真空镀膜设备系统的安装和使用

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真空镀膜机操作方法

真空镀膜机操作方法
真空镀膜机是一种常用的表面处理设备，主要用于在物体表面形成薄膜。

以下是一般的真空镀膜机操作方法的简要步骤：
1. 准备物体：将需要进行镀膜的物体清洁干净，确保表面没有灰尘、油脂或其它污染物。

2. 准备镀膜材料：根据需要的薄膜材料类型，准备相应的镀膜材料，一般为金属或者陶瓷材料。

3. 设置真空环境：将物体放置在真空镀膜室中，并确保室内的真空度达到所需的要求。

这通常需要使用真空泵和其他辅助设备。

4. 启动真空系统：打开真空系统的开关，开始抽取室内空气，直到达到设定的真空度。

5. 加热：在达到所需真空度后，加热镀膜材料使其蒸发。

加热的温度和时间取决于材料的性质和所需的薄膜厚度。

6. 沉积：薄膜材料从加热源蒸发出来后，会沉积在物体的表面。

这个过程需要一定的时间，以确保薄膜厚度均匀。

7. 冷却：在薄膜沉积完毕后，将镀膜室冷却至室温，以固化薄膜并使其附着在物体表面。

8. 释放真空：关闭加热源和真空系统，并逐渐恢复大气压力，最终打开镀膜室门让物体取出。

请注意，以上步骤是一个大致的操作流程，不同型号的真空镀膜机可能会有些差异。

在使用真空镀膜机之前，请务必详细阅读设备的操作手册，并根据实际情况进行操作。

镀膜机安全技术操作规程（三篇）

镀膜机安全技术操作规程镀膜机是一种常用的表面涂覆设备，用于给物体表面增加一层薄膜，提高其耐磨、防腐蚀等性能。

由于涉及到化学物品和高温等危险因素，因此在操作镀膜机时必须严格遵守安全技术操作规程，以确保操作人员和设备的安全。

以下是镀膜机的安全技术操作规程，共计2000字。

一、使用前的准备工作1.操作人员必须接受相关的安全培训和操作指导，熟悉设备的结构和工作原理。

2.检查设备的各个部位，如输送带、喷涂系统、加热系统等，确保其正常运行，并进行必要的维护和保养。

3.确认所有的安全设施完好，如安全门、安全防护网、紧急停机按钮等。

二、穿戴个人防护装备1.操作人员必须穿戴适当的个人防护装备，如安全帽、安全鞋、护目镜、防护手套等。

2.针对具体镀膜材料和工艺，选择合适的防护服和口罩。

三、操作过程中的安全控制1.在操作镀膜机前，必须确保操作区域的绝对干燥，以避免与湿气产生反应或发生事故。

2.严禁在操作过程中穿插其他人员或随意接近设备。

3.确保机器运行稳定后再进行下一步操作，以免因异常造成安全事故。

4.操作人员必须时刻关注设备运行状态，发现异常情况及时采取应急措施，如关闭设备、紧急停机等。

5.禁止在操作过程中使用手机等与操作无关的电子设备。

6.严禁将任何非操作材料放入喷涂系统，以避免发生化学反应或堵塞设备。

四、应急措施和事故处理1.设备操作过程中，如发现异常燃烧、爆炸或其他突发事故，应第一时间切断电源，并立即报警和呼叫专业人员进行应急处理。

2.若发生泄漏、溢出等事故，应密切关注涉及范围的浓度是否达到爆炸或有毒的程度，确保工作区域的人员安全，及时进行清理和处理。

3.在事故处理中，操作人员必须穿戴好个人防护装备，并按照应急预案进行处置，有条件的情况下可启动应急喷淋系统或其他应急设备。

五、日常维护和保养1.设备日常维护和保养必须由专业人员进行，如定期检查设备运行情况、清理设备内部、更换易损件等。

2.定期组织设备的安全检查和保养记录，及时处理设备的故障和隐患，确保设备的正常运行和使用安全。

真空镀膜机操作规程

真空镀膜机操作规程真空镀膜机是一种高精度的设备，操作规程的合理执行可以确保设备的正常运行并保证产品的质量。

下面是一份真空镀膜机的操作规程，供参考：一、操作前准备1. 检查设备的电源和附属设施，确保运行环境安全正常。

2. 检查真空镀膜机内部是否有异物或污染物，清洁设备确保表面干净。

二、设备开启与调试1. 打开设备的电源，并按照操作手册正确操作所有开关与按钮，确保设备的正常运行。

2. 设备初次开启或长时间未使用后，需打开辅助泵进行抽真空，待真空度达到标准值后再进行下一步操作。

3. 真空镀膜机应设有校准装置，操作人员应根据实际需要进行相应的校准，确保设备的稳定性和精度。

三、样品处理与准备1. 将待镀膜的样品放置在有效位置，确保样品的平整，并避免样品之间的碰撞。

2. 样品表面应清洁干净，不存在污染和油渍，否则会影响镀膜质量。

四、真空镀膜操作1. 打开样品舱门，将样品放置在样品架上，确保样品与样品架之间没有杂质。

2. 关闭样品舱门，设定镀膜参数，如镀膜材料、镀膜时间、镀膜温度、反应气体等。

3. 执行真空镀膜程序，按照操作手册的步骤进行操作，确保每一个程序的稳定运行。

4. 在镀膜过程中，操作人员应经常观察反应室内的状态，如真空度、压力、温度等参数，并及时调整。

5. 镀膜结束后，将样品从样品架上取下，放置在准备好的容器中，注意避免样品与其他物体接触，避免污染。

五、设备关闭与清洁1. 关闭设备的各个开关和电源，确保设备停止运行。

2. 清洁设备内部，包括反应室和样品架，确保设备内部干净整洁。

3. 清洁设备外部，特别是控制面板和触摸屏，避免灰尘或污渍附着在上面。

4. 检查设备的附属设施，如冷却系统，确保其正常运行。

六、操作注意事项1. 操作人员应穿戴好相应的防护用品，如手套、口罩、护目镜等，确保工作安全。

2. 镀膜材料和反应气体应储存妥善，避免与火源、高温、湿度等有害物质接触。

3. 真空镀膜机应定期进行维护保养，如更换密封圈、清洁真空管道、校准仪器等。

ZZ1100箱式真空镀膜机说明书

1、概述本设备采用箱式结构，抽气系统后置，便于拆卸和维修。

整机表面平整，便于清洁，适合净化间安装。

蒸发室全部采用不锈钢制造，外有可通冷、热水的护罩，可对壁进行加热(热水器选配)或冷却。

蒸发室底板有足够的面积布置蒸发源和各种接头。

阀门采用气动，操作方便，使用可靠。

液氮冷阱和水冷挡板设计为一整体。

蒸发室抽气口也设置一光学密封机械挡板，因此可使蒸发室的油污染降低到极低的程度。

本设备配备的抽气元件抽速较大，因此具有抽气时间短，工作真空度高，生产周期短等特点。

本设备适用于镀制各种多层光学薄膜和电学膜。

是有关工厂、研究院和大专院校进行生产和科研的理想设备。

2、主要技术数据2.1真空：2.1.1极限真空：2×10-4Pa。

2.1.2恢复真空：从大气→2×10-3Pa≤10min。

2.2 蒸发室：2.2.1直径：内部为φ1100mm。

2.2.2内腔尺寸：φ1100×1300mm。

2.2.3底板上有45个φ33.5通孔和2个斜光路孔。

3.3工件夹具：2.3.1外径φ1000mm。

2.3.2锥形球面夹具：2.3.3夹具转速N=3～31r.p.m。

2.4基片烘烤：可安装上下烘烤装置或其中一种，上烘烤为电阻丝（管状加热器）18KW(350℃全烘烤)；下烘烤为碘钨灯8KW(选配)，最高烘烤温度350℃，有上下烘烤接口。

2.5电阻蒸发电极：由技术协议确定，功率5KW/只。

2.6 2.7离子轰击：轰击电压0—300V2.8抽气系统2.8.1 主泵：K-630高真空油扩散泵，抽速12000L/s2.8.2 前级泵：ZJP-300罗茨泵，抽速300L/s2.8.3 2X-70机械泵：抽速70L/s2.9光路系统：2.9.1透、反射光路。

2.9.2六位(12位)比较片，另留一石英探头位置。

2.10其它2.10.1电源：3相220V/380V 50Hz2.10.2总功率：约40KW2.10.3耗水：约30L/min2.10.4压缩空气：5～6Mpa2.10.5水压:0.2～0.25MPa2.10.6总重量：（包括控电柜）约5吨2.10.7外型尺寸：主机：1390×3500×2300（宽×深×高）控电柜：1400×600×2100（宽×深×高）3、工作原理及结构说明该镀膜机由主机、控电柜二部份组成。

真空镀膜仪操作流程

高真空镀膜仪操作流程
1.开启循环水，并检查循环情况和是否漏水。

2.开启电源总阀。

3.打开真空室的手动放气阀放气，放气结束后关闭手动放气阀。

接着打开真空
室盖。

4.放置蒸镀金属和样品，关闭真空室盖。

5.开启真空计，开启机械泵，然后打开前级阀
6.待真空度小于10Pa后开启分子泵。

待真空度小于7*10-4Pa后开始蒸镀（蒸镀
期间不要关闭机械泵、前级阀和分子泵）。

7.蒸镀：
（1）开启并设置膜厚控制系统
（2）开启样品架旋转按钮（5%-10%），并打开样品托挡板。

（3）开启蒸镀电极电源并检查腔体内挡板情况
（4）膜厚仪示数归零。

（5）调节电流值（银38A；金50A）开始蒸镀。

（6）当膜厚达到要求值后先关挡板后，再将电流调节阀归零，并盖住样品托。

8.关闭设备
（1）关闭真空计！！！！
（2）关闭分子泵，当分子泵示数为零时，关闭前级阀，最后关闭机械泵。

（3）打开真空室手动放气阀，放气结束后再关闭放气阀。

（4）取出样品（此时可以放置下一次要蒸的样品）
（5）开启真空计，打开机械泵，前级阀，将真空室抽真空至10Pa以下。

（6）关闭真空计，关闭前级阀和机械泵。

（7）关闭设备总电源和墙上总电源以及循环水系统。

若出现异常，请先关闭分子泵！！！
紧急情况，请关闭总电源！！！！。

真空镀膜实验操作步骤

真空镀膜本实验应用真空蒸发的方法：即在真空中把制作薄膜的材料加热蒸发，使其淀积在适当的表面上来获得一质量优良的金属膜。

●真空镀膜机真空镀膜机结构图●蒸发系统蒸发系统蒸发源蒸发源的形状如下图，大致有螺旋式(a)、篮式(b)、发叉式(c)和浅舟式(d)等。

蒸发源真空蒸发实验的具体操作步骤：1. 检查真空镀膜机及复合真空计上各开关，并它们全部置在“关”的位置（特别是复合真空计上的规管电源一定要置在“关”的位置）；2. 接通真空镀膜机总电源，再把钟罩操作旋钮拨至“钟罩升”，等钟罩升至适当位置后拨至“关”；3. 把制作薄膜的铝材处理后放置在蒸发源的适当位置，再用挡板挡住蒸发源；把经清洗、干燥处理后的玻璃片放置在工作架的适当位置；然后把钟罩操作旋钮拨至“钟罩降”使钟罩降至最低位置后拨至“关”；4. 接通复合真空计电源，校准“测量2”的加热电流为98 mA，然后旋钮旋到“测量2”；5. 接通真空镀膜机冷却水源，再接通真空镀膜机的“机械泵及扩散泵”电源，“拉”低阀，用“测量2”监测钟罩内的气压变化，记录相应的P（t）～t 曲线，直到钟罩内的气压值下降为5Pa后，“推”低阀，改用“测量1”监测系统内的气压变化（确认“测量1”的加热电流为98 mA），直到系统内的气压值为5Pa时，“开”高阀；6. 再次采用“测量2”监测钟罩内的气压变化，记录相应的P（t）～t 曲线，直到钟罩内的气压值为0.1Pa后，接通复合真空计上的规管电源，启用电离规管对钟罩内的气压变化进行监测并记录相应的P（t）～t 曲线，直到钟罩内的气压值下降为0.015Pa 以下；7. 用电源插销接通所选用的蒸发源“电极”，再接通“烘烤、蒸发”电源，调节其电流强度为30 A并维持约1分钟，移开挡板，继续增大电流至45A并维持30秒，然后把电流强度调节为零，同时关闭复合真空计上的规管电源！！！8. 在进行抽气10分钟后，“关”高阀，“机械泵及扩散泵”改接为“机械泵”；9. 机械泵继续开动，水源不关，开风扇吹扩散泵……30分钟后接通“充气阀”对钟罩内“充气”，待充气完成后升钟罩，取出镀膜片；10. 再经半小时后关机械泵、水源及总电源。

真空蒸发镀膜与设备使用维护

（4）感应加热式蒸发源
其原理是将装有膜材的坩埚放在螺旋线圈的中央（不接触），在线圈中通以高频电流，膜材在高频电磁场感应下产生强大的涡流，使膜材升温，直至蒸发。膜材体积越小，感应频率越高。
三、间歇式真空蒸发镀膜机
间歇式真空镀膜机中，真空室内制膜过程的工作情况是间歇的。左图是我国某公司生产的间歇式 ZZS800－ 1/D 型箱式真空镀膜机的镀膜室结构图。该室主要由箱体、球形工件架、基片烘烤装置、粒子源、电子枪、电阻蒸发装置、蒸发挡板等构件组成。真空室的直径为 800 毫米，由不锈钢焊接而成。箱体壁上焊有水管，冷却箱体。系统还配有基片烘烤装置，烘烤温度可在 0～350℃ 范围内进行调节。电阻蒸发电流可稳定工作在 350A 以上。电子枪采用 e 型 270° （电）磁偏转式电子枪，蒸发束流 0～750mA 可调。蒸发挡板是保证膜质量的又一措施，它位于电阻蒸发组件及电子枪的上方。挡板传动轴采用气缸驱动，并用威尔逊或磁流体密封形式引入，使挡板与外界隔绝。
反应溅射、磁控溅射、对向靶溅射直流二极型多阴极型真空 ARE 型、增强 ARE 离子数 10～5000ev LPPD 型镀膜 HCD 型高频型低压等离子化学化学反应 CVD 热扩散相沉积（PCVD）（LPVCD）等离子增强化学气气相沉积集团离子束镀膜单一离子束镀膜
注：PVD－物理气相沉积（Physical Vapor Deposition） CVD－化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition） PCVD－等离子体增强化学气相沉积（Plasma Chemical Vapor Deposition） LPCVD－低压化学气相沉积（Low Pressure Chemical Vapor Deposition）

真空镀膜工艺流程

真空镀膜工艺流程
1、准备：准备真空室，添加真空设备，准备真空泵，安装真空设备，准备涂料；
2、清洗：清洗待镀材料的表面，去除材料的氧化物等杂质；
3、真空镀膜：进入真空室，把待镀材料放进真空室，启动真空泵，把真空度降至要求值，经过真空状态控制，加入涂料，开始真空镀膜；
4、结束：等待镀膜完成，释放真空，把待镀材料取出，检查是否符合要求；
5、环境保护：将清洗用的液体或固体废物遵守环保法规处理，除尘，保持室内空气洁净。

二、真空镀膜特性：
1、镀膜厚度均匀性高：采用真空镀膜工艺可以均匀地覆盖在各种复杂形状的材料表面上；
2、耐磨性能高：镀膜表层具有较高的硬度，能够抵抗各种外部刮擦和表面磨损；
3、具有良好的防腐性：采用真空镀膜可以有效防止材料表面的腐蚀，可以延长材料的使用寿命；
4、可重复使用：真空镀膜可以根据特定的应用场合进行多次重复使用，有利于节约成本；
5、环保：真空镀膜工艺属于绿色工艺，无任何有毒物质的释放，对环境十分友好。

真空镀膜机操作流程

真空镀膜机操作流程
一、准备工作。

1. 确认真空镀膜机的工作状态，检查设备是否完好。

2. 准备好需要镀膜的材料和目标物体。

3. 清洁目标物体表面，确保表面干净无尘。

二、开机操作。

1. 打开真空镀膜机的电源开关，待设备启动完成后进入下一步操作。

2. 启动真空泵，将系统抽真空至所需的工作压力。

三、镀膜操作。

1. 将待镀膜的材料放置在镀膜室内，注意安放位置和方向。

2. 打开镀膜室的加热系统，使其达到所需的温度。

3. 启动镀膜源，将镀膜材料加热至蒸发状态。

4. 控制镀膜源的蒸发速度和时间，确保均匀的镀膜层厚度。

5. 监控镀膜过程中的真空度和温度变化，及时调整参数以保证镀膜质量。

四、结束操作。

1. 关闭镀膜源和加热系统，停止镀膜操作。

2. 等待镀膜室内压力恢复至大气压，然后打开镀膜室门。

3. 将镀膜完成的物体取出，放置在通风处冷却。

4. 关闭真空泵和真空镀膜机的电源开关，完成操作。

五、清洁和维护。

1. 清洁镀膜室内表面和镀膜源，确保设备清洁。

2. 定期检查和维护真空镀膜机的各项部件，保证设备正常运转。

六、安全注意事项。

1. 在操作真空镀膜机时，要注意防止镀膜材料的挥发物对人体
的伤害，做好防护措施。

2. 注意设备的电气安全，避免触电和短路等事故发生。

3. 在操作过程中要严格遵守设备操作规程，确保人身和设备安全。

以上即是真空镀膜机的操作流程，希望能够对您的工作有所帮助。

如有任何疑问，请及时咨询设备厂家或专业人士。

真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册

《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》作者：李云奇出版社：化学工业出版开本：16开精装册数：全三册 +1张光盘定价：798 元优惠价：360 元《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》《真空镀膜技术与设备设计安装及操作维护实用手册》目录第一篇真空镀膜技术概论第一章真空镀膜技术及其应用第二章真空镀膜基础知识第三章真空镀膜常用塑料第四章真空镀膜常用涂料第二篇真空技术第一章真空基本知识第二章真空泵第三章真空系统第四章真空测量第五章真空检漏第三篇真空镀膜材料第一章薄膜材料的基本理论和特性第二章金属薄膜材料第三章介质和半导体薄膜材料第四章光学性能可变换的薄膜材料第四篇真空蒸发镀膜技术第一章真空蒸发镀膜原理第二章蒸发源第三章蒸发源的蒸发特性及其膜厚分布第四章某些特定材料的蒸发技术第五章间歇式真空蒸发镀膜机第六章半连续式真空蒸发镀膜机第五篇真空溅射镀膜技术第一章溅射技术第二章直流溅射镀膜第三章磁控溅射镀膜第四章射频溅射镀膜第五章反应溅射镀膜第六章磁场计算第七章水冷系统的设计与计算第八章膜厚均匀度第六篇真空离子镀膜和束流沉积技术第一章真空离子镀膜第二章离子束沉积技术第三章分子束外延技术第七篇化学气相沉积技术第一章化学气相沉积技术概论第二章化学气相沉积方法第三章低压化学气相沉积技术第四章等离子增强化学气相沉积技术第五章其它化学气相沉积法第八篇真空离子注入技术第一章真空离子注入技术概论第二章几种离子注入的新方法第三章离子注入装置第四章离子注入及离子束混合的应用第九篇薄膜微细加工技术第一章薄膜微细加工技术概论第二章离子束刻蚀第三章t糠酸溅射刻蚀第四章等离子体反应刻蚀第五章反应离子刻蚀第十篇薄膜厚度的测量与监控第一章电学测量法第二章光学测量法第三章机械测量法第十一篇真空镀膜设备设计安装与操作维护第一章真空镀膜设备构件设计第二章卷绕式真空镀膜机第三章间歇式真空镀膜机第四章真空镀膜设备安装调试与操作维修第十二篇真空镀膜技术在塑料薄膜和制成品上的应用第一章真空镀膜技术在塑料薄膜上的应用第二章真空镀膜技术在塑料成型品上应用。

真空镀膜仪操作方法

真空镀膜仪操作方法
以下为真空镀膜仪的操作方法：
1. 准备工作：打开真空镀膜仪的主电源，确保设备正常启动。

检查真空仓内是否有杂质，如果有需要清理干净。

准备好需要镀膜的基板和所需的镀膜材料。

2. 将基板安装：将需要镀膜的基板固定在镀膜夹具上，确保基板与夹具之间没有杂质和空隙。

3. 真空抽气：打开真空泵，开始抽取镀膜仓内的空气，使真空度逐渐提高。

注意，真空度的提升需要一定的时间，一般需要几分钟到几十分钟不等。

4. 反射层镀膜：根据需要选择镀膜材料，将材料放入镀膜仓内的加热器中，并设置合适的加热温度。

当真空度达到设定值后，打开镀膜源的开关，让镀膜材料开始蒸发。

材料的蒸发会形成气体，沉积在基板上形成薄膜。

5. 辅助层镀膜（可选）：如果需要在基板上形成多层镀膜结构，可以在上述步骤完成后，更换镀膜源和镀膜材料，进行下一层的镀膜操作。

每层镀膜前都需要将真空度恢复到设定值。

6. 结束镀膜：当所需的镀膜层数达到要求后，关闭镀膜源的开关。

等待一段时间，让镀膜材料的蒸发停止。

7. 减压恢复：打开气阀，让室内的气体进入真空仓内，逐渐恢复正常气压。

此时可以打开真空仓门，取出镀膜好的基板。

8. 清洁维护：将真空仓内的杂质清理干净，注意避免使用刻蚀性强的清洁剂。

关闭设备主电源，关闭真空泵。

以上就是真空镀膜仪的基本操作方法，具体操作时应注意安全，并按照设备说明书和操作手册进行操作。

磁控溅射镀膜机使用说明

磁控溅射镀膜机使用说明磁控溅射镀膜机是一种广泛应用于材料科学、电子制造领域的设备，通过磁控溅射技术，可以在各种基底材料上沉积一层或多层金属、非金属或半导体薄膜。

该设备主要由真空室、磁控溅射源、进样室、控制系统等部分组成。

（1）确认电源连接正常，检查真空泵、冷却循环水等设备是否正常工作。

（2）打开真空室门，将基底材料放置在样品台上。

（3）关闭真空室门，启动真空系统，将室内抽至高真空状态。

（4）打开磁控溅射源，进行预溅射清洗靶材。

（5）调整工艺参数，如溅射功率、时间、气压等，开始进行溅射镀膜。

（6）镀膜过程中，监控各种参数，如气压、电流、功率等，确保设备正常运行。

定期检查和维护设备部件，如真空泵、冷却循环水系统等。

避免在镀膜过程中触摸设备内部部件，以免造成人身伤害。

如遇设备故障或异常情况，请立即停机检查，并专业人员进行维修。

保持设备清洁和整洁，定期进行清洁和维护。

磁控溅射镀膜技术的研究始于20世纪70年代，最初是为了满足空间电子器件对抗辐射损伤的需求。

随着科技的发展，磁控溅射镀膜技术的应用领域越来越广泛，然而也存在一些问题，如薄膜应力大、耐磨性差等，需要进一步研究和改进。

磁控溅射镀膜技术的基本原理是利用磁场控制下的电场放电，使靶材表面上的原子或分子被激发后沉积到基材表面，形成一层薄膜。

具体工艺过程包括：真空泵抽气、加热靶材、加磁场、加电场、溅射沉积等步骤。

该技术的特点在于沉积速度快、薄膜质量高、适用范围广等。

磁控溅射镀膜技术在光电领域的应用主要是在太阳能电池上制备减反射膜和抗反射膜。

在光学领域，磁控溅射镀膜技术可以用来制备各种光学薄膜，如增透膜、反射膜、滤光片等。

在电子领域，磁控溅射镀膜技术可以用来制备各种电子薄膜，如半导体薄膜、绝缘薄膜、导电薄膜等。

未来，磁控溅射镀膜技术的发展趋势主要体现在以下几个方面：一是进一步完善磁控溅射镀膜技术的工艺参数，提高薄膜的质量和性能；二是研究磁控溅射镀膜技术在新型材料制备中的应用，如纳米材料、石墨烯等；三是探索磁控溅射镀膜技术在生物医学、环境治理等领域的应用可能性。

真空磁控溅射镀膜设备用户手册

真空磁控溅射镀膜控制系统用户手册2008-07-09V1.1目录1.系统简述 (4)1.1真空系统 (4)1.2 传送系统 (4)1.3 加热系统 (4)1.4 溅射电源 (4)1.5 冷却水 (4)1.6 工艺气路 (5)2.系统供电 (5)2.1 柜体通电前检查 (5)2.2 现场设备通电前检查 (5)2.3 电源送电顺序 (5)2.3.1 PLC控制柜 (5)2.3.2 电加热柜 (6)2.3.3 泵组柜 (6)3.PLC运行程序 (6)3.1 环境模式 (7)3.2 工作模式 (7)3.3 安全连锁 (9)3.4 系统报警 (10)4.上位机软件操作 (12)4.1 上位机画面 (12)4.1.1 介绍 (12)4.1.1.1 图例 (12)4.1.2总貌 (14)4.1.3 真空 (15)4.1.4 传动 (17)4.1.5加热 (19)4.1.6 参数设定 (21)4.1.7 溅射电源 (23)4.1.8 控制模式 (25)4.1.9 分子泵使能操作 (27)4.1.10 历史报警 (28)4.1.11 框架信息 (29)4.1.12运行注意事项 (30)4.1.12.1 开机注意事项 (30)4.1.12.1 停机注意事项 (31)5. 工程维护 (31)5.1 传输设置 (31)5.1.1 传输工程文件 (32)5.2 WINGP运行 (33)6.变量地址表 (34)TFT系统需要实现玻璃在真空环境下自动化的连续镀膜，生产线布置为“回”字型矩形结构，生产线划分为4个区，位于生产线左右侧的上片区和下片区，位于上下片平台间的工艺区和回传区，其中呈”->”方向移动的区域为工艺区，呈”<-“方向移动的区域为回送区。

TFT控制系统实现对生产过程中的真空、加热、传动、电源、冷却水、工业气体在镀膜过程中的连续控制。

1.1真空系统真空系统设备集中于真空室区域，由抽气设备（机械泵、罗茨泵、分子泵）检测设备（PG 表，CG表）、安全阀（分子泵前蝶阀、机械泵罗茨泵间自吸阀、管道阀和破空阀）；通过机械泵 ->罗茨泵->分子泵接力抽气，将腔室内压力由大气变为真空，并在生产过程中保持适合生产的真空环境；1.2 传送系统传送系统共24台操作电机，上下片平台各4台，工艺区11台，回传区5台传动电机，除上下片平台各有2台电机可实现双向传动外，其余电机均为单向传动；其中除M3 –M9 可以通过端子通断和模拟量信号协同控制电机转速外，其余电机的传动速度由端子通断直接控制；1.3 加热系统加热系统共66台，在连续生产过程中，逐段加热工艺区腔室内的温度，以确保在玻璃在镀膜过程中的环境温度，加热系统进行PID运算，通过固态继电器的电压脉冲控制加热器的加热频率；1.4 溅射电源在工艺区有4个溅射室，室内配置MF中频溅射电源和DC直流溅射电源，通过电源产生的高电压电离气体分子；1.5 冷却水机械泵、分子泵、溅射电源冷却管路安装有压力检测设备，通过水流开关检测冷却水压力是否符合设备冷却的要求；1.6 工艺气路气路由供气管道，流量计和切断阀组成；2.1 柜体通电前检查➢柜间连接线校核；➢所有断路器，熔断器处于断开状态；➢检查泵组柜，电加热柜一次主排、母排绝缘和是否短路；➢检查泵组柜，PLC柜，电加热柜，电源柜是否短路；2.2 现场设备通电前检查➢电缆接线的校核；➢接线的电源电压等级是否与设备匹配；➢机械泵，罗茨泵，传动电机通电前进行三相对地绝缘（电阻>0.5M欧）测试；➢其它现场设备是否有短路现象，例如分子泵，阀门等；➢控制回路的功能测试；2.3 电源送电顺序2.3.1 PLC控制柜➢传动控制柜PLC模块电源供电(220V)QF51->SB54（面板）->QF81;➢PLC控制柜及PLC模块触摸屏供电(220V)QF51->SB54（面板）->QF82;➢检修插座供电(220V)QF51->SB54（面板）->QF86;➢传动控制柜I/O模块供电(24V)QF51->SB54->QF71->QF74;➢PLC控制柜I/O模块供电(24V)QF51->SB54->QF71->QF71.1;➢流量计供电(±15V)QF51->SB54->QF61;➢温度控制器供电(24V)QF51->SB54->QF64->QF64.1;➢中频/直流控制电源(24V)QF51->SB54->QF64->QF66;➢阀门，机械泵气镇，油镇供电(24V)QF51->SB54->QF84->QF84.1;➢光电开关及真空计电源(24V)QF51->SB54->QF84->QF85;传动电机供电(380V)QF51(泵组控制柜)-->QF165(泵组控制柜)-->(QF52-QF311)2.3.2 电加热柜➢电加热供电(220V)QF51(泵组控制柜)->QF166(泵组控制柜)->(QF54~QF185)2.3.3 泵组柜➢机械泵供电(380V)QF51->QF111(进片室)QF51->QF114(工艺区)QF51->QF116(出口室)➢罗茨泵供电(380V)QF51->QF112(进片室)QF51->QF115(工艺区)QF51->QF118(出口室)➢分子泵供电(380V)QF51->(QF111-QF162)➢中频溅射电源供电(380V)QF411->(QF412-QF416)直流溅射电源供电(380V)QF411->(QF421-QF432)3.PLC运行程序PLC程序采用三菱GX Works2 1.31H开发。

真空镀膜机操作规程

真空镀膜机操作规程
《真空镀膜机操作规程》
一、操作前准备
1. 确保真空镀膜机各部件状态正常，无故障。

2. 根据需要选择合适的膜材料和工艺参数。

3. 做好个人防护措施，穿戴好工作服、手套和防护眼镜等。

二、开机操作
1. 按照机器说明书进行正确的电源连接和开机操作。

2. 检查真空镀膜机的真空泵及抽气装置是否正常运转。

3. 启动控制面板，设置相关参数并进行预热。

三、装载工件
1. 选择适当的工件夹具，将工件放置在夹具上。

2. 将工件夹具安装到真空室内的装载平台上。

四、真空镀膜过程
1. 关闭真空室门，启动真空抽气系统。

2. 当真空度达到要求后，开始进行镀膜过程。

3. 根据工艺要求，控制镀层的厚度和均匀度。

五、结束操作
1. 镀膜完成后，停止镀膜系统的工作，等待真空室内气压恢复至正常压力。

2. 打开真空室门，将工件夹具取出，检查镀膜质量。

3. 关闭真空镀膜机，进行清洁和维护工作。

六、安全注意事项
1. 操作人员需熟悉机器的性能和操作流程，严格按照规程操作。

2. 操作过程中要注意保持机器和周围环境的清洁整洁。

3. 遵守相关安全标准和操作规范，确保人身和设备安全。

七、其他
1. 出现紧急情况时，应立即停止操作并报告相关人员。

2. 遵守环保法规，妥善处理废弃的膜材料和废气废水等。

3. 对真空镀膜机进行定期的维护保养，确保设备的长期稳定运转。

以上就是《真空镀膜机操作规程》，希望操作人员能够严格按照规程进行操作，确保镀膜工艺的质量和安全。

全自动真空离子镀膜机操作手册说明书

全自动真空离子镀膜机操作手册地址：中国广东省潮州市潮安区凤塘镇创高真空备工艺厂电话：+86－0768*******+86－0768*******第一打开择需作系一章：用开控制电源需要用的用系统。

用户登陆源后，触用户名，在陆画面说明摸屏启动在密码窗明动进入止画口输入相画面。

在“应的密码“用户名”码后点击确下拉菜单确定键进入点单的单选入操击下拉菜单选择相应用户名输入相应的密码报警显示示设备冷却开关压缩空气开关工关工件加热开关工件加热关热时间设置镀膜计延时计数时关机时间设设置工艺选择择输入手动设置跳至当前工动镀膜气体置曲线画第五工五章：工工艺层数度工艺参数数设置画面气号面说明体编号说明工艺状态显示延时开源时间设弧电设置氩气输入框此层镀膜第六本画绿色六章：IO 画面显示色代表此O 监控画示PLC 的此IO=ON画面说明的输入输出N出状态，红色代代表此IO ＝OFF第七章：开机步骤说明1、打开控制柜上主断路器2、打开控制电源开关后等待触摸屏启动3、选择相应用户名称4、输入相应用户密码后点击“确定”进入系统画面5、点击“功能画面”6、打开“冷却水泵”开关后返回系统画面7、打开维持泵开关8、打开扩散泵开关9、检查设备冷却水、压缩空气是否正常，等待扩散泵温度达到90摄氏度以上。

10、打开弧电源的总电源开关和气瓶开关12、打开“滑阀泵”13、设定好需要的工艺参数并选择14、打开“系统自动开关”和“镀膜自动”15、装好工件后关闭大门开始粗抽直到充气完成后开门取出工件第七章：关机步骤说明1、“系统自动”和“系统手动”开关关闭2、关闭弧电源的总电源开关3、关闭滑阀泵和扩散泵4、点击“功能画面”设定好自动关机时间（一般是120分钟）5、打开“自动关机”功能开关6、达到设定的时间后系统自动关闭“维持泵”和“冷却水泵”7、关闭总电源。

真空镀膜机安全操作规程(3篇)

第1篇一、前言真空镀膜机是一种精密设备，用于在各种材料表面镀制薄膜，广泛应用于光学、电子、精密仪器等领域。

为确保操作人员的人身安全和设备正常运行，特制定本安全操作规程。

二、适用范围本规程适用于所有真空镀膜机的操作人员。

三、操作前的准备1. 熟悉真空镀膜机的结构、性能、操作方法和注意事项。

2. 检查设备外观，确保无损坏、无松动。

3. 检查电源、水源、气源等是否正常，并确保各连接部件牢固可靠。

4. 检查真空系统是否完好，确保真空度达到要求。

5. 检查设备内是否有残留物质，如有，应清理干净。

四、操作步骤1. 开启设备电源，启动真空泵，确保真空度达到要求。

2. 将工件放置在镀膜腔内，注意工件放置平稳，避免碰撞。

3. 根据镀膜要求，调整温度、压力、功率等参数。

4. 启动工件转动装置，确保工件转动平稳。

5. 启动电子枪，调节束偏转角、阳极电压、束流等参数。

6. 观察设备运行状态，如发现异常，立即停止操作，查找原因并排除故障。

五、注意事项1. 操作人员必须穿戴好防护用品，如防静电手套、防护眼镜等。

2. 操作过程中，严禁触摸高温部件，避免烫伤。

3. 严禁将金属物体带入设备内部，以防损坏设备。

4. 避免在设备附近吸烟、使用明火，防止火灾发生。

5. 操作过程中，注意观察设备运行状态，如发现异常，立即停止操作。

6. 严禁在设备运行过程中进行维修、调整等操作。

六、操作后的维护1. 关闭设备电源，停止真空泵运行。

2. 清理设备内部，清除残留物质。

3. 检查设备各部件是否完好，如有损坏，及时更换。

4. 定期对设备进行保养、维护，确保设备正常运行。

七、紧急情况处理1. 发生火灾时，立即切断电源，使用灭火器进行灭火。

2. 发生触电事故时，立即切断电源，进行急救。

3. 发生设备故障时，立即停止操作，查找原因并排除故障。

八、附则1. 本规程由设备管理部门负责解释。

2. 本规程自发布之日起实施。

通过以上真空镀膜机安全操作规程，可以有效保障操作人员的人身安全和设备正常运行，提高生产效率。

真空离子镀膜工艺流程

真空离子镀膜工艺流程
真空离子镀膜是一种利用真空环境下的离子束和蒸发技术在材料表面形成膜层的工艺。

下面是一般的真空离子镀膜工艺流程：
1. 准备基材：将待镀膜的基材进行清洗和表面处理，确保表面光洁度和粗糙度要求。

2. 装载基材：将处理好的基材装载到真空离子镀膜设备的夹具上，用夹具固定。

3. 抽真空：启动真空泵，逐步抽空设备，将真空度降低到要求的工艺条件。

4. 加热：通过加热系统加热设备，将基材和镀膜材料升温到一定温度，以便提高镀膜质量和降低杂质。

5. 撒发：将目标材料以块状或粉末状放置在加热器中，通过加热蒸发，形成蒸汽。

6. 造片：当蒸汽进入真空室时，蒸汽会在离子束的轰击下形成离子，离子沉积在基材上并逐渐形成膜层。

7. 电弧（可选）：有些情况下，为了提高膜层的附着力和致密性，可以使用电弧场或离子束炮来轰击基材表面，以增强镀膜的效果。

8. 冷却：膜层形成后，停止加热并冷却设备，使基材和膜层逐
渐降温，完成真空离子镀膜过程。

以上是一般真空离子镀膜的工艺流程，具体的工艺参数和步骤可能会有所不同，取决于不同的材料和应用要求。