PVD 镀膜 ( 离子镀膜 ) 技术和设备常见问题解答

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PVD真空离子镀膜技术及原理

PVD真空离子镀膜技术及原理

深圳成霖實業有限公司PVD真空離子鍍膜技術及原理撰稿人:張勝利一.概述PVD即為英語Physical Vapor Deposition的縮寫,即用物理氣相沉積法制得的膜層,所謂物理氣相沉積是利用各種物理方法(如熱蒸發或輝光放電.弧光放電等物理過程).將鍍料氣化成原子.分子或離化為離子,在各種材料或制品表面沉積單層或多層薄膜.從而使材料或制品獲得所需的各種优異性能.它包括真空蒸鍍.真空離子鍍和濺射鍍膜.與其它鍍膜或表面處理方法相比,物理氣相沉積具有鍍層材料廣泛.可鍍各種金屬.合金.氧化物.氮化物.碳化物等化合物鍍層,也能鍍制金屬.化合物的多層或复合層.鍍層附著力強.工藝溫度低.工件一般無受熱變形或材料變質的問題.鍍層純度高.組織致密.工藝過程易於控制.調節.對環境無污染.存有設備較复雜.一次投資較大等缺陷,但由於以上特點.物理氣相沉積技術具有廣闊的發展前景.二.真空離子鍍膜1.概念:真空放電原理:在真空條條下,於兩電極間加上電壓(數KV),氣體便發生電離.如氬氣電離為帶正電荷的氬離子(Ar+)及帶負電荷的電子,並以加速分別奔向陰極和陽極.由於Ar+撞擊陰極(加工物)表面,我們稱之「陰極濺射」.這種氣體放電的物理現象正是離子鍍膜原理的基礎.實現離子鍍有兩個必要的條件: (1)造成一個氣體放電的空間;如圖1所示,在真空條件下.,在陰極靶和工件之間加上一定的電壓後.(該電壓由轟偏電源C提供.工件上加負電).二者之間便形成等離子場.當連接在大功率弧焊機的回路上的陰極靶和引弧電極通斷的瞬間,產生很大的短路電流,使該突起溫升加高,當達到金屬靶材的氣化溫度時.靶材金屬便被蒸發成金屬原子.當金屬原子進入等離子場時受到電子撞擊而電離為金屬離子,在電場和磁場的共同作用下,金屬離子便以較高的能量入射到待鍍工件表面,金屬正離子在達到工件表面的過程中與離化的反應氣體化合形成不同色澤的化合物與金屬原子一起沉積到待鍍工件表面而形成膜層.3.常用鍍膜術語(1)真空:容器內介質氣體壓力低於大氣壓力(101325Pa)的氣體狀態.(2)真空度:用來表示真空狀態下氣體的稀薄程度.通常用壓力表示(3)多弧離子鍍:是把真空弧光放電用於蒸發源的鍍膜技術.鍍膜時陰極靶材表面出現許多非常小的弧光輝點,且蒸發源數目大於一.(4)薄膜:按照一定的需要,利用特殊的制備技術,在基體表面形成厚度為亞微米至微米級的膜層,幾乎所有固體材料都能制成薄膜材料.由於極其薄,因而需要基底支承,薄膜在基底上生長.彼此有相互作用,薄膜的一面附著在基底上,並受到約束又會產生內應力.(5)靶:鍍膜的原材料.(6)蒸發源:鍍膜機離化材料的部件.4.真空的特點和應用(1).排除了空氣的不良影響,可防止金屬氧化。

pvd镀膜设备原理

pvd镀膜设备原理

pvd镀膜设备原理PVD镀膜设备,全称是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition)镀膜设备,是一种常用的薄膜制备技术。

它利用高能离子束或高温蒸发源将材料原子或分子蒸发,然后沉积在基底表面,形成均匀的薄膜。

PVD镀膜设备主要包括蒸发源、真空系统和基底台三个组成部分。

蒸发源是主要设备,通过加热材料使其蒸发,并产生高能离子束。

真空系统则能够提供高真空环境,以确保薄膜沉积的质量。

基底台则是放置待镀膜基底的位置。

PVD镀膜设备主要有以下几种工作原理:蒸发、溅射和离子镀。

蒸发是最常见的PVD镀膜技术之一。

蒸发源内的材料通过加热,使其蒸发并沉积在基底上。

蒸发源的加热方式有电阻加热、电子束加热和感应加热等。

蒸发源内的材料蒸发后形成蒸汽,蒸汽经过运输管道进入真空室,在高真空环境下,蒸汽与基底表面相遇,凝结成薄膜。

溅射是另一种常见的PVD镀膜技术。

在溅射过程中,材料源被离子束轰击,使其离子化并溅射出来,然后沉积在基底上。

溅射镀膜可以通过直流溅射、射频溅射、磁控溅射等方式进行。

溅射镀膜的薄膜均匀性更好,适用于复杂形状的基底。

离子镀是一种利用离子束轰击基底表面的技术。

在离子镀过程中,材料被加热并离子化,然后通过高能离子束轰击基底表面,使薄膜原子或分子沉积在基底上。

离子镀技术可用于提高薄膜的致密性和附着力。

PVD镀膜设备在各个领域有着广泛的应用。

在电子行业中,PVD技术可用于制备导电薄膜、光学薄膜和防腐蚀薄膜等。

在光学行业中,PVD技术可用于制备反射镜、透镜和滤光片等。

在装饰行业中,PVD 技术可用于制备金属涂层,增加产品的质感和美观度。

此外,PVD 技术还可用于制备硬质涂层、陶瓷涂层和生物医学涂层等。

总结起来,PVD镀膜设备是一种基于物理气相沉积原理的薄膜制备技术。

通过蒸发、溅射和离子镀等工作原理,能够在基底表面形成均匀致密的薄膜。

该技术在电子、光学、装饰等领域有着广泛应用,为产品的性能和外观提供了强大支持。

镀膜机常见故障及分析解决预防措施

镀膜机常见故障及分析解决预防措施

镀膜机常见故障及分析解决预防措施一.常见故障,问题及解决方法下表对一些镀膜时常见的故障、真空度问题、及掉膜和膜质问题做了一些简单分析,并给予解决方案及预防措施.12346二.一些基础知识及注意事项和应急措施1. 膜厚控制仪控制参数Soak power1----预熔功率1 约为蒸发功率的一半Soak power2----预熔功率2 也称预蒸镀功率略小于最大功率Maxpower ----最大功率Dep Rate ----蒸发速率Final Thk ----膜厚(波长)Soak time----预熔时间Rise time ----功率上升时间Density ----材料密度检测膜厚原理通过改变探头上晶片的频率(由于膜的蒸发改变了其重量,所以其震动频率发生变化)来计算膜厚,而探头所处的位置和工具因数的设置都影响到测试精度,探头的位置和测试膜厚的关系如小:(1).探头高了,测试得到的厚度<实际得到的膜厚(玻片上厚度)(2).探头低了,测试得到的厚度>实际得到的膜厚(玻片上厚度)(3).工具因数调高,相当于探头位置降低,所以膜厚要增加2. 膜和材料间的关系2.1.U5吸收杂光,影响膜质和亮度.镀的过多,膜会发银;镀的过少,膜发黑,不亮泽,有银色;没镀上,则为银白2.2.U3脱膜剂,影响膜质.镀的过多,膜质稀烂,易脱落;镀的过少,膜会打卷,发硬2.3.SiO2决定颜色2.4.U6基层,影响膜的鲜艳度和亮度3. 均匀性3.1.径向均匀性:同一玻片上部与下部的不均匀,与光斑的调节、材料的料面、坩埚转速和转向、玻片的曲率有关3.2.重复均匀性:同一锅膜的每一套间的不均匀,与真空度的高低、操作者看颜色有关3.3.整体均匀性:同一套膜四块玻片上的均匀性,与光斑的稳定性、工转的转速和蒸发速率的匹配、真空度的高低、径向均匀性有关4. 灯丝问题4.1.放气时要记住关灯丝电源,以免氧化灯丝4.2.初次使用或更换新灯丝,应进行灯丝预热定型处理,以防灯丝加热过快变形.预热时,高压关闭,直接加热灯丝,缓慢加灯丝电流,由几安培加至15A时,维持3-5分钟4.3.灯丝安装a.灯丝不宜太高或太低:太高会造成光斑不可调,容易打烂栅极和阳极片;太低会造成光斑能量太散,不易蒸发b.栅极片应略低于阳极片c.各个压块、引线的接触面应清洗干净避免造成接触不良d.打紧螺钉时应松紧适当,太松会接触不良,太紧会造成“滑丝”5. 轰击条件:真空度4.0Pa到8.0Pa之间时间:20到30分钟轰击棒应用240#砂纸砂干净再用酒精擦一遍再装入真空室轰击完后关闭轰击开关,取轰击棒时应带手套或用包住轰击棒以免被烫伤6. 换机械泵油将油放干净,把出气口的盖板取下,然后取下挡油板,用布将机械泵油腔内擦干净(特别注意死角地方),擦干净后倒点新油盖住出气口开机械泵运行20秒将油放出,这样反复做两到三次,洗干净后即可加油.加油应加到观察油窗伤两条红线之间(油加少了会造成机械泵的抽气性能下降,油加多了会造成抽气时油喷出来).油加好后将挡油板,盖板依次装好.7. 应急措施7.1. 突然停电首先将设备总电源开关关闭(防止突然恢复电力所有用电设备工作造成电流冲击过大),然后将所有开关复位,处在关的状态(开关弹起为关的状态),等待电力恢复如果长时间电力无法恢复应将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使其冷却.设备循环水关小,防止停电时间过长导致循环水无法循环使水流失7.2.停水首先应关闭扩散泵,将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使扩散泵冷却关闭各阀门及机械泵,不能让其长时间在无冷却水的状态下工作导致设备损坏7.3.停气气压低于0.43Mpa时阀门会自动关闭,此时应将各阀门开关复位处在关的状态(开关弹起为关).如果长时间无法恢复供气,则将扩散泵,机械泵等运作的设备关闭,关扩散泵15分钟后打开扩散泵快冷冷却扩散泵。

电镀常见的问题及解决方案

电镀常见的问题及解决方案

电镀常见的问题及解决方案
电镀过程中可能出现的问题及其解决方案如下:
1.针孔或麻点:这是由于前处理不良、有金属杂质、硼酸含量太少、镀液温度太低等原因造成的。

可以使用润湿剂来减小影响,并严格控制镀液维护及流程。

2.结合力低:如果铜镀层未经活化去氧化层,铜和镍之间的附着力就差,会产生镀层剥落现象。

因此,在电镀前应对基材进行适当的预处理,如酸洗、活化等。

3.镀层脆、可焊性差:这通常是由于有机物或重金属物质污染造成的。

添加剂过多会使镀层中夹带的有机物和分解产物增多,此时可以用活性炭处理或电解等方法除去重金属杂质。

4.镀层发暗和色泽不均匀:有金属污染可能是造成这一问题的原因。

应尽量减少挂具所沾的铜溶液,并在发现污染时立即处理。

5.镀层烧伤:这可能是由于硼酸不足、金属盐的浓度低、工作温度太低、电流密度太高、PH值太高或搅拌不充分等原因造成的。

需要检查并调整相关工艺参数,确保其处于合适的范围。

6.沉积速率低:PH值低或电流密度低都可能导致沉积速率低。

应检查并调整镀液的PH值和电流密度,以优化沉积速率。

7.其他问题:如辅助阳极的铜条未与生产板长度一致或已发粗,不允许再使用。

全板及图形镀后板需在24小时内制作下工序。

图形镀上板戴细纱手套,下板戴棕胶手套,全板上板戴橡胶手套,下板戴干燥的粗纱手套。

在处理电镀问题时,需要综合考虑多个因素,包括镀液成分、设备状况、操作条件等。

如遇到难以解决的问题,建议寻求专业人士的帮助。

pvd离子镀

pvd离子镀

pvd离子镀PVD离子镀引言:PVD离子镀(Physical Vapor Deposition)是一种常用的表面处理技术,通过在材料表面沉积薄膜来改善其性能。

本文将介绍PVD 离子镀的原理、应用领域以及一些相关的发展趋势。

一、PVD离子镀的原理PVD离子镀是利用物理方法将金属、合金或陶瓷等材料的原子或分子沉积在基材表面,形成一层薄膜。

其主要原理包括蒸发、溅射和离子镀三个过程。

1. 蒸发:通过加热源将材料加热至蒸发温度,使其原子或分子脱离表面并进入气相状态。

2. 溅射:通过离子轰击的方式,使材料离子从材料表面剥离,并在真空中扩散,最终沉积在基材表面。

3. 离子镀:通过施加电场,将离子加速并定向沉积在基材表面,形成一层致密、均匀的薄膜。

二、PVD离子镀的应用领域PVD离子镀技术广泛应用于各个领域,主要包括以下几个方面:1. 电子行业:PVD离子镀可以制备金属、氧化物或硅等材料的导电薄膜,用于电子元器件、集成电路和显示屏等的制造。

2. 光学领域:通过PVD离子镀,可以制备具有特定光学性质的薄膜,如反射镜、透镜、滤光片等,广泛应用于光学仪器和光电子设备中。

3. 机械工业:利用PVD离子镀技术可以在刀具、模具等工具表面形成耐磨、耐蚀的涂层,提高其使用寿命和耐用性。

4. 汽车工业:PVD离子镀被广泛应用于汽车外观件的镀膜,如车身镀铬、车灯镀膜等,提高汽车的装饰性和耐候性。

5. 医疗领域:PVD离子镀可以制备生物相容性材料的表面涂层,用于人工关节、牙科种植等医疗器械,提高其生物相容性和耐腐蚀性。

三、PVD离子镀的发展趋势随着科学技术的不断进步,PVD离子镀技术也在不断发展和创新。

以下是一些PVD离子镀技术的发展趋势:1. 高效率:研究人员不断改进蒸发源和离子源的设计,提高蒸发和离子镀的效率,减少能源消耗和材料浪费。

2. 多功能性:将不同材料的离子镀技术结合起来,可以实现多层复合薄膜的制备,拓展PVD离子镀的应用领域。

镀膜技术十个主要问题及答案-深圳大学薄膜物理与应用研究所

镀膜技术十个主要问题及答案-深圳大学薄膜物理与应用研究所

镀膜技术十个主要问题及答案问题:一、镀膜技术可区分为那几类?可区分为:(1)真空蒸镀(2)电镀(3)化学反应(4)热处理(5)物理或机械处理二、常用的真空泵浦有那几种?适用的抽气范围为何?真空泵浦可分:(1)机械帮浦(2)扩散泵浦(3)涡轮泵浦(4)吸附泵浦(5)吸着泵浦真空泵浦抽气范围:泵浦抽气范围机械泵浦10-1 ~ 10-4 毫巴扩散泵浦10-3 ~ 10-6 毫巴涡轮泵浦10-3 ~ 10-9 毫巴吸附泵浦10-3 ~ 10-4 毫巴吸着泵浦10-4 ~ 10-10 毫巴三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?1)溅浆沉积:溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材,使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜,溅射离子的起始动能约在100eV。

常用的电浆气体为氩气,质量适当而且没有化学反应。

(2)电浆辅助化沉积:气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行,如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。

(3)电浆聚合:聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中,然后涂布于基板上。

电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆,经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上,由于基材受到电浆的撞击,其附着性也很强。

(4)电浆蚀刻:湿式碱性蚀刻,这是最简单而且便宜的方法,它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性,而且会产生下蚀的问题。

(5)电浆喷覆:在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆,以防止高温腐蚀的发生。

四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为:(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热各具有的特点:(1)电阻加热:这是一种最简单的加热方法,设备便宜、操作容易是其优点。

(2)感应加热:加热效率佳,升温快速,并可加热大容量。

(3)电子束加热:这种加热方法是把数千eV之高能量电子,经磁场聚焦,直接撞击蒸发物加热,温度可以高达30000C。

而它的电子的来源有二:高温金属产生的热电子,另一种电子的来源为中空阴极放电。

PVD喷涂及镀膜常见不良共26页文档

PVD喷涂及镀膜常见不良共26页文档

3.流痕/积油 Runs/Swells
定义:涂料在成膜过程中由于重力作用向下流动,使产品表面出现凸凹不平、上下漆膜厚薄不 均以及底部边缘增厚等不良。
产生的原因:---涂料喷出量过多,涂膜太厚; ---喷涂距离过近,被涂物表面过于光滑; ---喷枪与被涂物表面不垂直、素材的边缘或角过于尖锐 ; ---涂料粘度低,挥发速度慢。
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PVD Defect Analysis and Action_v1.0
7.划伤 Scratch
定义:产品表面有磨损、凹槽或刻痕等。 产生的原因:---不合理的操作使产品碰到其它物体或产品间相互接触。
改善措施:---车间员工操作时必须严格执行各工序的SOP; ---设计合理的放置产品的装置的间距,确保产品在各工序不会接触。
定义:产品表面反光时有类似彩虹的效应。
产生的原因:---油漆体系使用不恰当; ---喷涂工艺参数不当使涂层中残留有内应力; ---金属膜引起的反射光发生干涉。
改善措施:---提高油漆黏度; ---采用干喷手法; ---采用恰当的油漆体系; ---面漆(着色层)膜厚薄涂至下限; ---底漆中添加消光剂,减弱真空镀膜金属的反射光; ---面漆中添加消光剂,减弱涂膜的入射光; ---金属膜上涂装两层涂料,利用涂膜成分不同引起的漫反射。
空气洁净度进行有效管控。
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2.桔皮 Orange Peel
严重
轻微
定义:涂层或面漆整体的起皱或斑驳。
产生的原因: ---涂料粘度过高; ---涂层膜厚太薄; ---喷枪气压过低或空气帽与喷嘴不匹配,涂料雾化不良; ---涂料使用前没有充分搅拌; ---喷涂漆膜过厚,内外干燥不一致; ---漆膜流平时间过短; ---少油(常见于面漆喷涂);

pvd离子镀膜原理

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pvd离子镀膜原理
PVD(Physical Vapor Deposition)离子镀膜是一种常见的表面处理方法,它通过物理手段将薄膜材料以蒸发、溅射等方式转化为气态,然后在基底表面生成薄膜。

PVD离子镀膜的原理主要包括以下几个步骤:
1. 材料蒸发:选用适合的材料,将其放置在真空室中的加热源处。

通常采用电子束蒸发或电阻加热来加热材料,使其达到蒸发温度。

2. 生成薄膜:蒸发的材料会产生高能量的原子或分子,这些离子会在真空室中飞行,并逐渐沉积在基底表面上,形成薄膜。

3. 离子激活:为了使薄膜具有更好的附着力和性能,通常会对薄膜进行离子激活处理。

离子源会向薄膜表面发射高能量的离子,离子与薄膜表面相互作用,增强薄膜与基底的结合力。

4. 薄膜沉积:离子激活后,薄膜会在基底表面逐渐形成均匀的镀层。

由于离子沉积速度快、均匀性好,所以薄膜通常具有较高的致密度和良好的表面光洁度。

PVD离子镀膜的优点包括镀层致密、附着力好、耐腐蚀性高等,可以广泛应用于材料表面处理、陶瓷涂层、光学薄膜、装饰膜等领域。

生产常见问题--PVD

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顾客导向、科技领航、全面管理、精益求精
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5、作业员须佩带口罩防止说话时唾液飞溅到电池 薄膜上; 6、不得轻易按急停按钮,按下急停时为所有门 阀、真空泵、阀门关闭; 7、系统维护不得轻易开启,如开启则应在完成相 应操作后立即关闭; 8、每次更换靶材后将相应被更换靶材的靶消耗清 零,电池片累计清零后才能开始生产,其余时间不 得将靶消耗、电池片累计清零;
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左图则代表溅镀后被溅射出的原子、分子等的运 动情形;即当被加速的离子与表面撞击后,通过 能量与动量转移过程 (右图)低能离子碰撞靶时,不能从固体表面直 接溅射出原子,而是把动量转移给被碰撞的原子 ,引起晶格点阵上原子的链锁式碰撞。
气体 固体
Sputter溅镀后原子分子运动模型
溅射原子弹性碰撞模型
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7、依次打开隔离室1、溅射室2、溅射室3、隔离 室2前面的机械泵、罗茨泵; 8、等待腔室真空度小于5Pa时,关闭中间四个门 阀,依次打开隔离室1、缓冲室1、溅射室1、溅射 室2、溅射室3、溅射室4、缓冲室2、隔离室2的 前级阀、分子泵,分子泵图标由灰色变为黄色,开 始加速; 9、等待分子泵转速达到630转时,维持此状态10 分钟以上,使得靶室与缓冲室维持在高真空状态; 10、关闭Ar气与腔室之间的气动阀然后抽真空, 若真空度高于9.9 E-3 Pa则继续,若抽了两小时 真空还无法达到要求则通知设备处理;
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PVD离子镀膜一、什么是PVD离子镀膜?1.1 PVD的定义物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,简称PVD)是一种常用的薄膜制备技术,通过将固体材料蒸发或溅射成蒸汽或离子,然后沉积在基底表面上形成薄膜。

1.2 离子镀膜的概念离子镀膜是PVD技术的一种应用,它利用离子束轰击基底表面,使蒸发或溅射的材料以离子形式沉积在基底上,从而形成一层均匀、致密、具有优异性能的薄膜。

二、PVD离子镀膜的工艺过程2.1 蒸发法蒸发法是PVD离子镀膜的一种常用工艺,它通过将固体材料加热至蒸发温度,使其转变为蒸汽,然后沉积在基底表面上。

蒸发法可以分为热蒸发和电子束蒸发两种方式。

2.1.1 热蒸发热蒸发是利用电阻加热或电子束加热的方法将固体材料加热至蒸发温度,使其蒸发成蒸汽。

蒸汽经过减压系统传输到基底表面,并在表面形成薄膜。

2.1.2 电子束蒸发电子束蒸发是利用电子束轰击固体材料,将其加热至蒸发温度,使其蒸发成蒸汽。

蒸汽经过减压系统传输到基底表面,并在表面形成薄膜。

电子束蒸发具有高能量密度、高蒸发速率等优点。

2.2 溅射法溅射法是PVD离子镀膜的另一种常用工艺,它通过将固体材料置于溅射靶材的位置,然后利用离子束轰击靶材,使其溅射成蒸汽或离子,最后沉积在基底表面上。

2.2.1 直流溅射直流溅射是利用直流电源,通过离子轰击靶材,使其溅射成蒸汽或离子。

直流溅射具有操作简单、成本低等优点,但膜层质量较低。

2.2.2 射频溅射射频溅射是利用射频电源,通过离子轰击靶材,使其溅射成蒸汽或离子。

射频溅射具有溅射效率高、膜层质量好等优点,但设备成本较高。

三、PVD离子镀膜的应用领域3.1 光学领域PVD离子镀膜在光学领域有广泛的应用,如镀膜玻璃、反射镜、透镜等。

离子镀膜可以提高光学元件的透过率、反射率和耐磨性,提高光学元件的性能。

3.2 电子领域PVD离子镀膜在电子领域的应用也非常广泛,如集成电路、显示器、光伏电池等。

镀膜技术十个主要问题及答案-深圳大学薄膜物理与应用研究所

镀膜技术十个主要问题及答案-深圳大学薄膜物理与应用研究所

镀膜技术十个主要问题及答案问题:一、镀膜技术可区分为那几类?可区分为:(1)真空蒸镀(2)电镀(3)化学反应(4)热处理(5)物理或机械处理二、常用的真空泵浦有那几种?适用的抽气范围为何?真空泵浦可分:(1)机械帮浦(2)扩散泵浦(3)涡轮泵浦(4)吸附泵浦(5)吸着泵浦真空泵浦抽气范围:泵浦抽气范围机械泵浦10-1 ~ 10-4 毫巴扩散泵浦10-3 ~ 10-6 毫巴涡轮泵浦10-3 ~ 10-9 毫巴吸附泵浦10-3 ~ 10-4 毫巴吸着泵浦10-4 ~ 10-10 毫巴三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?1)溅浆沉积:溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材,使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜,溅射离子的起始动能约在100eV。

常用的电浆气体为氩气,质量适当而且没有化学反应。

(2)电浆辅助化沉积:气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行,如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。

(3)电浆聚合:聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中,然后涂布于基板上。

电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆,经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上,由于基材受到电浆的撞击,其附着性也很强。

(4)电浆蚀刻:湿式碱性蚀刻,这是最简单而且便宜的方法,它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性,而且会产生下蚀的问题。

(5)电浆喷覆:在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆,以防止高温腐蚀的发生。

四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为:(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热各具有的特点:(1)电阻加热:这是一种最简单的加热方法,设备便宜、操作容易是其优点。

(2)感应加热:加热效率佳,升温快速,并可加热大容量。

(3)电子束加热:这种加热方法是把数千eV之高能量电子,经磁场聚焦,直接撞击蒸发物加热,温度可以高达30000C。

而它的电子的来源有二:高温金属产生的热电子,另一种电子的来源为中空阴极放电。

PVD 镀膜 ( 离子镀膜 ) 技术和设备常见问题解答

PVD 镀膜 ( 离子镀膜 ) 技术和设备常见问题解答
Q8:请问PVD镀膜能ห้องสมุดไป่ตู้镀出的膜层种类有那些?
A8:PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。
A10:我们目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数,可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量,使颜色得以量化,以确定所镀出的颜色是否满足要求。
Q11:请问目前PVD镀膜技术主要应用在哪些行业?
两者的不同点是:PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大,膜层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性更好,膜层的性能也更稳定;PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛,可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
Q5:请问PVD镀膜能否代替化学电镀?
A5:在现阶段,PVD镀膜是不能取代化学电镀的,并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外,在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行PVD镀膜前,都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。PVD镀膜主要应用在一些比较高档的五金制品上,对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度,涂层成分也由第一代的TiN发展为TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元复合涂层。
涂层的PVD技术
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。

PVD喷涂及镀膜常见不良26页PPT

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PVD Defect Analysis and Action_v1.0
5.咬底/烧焦 Gnawing/Burning Marks
定义:底漆表面喷面漆时出现发黑、发皱、溶胀、起泡甚至脱落的现象。
产生的原因:---面漆溶解力太强,底漆耐溶剂性差; ---面漆喷涂太厚干燥慢,增强对底漆的腐蚀强度; ---底漆没有充分干透; ---面漆烘烤温度过高,产生酸性气体增强对底漆的腐蚀强度。
---涂装前对塑料制品进行退火处理,消除塑料加工中产生的残余应力。 ---在上线之前确保素材表面清洁,无尘点、毛丝等杂质颗粒。
14 PVD Defect Analysis and Action_v1.0
15.气泡 Blister/Bubble
定义:涂层表面、中间或下面可见的气泡或水泡(完整的或破裂的)。
改善措施:---优化喷涂工艺参数; ---确保素材表面平整无孔或在喷涂前对素材进行预热,并在喷涂时有效湿润; ---适当控制炉温; ---加强空气油水分离器的管理,有效分离空气中的水分; ---适当控制涂层的膜厚; ---在喷涂前对素材进行有效除尘和干燥; ---选择适当的油漆体系。
15 PVD Defect Analysis and Action_v1.0
改善措施:---确保涂料在使用过程长期搅拌; ---优化喷涂工艺参数,并严格执行喷涂标准作业规范; ---对镀膜工序出现的色差进行有效管控; ---面漆选用溶解力较差的溶剂,改善底的耐溶剂性或底漆完全固化后再涂面漆;
---选用恰当的原油与色浆体系;
---喷涂过程中严格控制涂层的厚度。
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PVD Defect Analysis and Action_v1.0
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PVD Defect Analysis and Action_v1.0

电镀PVD简介说课讲解

电镀PVD简介说课讲解

电镀P V D简介PVD简介1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。

对应于PVD技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。

近十多年来,真空离子镀膜技术的发展是最快的,它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。

我们通常所说的PVD镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。

3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜(离子镀膜)技术,其具体原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。

6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.3μm ~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ~1μm ,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,镀后不须再加工。

7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。

pvd镀膜工作原理

pvd镀膜工作原理

pvd镀膜工作原理一、PVD镀膜的基本原理PVD镀膜是一种通过物理过程将材料蒸发并沉积在基材表面形成薄膜的技术。

其基本原理是利用高能粒子的动能,将材料从蒸发源上蒸发,并通过惯性或磁场的作用将蒸发的材料沉积在基材表面。

PVD镀膜过程中,主要包括蒸发源、基材、真空环境和辅助设备等几个关键组成部分。

1. 蒸发源:蒸发源是PVD镀膜的核心设备,用于将材料加热至蒸发温度,使其转化为蒸汽或离子态。

常见的蒸发源有电子束蒸发源、磁控溅射源和离子束源等。

2. 基材:基材是需要进行镀膜的物体,其表面性质和形状会直接影响镀膜效果。

常见的基材有金属、塑料、玻璃等。

3. 真空环境:PVD镀膜需要在高真空环境下进行,以避免杂质对薄膜质量的影响。

真空环境可以通过真空室和真空泵等设备实现。

4. 辅助设备:辅助设备包括温度控制系统、气体控制系统和监测仪器等,用于控制和监测蒸发源、基材和真空环境的参数,以确保镀膜过程的稳定性和可重复性。

二、PVD镀膜的工作过程PVD镀膜的工作过程可以分为蒸发、输运和沉积三个阶段。

1. 蒸发阶段:在高真空环境下,蒸发源中的材料被加热至蒸发温度,转化为蒸汽或离子态。

蒸发源通过电子束、磁控溅射或离子束等方式将材料释放到真空环境中。

2. 输运阶段:蒸发的材料以高速运动,经过碰撞和散射,最终沉积在基材表面。

输运过程中,材料的运动轨迹和能量分布会受到真空环境和辅助设备的控制。

3. 沉积阶段:蒸发的材料沉积在基材表面,形成薄膜。

沉积的过程受到基材表面性质和沉积速率的影响,通常需要进行多次循环沉积,以获得所需的薄膜厚度。

三、PVD镀膜的应用领域PVD镀膜技术在许多领域都有广泛的应用,如电子、光学、摩擦学和装饰等。

1. 电子领域:PVD镀膜可用于制备电子元器件中的导电膜、隔热膜和光学薄膜等。

例如,PVD镀膜可以制备集成电路中的金属线缆和二极管的金属引线。

2. 光学领域:PVD镀膜可以制备透明导电膜、反射膜和滤光膜等用于光学器件和显示屏幕。

电镀PVD简介

电镀PVD简介

1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。

对应于PVD技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。

近十多年来,真空离子镀膜技术的发展是最快的,它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。

我们通常所说的PVD镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。

3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜(离子镀膜)技术,其具体原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。

5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。

6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为μm ~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为μm ~1μm ,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,镀后不须再加工。

7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。

pvd镀膜机原理

pvd镀膜机原理

pvd镀膜机原理PVD镀膜机是一种常用的表面处理设备,主要用于对物体表面进行镀膜处理。

PVD是Physical Vapor Deposition的缩写,即物理气相沉积,是一种利用物理方法将物质从固体转变为气体状态,然后沉积在物体表面上的技术。

PVD镀膜机的工作原理可以简单理解为以下几个步骤:准备工作、气体离子化、离子轰击和沉积。

准备工作包括对待镀物体进行清洗和表面处理。

这是为了确保待镀物体的表面干净且具有一定的粗糙度,以增加镀层的附着力。

接下来,将待镀物体放置在真空腔室中。

真空腔室的作用是将气体抽取出来,以创建一个低压环境,避免气体分子与镀层材料反应。

通过真空泵等设备,将腔室内的气体抽取至较低的压强。

在真空腔室中,待镀物体与镀层材料之间的距离应尽量缩短,以提高镀层的均匀性。

气体离子化是PVD镀膜的关键步骤之一。

在真空腔室中,向气体供应源中通入所需的镀层材料气体,如金属蒸发源中通入金属蒸发材料。

然后,通过电子束加热或电阻加热等方式,将镀层材料加热至气化温度,使其从固体转变为气体状态。

这些气体分子随后会与待镀物体表面进行碰撞。

离子轰击是气体分子与待镀物体表面碰撞后的过程。

离子源通常是通过电离或放电等方式将气体离子化,然后加速并引导离子轰击到待镀物体表面。

离子轰击能够清除待镀物体表面的氧化物、油脂和杂质等,并提高表面的粗糙度,从而增强镀层与基材的结合力。

沉积是将离子轰击后的镀层材料沉积在待镀物体表面的过程。

在离子轰击的作用下,镀层材料的离子会沉积在待镀物体表面,并与其结合形成均匀的镀层。

通过控制离子的能量、束流密度和沉积时间等参数,可以获得不同厚度和性质的镀层。

总的来说,PVD镀膜机利用物理气相沉积技术,将固态材料转变为气态材料,然后通过离子轰击和沉积的方式将镀层材料沉积在待镀物体表面上。

这种技术可以提供高质量的镀层,具有良好的附着力、硬度和耐磨性等特点。

PVD镀膜机在许多领域中得到广泛应用,如光学、电子、汽车和航空航天等行业。

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两者的不同点是:PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大,膜层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性更好,膜层的性能也更稳定;PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛,可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
Q5:请问PVD镀膜能否代替化学电镀?
A5:在现阶段,PVD镀膜是不能取代化学电镀的,并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外,在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行PVD镀膜前,都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。PVD镀膜主要应用在一些比较高档的五金制品上,对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
PVD(Physical Vapor Deposition),指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具
PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基体材料的结合强度,涂层成分也由第一代的TiN发展为TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元复合涂层。
涂层的PVD技术
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤系统,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%,并且可以过滤掉大颗粒, 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。
磁控溅射:在真空环境下,通过电压和磁场的共同作用,以被离化的惰性气体离子对靶材进行轰击,致使靶材以离子、原子或分子的形式被弹出并沉积在基件上形成薄膜。根据使用的电离电源的不同,导体和非导体材料均可作为靶材被溅射。
Q2:请问什么是PVD镀膜?什么是PVD镀膜机?
A2:PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。
近十多年来,真空离子镀技术的发展是最快的,它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。
Q9:请问PVD镀膜膜层的厚度是多少?
A9:PVD镀膜膜层的厚度为微米级,厚度较薄,一般为0.1μm~5μm,其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm,因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能,并能够维持工件尺寸基本不变,镀后不须再加工。
Q10:请问PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色有哪些?
A13:PVD镀膜设备主要由真空腔体、真空抽气机组、水冷系统、电源系统、控制系统等几大部分组成。
Q14:请问真空腔体和真空抽气机组对PVD镀膜设备来说很重要吗?
A14:两者都很重要,他们在很大程度上决定了PVD镀膜设备运行的稳定性和使用寿命。真空腔体所采用的材料的质量、腔体的厚度、腔体的水冷方式、腔体焊接方式和组装的气密性、腔体材料的放气率等对镀膜质量都有很大影响;真空抽气机组的抽气速率的稳定性、在不同真空度下的抽气能力以及真空抽气机组的故障率对整个镀膜系统的性能及连续运转能力的影响也非常大。所以这两者对PVD镀膜设备来说都很重要。
PVD 镀膜 ( 离子镀膜 ) 技术和设备常见问题解答
Q1:请问什么是PVD?
A1:PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
离子束DLC:碳氢气体在离子源中被离化成等离子体,在电磁场的共同作用下,离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。碳氢离子束被引到基片上,沉积速度与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高
电压,因而离子能量更大,使得薄膜与基片结合力很好;离子电流更大,使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积超薄及多层结构,工艺控制精度可达几个埃,并可将工艺过程中的颗料污染所带来的缺陷降至最小。
Q3:请问PVD镀膜的具体原理是什么?
A3:离子镀膜(PVD镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
Q4:请问PVD镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何点?
A4:PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是,两者都属于表面处理的范畴,都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
A10:我们目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色,浅金黄色,咖啡色,古铜色,灰色,黑色,灰黑色,七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数,可以控制镀出的颜色;镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量,使颜色得以量化,以确定所镀出的颜色是否满足要求。
Q11:请问目前PVD镀膜技术主要应用在哪些行业?
Q12:请问PVD镀膜的成本是不是很高?
A12:虽然使用PVD镀膜技术能够镀出高品质的膜层,但是PVD镀膜过程的成本其实并不高,它是一种性价比非常高的表面处理方式,所以近年来PVD镀膜技术发展得非常快。PVD镀膜已经成为五金行业表面处理的发展方向。
Q13:请问PVD镀膜设备主要由哪几部分组成?
Q8:请问PVD镀膜能够镀出的膜层种类有那些?
A8:PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法,它能够制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等)、氮化物膜(TiN[钛
金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。
有更好的性能! PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)
PVD简介
PVD是英文Physical Vapor Deposition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
PVD技术的发展
PVD技术出现于二十世纪七十年代末,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视,人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。与CVD工艺相比,PVD工艺处理温度低,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。目前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。
A11:PVD镀膜技术的应用主要分为两大类:装饰镀和工具镀。装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命;这方面主要应用五金行业的各个领域,如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命;这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具(如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等)等产品中。
Q6:请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点?
A6:采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
Q7:请问PVD能在镀在什么基材上?
A7:PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上,对锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬,然后才适合镀PVD。
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