２０１０年中国ＩＣ设计行业的销售额约实现５５０亿元，近十年来保持高达近４５％的复合增长率，增势强劲。

这一数据意味着，深圳的ＩＣ设计产业规模，与北京、上海比肩，稳居前三的领先位置。

多家企业拟登陆创业板与本土系统整机企业“共同起飞”，这是包括深圳众多ＩＣ设计企业迅速崛起的重要原因。

据悉，近年来包括华为、中兴、康佳、创维、比亚迪在内的众多整机或设备厂商密集扎堆深圳，对ＩＣ设计形成巨量消耗和需求。

在国家、深圳市力推ＩＣ等新兴产业发展的有力背景下，深圳ＩＣ设计在产业规模不断扩大的同时，众多新锐企业更快速催生。

记者获悉，截至２０１０年，深圳ＩＣ设计企业总数已达１３５家，专业从业人员已超过１万人。

在目前全国销售额最大的ＩＣ设计企业中，深圳海思、国微、国民技术等排前十名。

其中，华为背景的海思，销售排名已连续多年稳居首位；伴随网上银行爆发性增长而崛起、专门研制和提供Ｕ盘安全芯片的国民技术，更于去年成功登上创业板，成为最受瞩目的一家高科技企业。

“一大批ＩＣ设计企业在深圳促生、聚集，正推动一个强大的创业板上市阵营的出现。

”据周生明透露，在朗科、国民技术先后登陆创业板后，近期，专注于闪存控制、数码显示驱动芯片并成行业龙头的深圳设计企业芯邦、明微也即将上市。

而长运通、艾科创新、安搏、天利、力合微、国微电子等一批芯片设计领军企业，也加快股改，瞄准上市。

后继发展动力强劲“历经金融危机后，深圳的优势和吸引力更加明显，已成为国内外ＩＣ设计企业创业和发展的首选城市之一。

”深圳集成电路设计产业化基地管理中心技术部部长赵秋奇，在最近撰写的一份产业分析报告中如是说。