MEMS的主要工艺类型与流程

合集下载
  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

MEMS的主要工艺类型与流程

(LIGA技术简介)

目录

〇、引言

一、什么是MEMS技术

1、MEMS的定义

2、MEMS研究的历史

3、MEMS技术的研究现状

二、MEMS技术的主要工艺与流程

1、体加工工艺

2、硅表面微机械加工技术

3、结合技术

4、逐次加工

三、LIGA技术、准LIGA技术、SLIGA技术

1、LIGA技术是微细加工的一种新方法,它的典型工艺流程如上图所示。

2、与传统微细加工方法比,用LIGA技术进行超微细加工有如下特点:

3、LIGA技术的应用与发展

4、准LIGA技术

5、多层光刻胶工艺在准LIGA工艺中的应用

6、SLIGA技术

四、MEMS技术的最新应用介绍

五、参考文献

六、课程心得

〇、引言

《微机电原理及制造工艺I》是一门自学课程,我们在王跃宗老师的指导下,以李德胜老师的书为主要参考,结合互联网和图书馆的资料,实践了自主学习一门课的过程。本文是对一学期来所学内容的总结和报告。由于我在课程中主讲LIGA技术一节,所以在报告中该部分内容将单列一章,以作详述。

一、什么是MEMS技术

1、MEMS的概念

MEMS即Micro-Electro-Mechanical System,它是以微电子、微机械及材料科学为基础,研究、设计、制造、具有特定功能的微型装置,包括微结构器件、微传感器、微执行器和微系统等。一般认为,微电子机械系统通常指的是特征尺度大于1μm小于1nm,结合了电子和机械部件并用IC集成工艺加工的装置。微机电系统是多种学科交叉融合具有战略意义的前沿高技术,是未来的主导产业之一。

MEMS技术自八十年代末开始受到世界各国的广泛重视,主要技术途径有三种,一是以美国为代表的以集成电路加工技术为基础的硅基微加工技术;二是以德国为代表发展起来的利用X射线深度光刻、微电铸、微铸塑的LIGA( Lithograph galvanfomung und abformug)技术,;三是以日本为代表发展的精密加工技术,如微细电火花EDM、超声波加工。

MEMS技术特点是:小尺寸、多样化、微电子等。

(1)微型化:MEMS体积小(芯片的特征尺寸为纳米/微米级)、质量轻、功耗低、惯性小、谐振频率高、响应时间短。例如,一个压力成像器的微系统,含有1024个微型压力传感器,整个膜片尺寸仅为10mm×10mm,每个压力芯片尺寸为50μm×50μm。

(2)多样化:MEMS包含有数字接口、自检、自调整和总线兼容等功能,具备在网络中应用的基本条件,具有标准的输出,便于与系统集成在一起,而且能按照需求,灵活地设计制造更多化的MEMS。

(3)微电子化:采用MEMS工艺,可以把不同功能、不同敏感方向或致动方向的多个传感器或执行器集成于一体,或形成微传感阵列、微执行器阵列甚至把多种功能的器件集成在一起,形成复杂的微系统。微传感器、微执行器和微电子器件的集成可制造出可靠性、稳定性很高的微电子机械系统。

(4)MEMS技术适合批量生产:用硅微加工工艺在同一硅片上同时可制造出成百上千微型机电装置或完整的MEMS,批量生产可大大降低生产成本。

(5)多学科交叉:MEMS涉及电子、机械、材料、制造、信息与自动控制、物理、化学和生物等多学科,并集约当今科学发展的许多尖端成果。

2、MEMS研究的历史

MEMS技术被誉为21世纪带有革命性的高新技术,它的诞生和发展是“需求牵引”和“技术推动”的综合结果。

随着人类社会全面向信息化迈进,信息系统的微型化、多功能化和智能化是人们不断追求的目标,也是电子整机部门的迫切需求。信息系统的微型化不仅使系统体积大大减小、功能大大提高,同时也使性能、可靠性大幅度上升,功耗和价格却大幅度降低。目前,信息系统的微型化不单是电子系统的微型化,如果相关的非电子系统小不下来,整个系统将难以达到微型化的目标。

电子系统可以采用微电子技术达到系统微型化的目标,而对于非电子系统来说,尽管人们已做了很大努力,其微型化程度远远落后于电子系统,这已成为整个系统微型化发展的瓶颈。

MEMS技术设计微电子、微机械、微光学、新型材料、信息与控制,以及物理、化学、生物等多种学科,并集约了当今科学技术的许多高新技术成果。

在一个衬底上将传感器、信号处理电路、执行器集成起来,构成微电子机械系统,是人们很早以来的愿望。这个技术在1987年被正式提出,并在近10年来取得了迅速发展。推动力可归纳为以下3点:

(1)以集成电路为中心的微电子学的飞跃进步提供了基础技术。在过去的40年中,集成电路的发展遵循摩尔定律,即按每3年特征尺寸减小0.7倍、集成度每3年翻一番的规律发展。据分析,IC特征尺寸的指数减小规律还将继续10 ~ 20年。目前,IC工艺已进入超深亚微米阶段,并可望到2012年达到0.05μm,将研制生产巨大规模集成电路(GSI集成度大于109)和单片系统集成(SOC)。IC的发展将为研制生产MEMS提供坚实的技术基础。

(2)MEMS的发展始于20世纪60年代,是微电子和微机械的巧妙结合。MEMS的基础技术主要包括硅各向异性刻蚀技术、硅/硅键合技术、表面微机械技术、LIGA技术等,已成为研制生产MEMS必不可少的核心技术。尤其是20世纪90年代开发的LIGA技术,成功地解决了大深宽比光刻的难题,为研制开发三维微机械的加速度传感器、微型陀螺以及各类微执行器、微型构件如微马达、微泵、微推进器、微振子、微电极、微流量计等奠定了工艺技术基础。

(3)新材料、微机械理论、加工技术的进步,使得单片微电子机械系统正在变为现实。由于MEMS技术的发展迅速,1987年决定把它从IEEE国际微机器人与过程操作年会分开,单独召开年会。目前在美、日、欧三地每年轮回一次。

3、MEMS技术的研究现状

我国MEMS的研究始于二十世纪八十年代末。经过十多年的发展,我国在多种微型传感器、微型执行器和若干微系统样机等方面已有一定的基础和技术储备,初步形成了几个MEMS 研究力量比较集中的地区。

其中,北京大学所属微米/纳米加工技术重点实验室分部开发出4种MEMS全套加工工艺和多种先进的单项工艺,已制备出加速度计样品,并已开始为国内研究MEMS单位提供加工服务。上海交通大学所属微米/纳米加工技术重点实验室分部可以提供非硅材料的微加工服务,如LIGA技术制作高深宽比微结构的基本加工技术、紫外深度光刻(UV-LIGA)、高深宽比微电铸和模铸加工、功能材料薄膜制备等。电子部十三所研究的融硅工艺也取得了较大进展,制备出微型加速度计和微型陀螺样品。

1995年,国家科技部实施了攀登计划“微电子机械系统项目”(1995 ~ 1999)。1999年,“集成微光机电系统研究”项目通过了国家重点基础研究发展规划的立项建议。经过十年发展,我国已开展了包括微型直升飞机,力平衡加速度传感器、力平衡真空传感器、微泵、微喷嘴、微马达、微电泳芯片、微流量计、硅电容式微麦克风、分裂漏磁场传感器、集成压力传感器、微谐振器和微陀螺等许多微机械的研究和开发工作。

美国开发的基于MEMS光开关的路由器已经试用,预示着MEMS发展又一高潮的来临。目前部分器件已经实现了产业化,如微型加速度计、微型压力传感器、数字微镜器件(DMD)、喷墨打印机的微喷嘴、生物芯片等,并且应用领域十分广泛。

1992 年“美国国家关键技术计划”把“微米级和纳米级制造”列为“在经济繁荣和国防安全两方面都至关重要的技术”。美国国家自然基金会(NSF)把微米/纳米列为优先支持的项目。美国国防部先进研究计划署(DARPA)制订的微米/纳米和微系统发展计划,对“采用与制造微电子器件相同的工艺和材料,充分发挥小型化、多元化和集成微电子技术的优势,设计和制造新型机电装置”给予了高度的重视。日本在1992年启动了2.5亿美元的大型研究计划“微机械十年计划”。

在MEMS的重点研究单位UC Berkeley成立了由多所大学和企业组成的BSAC(Berkeley Sensor and Actuator)。ADI公司看到了微型加速度计在汽车领域应用的巨大前景,通过引入表

相关文档
最新文档