EDI系统设备在化学中再生及清洗保养方式

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EDI设备的化学清洗及再生

EDI设备的化学清洗及再生膜块堵塞的原因主要有下面几种式：o 颗粒/胶体污堵o 无机物污堵o 有机物污堵o 微生物污堵清洗方法时间（分）备注酸洗30-50碱洗30-50盐水清洗35-60消毒25-40冲洗≥50再生≥120 根据系统的工艺要求直至达到出水电阻率要求指标单个膜块清洗时药液配用量型号药液配用量（升）备注MX-50 50 1. 酸洗温度15-25℃2. 碱洗温度25-30℃3. 配药液用水必须是RO产水或高于RO产水的去离子水MX-100 80MX-200 110MX-300 150•对于膜块数量大于1块时，按表中配液的数量乘以膜块数量EDI膜块的再生o 确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。

o 使系统构建成一个闭路自循环管路。

o 按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。

o 给EDI送电，调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流（最大不能超过4A）。

o 直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cmo 提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

EDI运行维护注意事项注意:试车、操作及维护前,请详阅EDI厂家所提供操作维护手册. 本注意事项仅提醒使用者於试车、操作及维护时需要特别注意之事项,详细操作维护内容请详阅EDI厂家所提供操作维护手册.一、进流水质要求与必要之附属设备(一)进流水质要求: 前处理系统一定要有RO 系统,且要确保RO 系统操作正常. 进流水质最低要求如下:1 导电度(包括SiO2 及CO2) μs/cm < 402 温度℃5 - 453 压力Psi 20-1004 自由余氯(Cl2) ppm < 0.025 铁(Fe)、锰(Mn) ppm < 0.016 硫化物(S- ) ppm < 0.017 pH 4-118 总硬度(as CaCO3) ppm < 1.09 二氧化硅(SiO2) ppm < 1.010 总有机碳(TOC) ppm < 0.5备注: 1. 导电度计算方式=导电度计测量之导电度+2.66xCO2 浓度(ppm as CO2)+1.94xSiO2(ppm as SiO2)2. 启动初期应特别注意进流硬度、二氧化硅浓度,应避免超过1.0ppm.(二)附属设备：为了保护模块及便利后续系统监测,强烈建议EDI 系统应至少包括下列附属设备:1. 稳定的电源供应设备：为了维持系统操作稳定,电源供应系统应供给稳定的直流电源给模块,且系统能在定电流模式下操作(V=IR, 亦即设定电流(I)后,电流并不会随进流水质改变,进流水质改变仅会影响电阻(R)及电压(V)).2. 流量开关或流量控制设备：为了保护模块,当没有水进入模块时, 模块电源必须马上被关闭,流量开关需与电源供应连动.3. 压力计：应至少於进流端与产水、浓缩水出水端设置压力计,以监测进出水压力.4. 进出水流量计：方便调整产水率.可使用附控制点之流量计(可作为流量开关使用).5. 系统控制(PLC 控制)：系统除了控制没水进入时之断电装置外,亦应控制在进流水进入一段时间后,若电源仍无供应,应停止进流(例如泵启动30 秒后(视泵至EDI 距离调整时间),若电源仍无供应, 则应关闭泵,并发出警报),以避免EDI 膜堆内树脂饱和,影响后续产水水质。

EDI超纯水设备再循环工艺及维护需求解析

EDI超纯水设备再循环工艺及维护需求解析通常EDI系统消除了酸和腐蚀物，它们的运输、存储、处理都比较危险。

EDI系统比复杂的混床操作要简单、连续，需要更少的劳动力。

EDI系统还减少了附属设备，它的工艺过程产生很少的排放物，产生的排放物都是许可的，实际上EDI系统中大多数排放水可以回收到水处理系统的入口。

很多情况下，应用EDI将会操作更少，资本更少。

混床消耗树脂、劳力、化学物、废水，而EDI 的消耗是电能，膜堆有时候需要清洗和替换。

在相同产水量的情况下，EDI消耗的劳动力和废水的排放量比混床要显著的少。

根据进水水质和出水的品质，每产生1000加仑的水每小时EDI消耗的电量比混和离子交换消耗更少。

EDI系统最近已经被几乎所有需要高纯水和最终用户所接受，有着可靠的、有经济效益的解决方案。

历史上，制取超纯水设备系统总是要依赖于离子交换，这些系统由阳床+阴床+混床组成。

在这个系统生产超纯水的同时，它需要大量再生。

现在EDI系统也在精制领域代替了混床，与发反渗透一起，EDI系统将提供一个连续运行的、无化学处理的系统。

EDI的工作流程：EDI模块(膜堆)是EDI工作的核心。

一个简单的EDI膜堆主要由两个电性相反的电极和多个模块单元对组成，一个膜单元对由一个填满阳离子和阴离子交换树脂的淡水室、一个阳膜、一个阴膜、一个浓水室组成。

EDI膜堆包含多个膜单元对。

在每个膜堆的内部有两个带有600V电压的电极，这是通过每个膜堆必需的电压。

正极带正电压，负极带负电压，电流在正极和负极之间通过30个膜单元。

任一个淡水室都包含着阳树脂和阴树脂，它相当于一个8千米厚的混床。

一个阳膜朝着阴极的方向把淡水室和浓水室分开，在另外一边，阴膜也把淡水市和浓水室分开。

EDI 用的膜和反渗透用的膜很不相同，反渗透用的膜允许小颗粒的分子污染物和离子以及水通过，而EDI膜象离子交换树脂一样是用聚苯乙烯材料制作的，只允许带适当电荷的离子通过，水基本上不能通过。

EDI装置操作保养规程

EDI装置操作保养规程1. 介绍EDI（Electrodeionization）电极离子交换装置是一种高效的水处理技术，采用物理方法去除水中的离子，常用于电子行业、生物制药、食品饮料等领域的水处理。

EDI装置的稳定运行对产品质量和生产效率有着至关重要的作用。

因此，制定EDI装置操作保养规程非常必要。

本文将介绍EDI装置的操作流程和保养规程，以确保EDI装置的正常运行，提高生产效率和产品品质。

2. 操作流程2.1 准备工作在使用EDI装置前，请确认以下准备工作已经进行：1.确保EDI装置供电正常，并连接好水源管路、透析管路和纯水管路；2.检查EDI装置各部件是否紧固，是否存在松动或损伤；3.将系统减压阀关闭，并将系统内压力排空；4.打开EDI装置底盘箱和控制面板，确认各个仪表的指示是否正常。

2.2 操作步骤1.打开EDI装置，并按照面板提示将EDI装置设置为运行状态；2.打开水源阀门，让水进入EDI设备；3.打开透析液阀门，将透析液进入EDI装置；4.打开纯水阀门，让生成的纯水流出；5.监听设备运行声音，确保运行正常。

2.3 关闭步骤1.关闭纯水阀门；2.依次关闭透析液阀门、水源阀门；3.将EDI装置设置为停机状态，并等待设备停止运行；4.关闭电源开关；5.关闭各个阀门，确保装置内的压力排空；6.关闭底盘箱和控制面板。

3. 保养规程3.1 日常保养1.定期检查EDI装置各部件的紧固度，并按照要求进行紧固；2.清洗透析管路，避免管路内出现杂质；3.定期更换预处理设备和滤芯，保持水源的纯净度；4.检查透析液液位是否正常，避免液位过高或过低导致设备异常；5.清洗透析罐和EDI模块，定期更换活性炭。

3.2 周期保养1.定期对EDI装置进行全面清洗，包括浸泡、清洗、消毒等步骤；2.定期检查EDI装置的电极板和离子交换膜是否存在损伤或老化现象，若有需要更换；3.定期对EDI装置进行质量检测和性能评估。

4. 注意事项1.操作人员必须经过专业培训和授权后才能使用EDI装置；2.操作人员必须仔细阅读操作手册和保养规程，操作前先进行准备工作，保证操作安全；3.对EDI装置的日常保养和周期保养一定要按照规范进行，以确保EDI装置的正常运行；4.监测设备运行情况时，应注意各个仪表的指示和警报，一旦出现异常情况，及时停机并进行检查。

EDI的运行与维护

EDI的运行与维护【摘要】EDI是制造超纯水的先进设备，但它也有脆弱的一面，容易被污染和阻塞。

所以，我们应该精心得去维护保养---在保障进水水质的同时，发现污阻现象，就应及时地进行清洗，来恢复设备原有的性能、产水质量及压降。

【关键词】EDI模块；化学清洗；维护保养引言EDI技术是一种新的纯水和超纯水制备技术。

该技术将电渗析技术和离子交换技术相融合，通过阴、阳离子交换膜对阴、阳离子的选择性透过作用与离子交换树脂对离子的交换作用，在直流电场的作用下实现离子的定向迁移，从而完成水的深度除盐，水质可达15MΩ.cm以上。

在进行除盐的同时，水电离解产生的氢离子和氢氧根离子对离子交换树脂进行再生，因此不需酸碱化学再生而能连续制取超纯水。

它具有技术先进、操作简便和优异的环保特性，是纯水制备技术的绿色革命。

EDI作为超纯水设备的主要部件，模块内的水流通道狭窄，容易被杂质、水垢或有机物堵塞；同时，EDI中树脂含量少，很容易受到外界因素的污染和损坏。

这些故障都将增加运行成本，严重影响生产。

因此减少这些故障的出现，维护EDI的稳定运行至关重要。

一、引起EDI模块上述故障的主要原因归纳有以下几点1、EDI进水前，无保安过滤器或安装时没有彻底清洗管道和水箱，导致异物堵塞EDI通道，进出水压差增大，造成产水水量严重下降，清洗无效。

2、EDI模块长期在大电流，低于额定流量情况下运行，极板侧积聚的热量得不到有效散发，造成EDI接近两极的膜片和隔网最先发热变形，EDI浓水压差增大，水质和水量下降，严重时会碳化、漏水。

3、EDI模块长期没有清洗保养，EDI的膜片和通道结垢，进出水压差增大，造成产水水质下降，电流无法调节，电压上升。

4、超滤或反渗透系统控制余氯等氧化剂不当，进入EDI氧化剂超量，导致EDI树脂破碎，堵塞产水通道，水量下降。

5、采用不当的清洗和消毒，直接导致EDI树脂破碎，进出水压差增大，造成产水水质和水量全部下降。

6、EDI系统手动运行时，在缺水状态下加电，直接导致膜片和树脂的发热碳化，清洗无效，无法使用。

EDI的运行与维护

３、过碳酸钠清洗（过碳酸钠是碳酸钠和过氧化氢的混合液）１）用５％盐水冲洗５分钟，清除膜堆中的杂质金属离子，特别是钙离
２、ＥＤＩ模块长期在大电流，低于额定流量情况下运行，极板侧积聚子和镁离子。２）用清水冲洗５分钟，将盐水从膜堆中冲洗掉。的热量得不到有效散发，造成ＥＤＩ接近两极的膜片和隔网最先发热变形，ＥＤＩ浓水压差增大，水质和水量下降，严重时会碳化、漏水。３）用１％过碳酸钠溶液循环清洗３０分钟，清除膜堆中的有机污染物３、ＥＤＩ模块长期没有清洗保养，ＥＤＩ的膜片和通道结垢，进出水压和生物膜。维持清洗液ＰＨ一１０。４）用５％盐水冲洗５分钟，将膜堆中的清洗液冲洗掉，并将离子交换差增大，造成产水水质下降，电流无法调节，电压上升。
【关键词ｉＥＤＩ模块；化学清洗；维护保养
１
、
四，化学清洗
盐酸清洗
引言１）用２％盐酸溶液循环清洗３０ —６０分钟，清除膜堆中的结垢及金属ＥＤＩ技术是一种新的纯水和超纯水制备技术。该技术将电渗析技氧化物。如果阻塞严重，则需要用盐酸浸泡过夜。维持溶液ＰＨ一０．５，术和离子交换技术相融合，通过阴、阳离子交换膜对阴、阳离子的选择必要时加盐酸。性透过作用与离子交换树脂对离子的交换作用，在直流电场的作用下实２）用５％盐水冲洗５分钟，将膜堆中的清洗液洗掉，并将离子交换树现离子的定向迁移，从而完成水的深度除盐，水质可达１５Ｍｒ２．ｃｒｎ以上。脂变回钠型和氯型。３）开启系统，在不加直流电流的情况下进水５分钟，用清水将清在进行除盐的同时，水电离解产生的氢离子和氢氧根离子对离子交换树

EDI膜块的化学清洗及再生方法

EDI膜块的化学清洗及再生方法EDI膜块的化学清洗及再生方法：虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是随着设备运行时间的延展，EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。

如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2和较高的pH值，将会加快沉淀的速度。

遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。

通常判断EDI膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高45%。

2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。

3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。

4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。

5.维修EDI及采购EDI就找湖南凯聚达科技有限公司膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：颗粒/胶体污堵；无机物污堵；有机物污堵；微生物污堵。

（EDI清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。

）详细如下：1、颗粒/胶体污堵进水颗粒度≥5μm时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。

如果EDI膜块的进水不是直接由RO产水端进入EDI膜块，而是通过RO产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。

在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。

2、无机物污堵如果EDI进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。

即便这类物质的浓度很小，接触时间也很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。

EDI设备的化学清洗及再生

o 使系统构建成一个闭路自循环管路。

o 按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。

o 给EDI送电，调节电流从2A开始分步缓慢向EDI加载电流（最大不能超过4A）。

o 直至产水电阻率达工艺要求到或者≥12MΩ.cmo 提示：膜块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

edi模块清洗保养方案

EDI模块的清洗保养方案主要包括以下步骤：●定期清洗EDI模块。

由于长期使用，水中的杂质会在EDI模块中积累，这可能会影响其正常产水。

因此，需要定期清洗，以恢复其正常产水状态。

●检查EDI模块的电极与膜片。

EDI模块中的浓水室和淡水室以及许多电极和膜片是其核心设备，需要定期检查以确保其正常状态。

●定期检查预处理装置。

预处理装置对进水水质要求较高，如果水质不合格可能会造成树脂污染，同时也会影响EDI模块的安全运行。

因此，需要定期检查预处理装置，确保其运行安全。

●定期检查EDI模块配套装置。

这些装置包括管道和闸阀等，当其出现泄漏或者堵塞时，将会严重影响纯水EDI模块的产水性能和产水水质。

因此，需要定期检查和维护这些装置。

●清洗进水电极。

每三月清洗一次进水电极，并使用去离子水冲洗干净。

●检查电极和膜片的安装情况。

检查电极和膜片的安装是否正确，是否有松动或漏装现象。

如有需要，可以重新安装或紧固。

●清洗淡水室和浓水室。

使用去离子水冲洗淡水室和浓水室，以去除其中的杂质和污染物。

●检查系统是否有泄漏。

检查整个EDI模块系统是否有泄漏，包括连接处和阀门等关键部位。

如有泄漏，需要进行修复。

●检查电源和电流是否正常。

检查电源是否稳定，电流是否在正常范围内。

如有异常，需要进行调整。

●清洗离子交换树脂。

使用去离子水清洗离子交换树脂，去除其中的杂质和污染物。

●检查系统是否正常运转。

检查整个EDI模块系统是否正常运转，包括产水、排水、清洗等环节。

如有异常，需要进行调整。

EDI模块清洗保养方案

EDI模块清洗保养方案EDI（Electronic Data Interchange，电子数据交换）是一种基于计算机网络的数据交换技术，广泛应用于企业间的信息交流和业务流程的优化。

为保证EDI模块的长期稳定运行和有效传输数据，需要进行清洗和保养。

下面是EDI模块清洗保养方案。

一、EDI模块清洗方案1.硬件清洗：(1)关闭电源，断开连接线。

(2)用软布蘸取少量酒精，轻擦EDI模块外壳，特别是插针处，清除灰尘和污渍。

(3)用专业的气压吹灰机，将灰尘吹净，注意不要吹到插槽和接口。

(4)用干净的软布擦干EDI模块外壳，确保无残留。

2.软件清洗：(1)检查EDI模块的操作系统版本，及时进行系统更新和安全补丁的安装，确保系统安全。

(2)清除无用的日志文件、临时文件和缓存文件，释放硬盘空间。

(3)定期进行磁盘碎片整理，优化磁盘性能。

(4)扫描和清除病毒、恶意软件和广告插件等，保证EDI模块的安全性。

二、EDI模块保养方案1.硬件保养：(1)定期检查EDI模块的电源插头和接口，确保连接牢固。

(2)定期检查EDI模块的散热器和风扇，清除灰尘和杂物，保证散热效果和风通畅。

(3)定期检查EDI模块的数据线和接口，确保无损坏和松动。

2.数据备份：(1)定期进行EDI模块数据的备份，保证数据安全性。

(2)存储备份数据的存储介质应具备防火、防水和防磁功能，放置在干燥通风的环境中。

3.系统监控：(1)定期检查EDI模块的运行状态，包括CPU使用率、内存使用率、磁盘空间使用率等指标，及时调整资源。

(2)定期检查EDI模块的网络连接状态，确保网络畅通。

4.定期更新技术文档：(1)定期更新EDI模块的技术文档，包括用户手册、安装指南、系统配置和应用场景等。

(2)建立技术文档的版本管理，确保文档的有效性和一致性。

5.培训和人员管理：(1)定期组织EDI模块的培训课程，提高操作人员的技术水平和应用能力。

(2)建立EDI模块操作人员的人员管理制度，包括权限管理、培训记录和绩效评估等，确保操作人员的稳定性和安全性。

EDI设备组件的清洗及维护

EDI设备组件的清洗及维护EDI设备,EDI装置,EDI系统注意事项：1. 在操作和维护坎贝尔TM EDI系统时必须始终遵守使用手册中的有关规定2. 该使用手册中文版与英文版有分歧时以英文版为准3. 必须完全理解本手册内容或经过相关技术培训才能操作坎贝尔TM EDI系统4. 对于不符合本手册要求所造成的损失，北京易蒂艾公司不承担任何责任5. 坎贝尔TM EDI模块在使用期间出现异常现象，用户不得自行拆装，应立即通知售后服务商6. 我们保留不断改进产品的权利，如有变动恕不另行通知离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近,可以使特定的离子迁移。

阴离子交换膜只允许阴离子透过，不允许阳离子透过;而阳膜只允许阳离子透过，不允许阴离子透过。

在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成了一个EDI单元。

阴阳离子交换膜之间由混合离子交换树脂占据的空间被称为淡水室。

将一定数量的EDI单元罗列在一起，使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列，并使用网状物将每个EDI单元隔开，形成浓水室。

在给定的直流电压的推动下，在淡水室中，离子交换树脂中的阴阳离子分别在电场作用下向正/负极迁移，并透过阴阳离子交换膜进入浓水室，同时给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由于离子电迁移而留下的空位。

事实上离子的迁移和吸附是同时并连续发生的。

通过这样的过程，给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除盐水。

带负电荷的阴离子(例如OH-、Cl-)被正极(+)吸引而通过阴离子交换膜，进入到邻近的浓水室中。

此后这些离子在继续向正极迁移中遇到邻近的阳离子交换膜，而阳离子交换不允许其通过，这些离子即被阻隔在浓水中。

淡水流中的阳离子(例如Na+ 、H+)以类式的方式被阻隔在浓水中。

在浓水中，透过阴阳膜的离子维持电中性。

EDI组件电流量和离子迁移量成正比。

电流量由两部分组成，一部分源于被除去离子的迁移，另一部分源于水本身电离产生的H+和OH-离子的迁移。

EDI装置维护保养规程

1总则1.1 适用范围1.1.1依据制造厂提供的使用说明书等有关资料，编制本规程。

1.1.2本规程适用于连续电除离子装置(以下简称为“EDI”）的维护保养。

1.1.3本规程与制造厂的技术文件相抵触时，应遵循制造厂技术文件中的有关规定。

1.2 EDI原理连续电除盐（EDI，Electro-deionization或CDI，Continuous deionization），是利用填充在淡水室中的混合离子交换树脂吸附给水中的阴阳离子，同时这些被吸附的离子又在直流电压的作用下发生横向电迁移，并分别透过阴阳离子交换膜进入浓水室而被去除；另一方面，在给水前进的方向上，由于离子不断被去除，溶液的电导率越来越低，在直流电压的作用下水会发生解离以产生足够的H+和OH-离子来维持系统的电流量，这些水解离产生的H+和OH-除了发生横向电迁移外，还会就地把吸附有离子的树脂再生，从而实现连续深度脱盐。

因此EDI过程的本质是离子交换、电渗析和水解离产生H+和OH-离子再生树脂这三个过程的综合过程。

在此过程中，离子交换树脂仅仅为离子提供一个导体的作用，因此不需要用酸和碱进行再生。

电渗析才是EDI用来脱盐的手段。

但是树脂终会因吸附饱和而发生离子泄露，无法使除盐过程连续而稳定地运行。

水解离是EDI的核心所在，而要实现水的解离，关键是：(1)给水中的离子不能太多；(2)所施加的直流电压必须达到一定的数值。

这一新技术可以代替传统的离子交换( DI )装置，生产出电阻率高达18 MΩ·cm的超纯水。

1.2 结构简述Canpure Super EDI主要由以下几个部分组成:（1）淡水室将离子交换树脂填充在阴、阳离子交换膜之间形成淡水单元。

（2）浓水室在相邻淡水单元的阴阳离子交换膜之间添加树脂，形成浓水室。

（3）极水室在电极板与相邻离子交换膜中间添加树脂，形成极水室。

一个组件中有正、负两个极水室。

（4）绝缘板和压紧板（5）电源及水路连接Canpure Super EDI 在传统EDI技术的基础上，对组件的内部结构进行了革命性的创新，使得EDI的给水条件大大放宽，运行大大简化，运行费用大大降低。

EDI系统设备在化学中再生及清洗保养方式

EDI系统设备在化学中再生及清洗保养方式EDI系统设备是目前用来生产超纯水最好的设备，其再生方式的选择，清洗及保养方式都会影响到EDI系统设备的产水方式。

EDI系统设备模块的再生方式：确认EDI膜块内没有任何的化学药品残留存在。

使系统构建成一个闭路自循环管路。

按照正常运行的模式调节好所有的流量和压力。

给EDI送电，调节电流从1A开始分步缓慢向EDI加载电流。

直至产水电阻率达工艺要求到或者≥14.5MΩ.cm提示：模块的再生是一个比较长的时间，有时可能会长达10-24小时甚至更长的时间。

EDI超纯水运行维护需要注意事项：一、进流水质要求与必要之附属设备：(1)进流水质要求：前处理系统一定要有 RO 系统,且要确保RO 系统操作正常。

(2)附属设备：为了保护模块及便利后续系统监测,强烈建议EDI设备系统应至少包括下列附属设备：1. 稳定的电源供应设备：为了维持系统操作稳定,电源供应系统应供给稳定的直流电源给模块,且系统能在定电流模式下操作(V=IR, 亦即设定电流(I)后,电流并不会随进流水质改变,进流水质改变仅会影响电阻(R)及电压(V))。

2. 流量开关或流量控制设备：为了保护模块,当没有水进入模块时, 模块电源必须马上被关闭,流量开关需与电源供应连动。

3. 压力计：应至少於进流端与产水、浓缩水出水端设置压力计,以监测进出水压力。

4. 进出水流量计：方便调整产水率.可使用附控制点之流量计(可作为流量开关使用)。

5. 系统控制(PLC 控制)：系统除了控制没水进入时之断电装置外,亦应控制在进流水进入一段时间后,若电源仍无供应,应停止进流(例如泵启动30 秒后(视泵至EDI 距离调整时间),若电源仍无供应, 则应关闭泵,并发出警报),以避免EDI膜堆内树脂饱和,影响后续产水水质。

二、试车注意事项：(1)试车前检查：1. 试车前检查：试车前应检查管路、配件及控制系统是否安装完成，各项检查前应先关闭电源，以维护人员安全。

EDI清洗方案

EDI清洗方案1.管道设备安装图2.清洗操作流程●按照管路图连接管道，阀门及设备●开机，调整阀门回流阀门、EDI进水、EDI浓水阀门，达到纯水进水流量3.4m³/h 浓水1.73m³/h 浓水流量为纯水一半流量压力≯0.2MPa●加入HCL9L，再加入190L纯化水到循环储罐，测PH值＜0.5●连接EDI ，开泵循环1小时，10分钟测循环水储罐PH值，加酸达到PH值一直＜0.5●提取结束后循环水箱液200ml，加氢氧化钠调整PH到10以上，观察是否有沉淀物。

留清液样备用检测,将循环液排放●加入12.5KG氯化钠，加纯化水水250L配置成5%氯化钠溶液250L,再循环冲洗，到PH值恒定到和纯水水平，将循环液排放●用纯化水冲洗EDI模块10分钟，冲洗干净EDI中残留的HCL和NaCL，不循环直接排放●加入7.5KG氯化钠和1.5KG氢氧化钠和纯化水150L配置成5%氯化钠溶液和1%氢氧化钠混合液150L，再循环60分钟（PH值应该＞13，清洗时注意颜色变化，若溶液呈明显黄色或泡沫，就要配置清洗液进行清洗，直到洗出溶液无颜色变化），第一次清洗液取样备检●加入12.5KG氯化钠，加纯化水水250L配置成5%氯化钠溶液250L，再循环冲洗，到PH值恒定到和纯水水平，将循环液排放●用纯化水冲洗EDI，直到PH为7和出水电导率和纯化水一致3.注意事项员工要穿戴安全防护用品，劳保鞋，防酸碱手套，护目镜设备设施按照流程图安装好以后，要先试运行，观察是否有泄漏，确保运行过程中无滴漏现象，能安全运行PH值是一个关键指标，PH计要校验，确保PH值准确纯化水用量较大，提前制备1T左右纯化水，备用4.。

EDI清洗维护方案

EDI清洗维护方案一、系统的故障分析：二、膜组件的清洗警告：在进行任何清洗操作之前，请认真阅读和理解清洗方案。

注意：1. 装置的整个清洗过程约需要数个小时。

2. 清洗后膜组件必须进行再生（除清洗方案1外）。

再生时间约为16小时。

如果清洗后装置停机时间超过三天，必须按照长时间关闭的要求进行维护。

2.2 安全注意事项：1. 避免与NaOH ，过氧乙酸、H 2O 2以及HCl 这些药剂直接接触，该类药剂具有程度不同的腐蚀性，而H 2O 2还是一种强氧化剂。

2. 清洗时应控制管线的压力，以免压力过高引起化学药品喷溅。

3. 装置在较高电压下操作，在进行任何维修之前，确保整流器的动力电源被关闭，同时切断整流器输入电源。

警告：膜组件动力电源的正负极绝对不能接反，否则将引起膜组件的破坏事故。

2.3 化学清洗药剂的质量要求：NaCl 为分析纯（≥99.8%）。

过氧乙酸和30%的H 2O 2为分析纯。

HCl为ACS等级。

NaOH颗粒分析纯或40%隔膜碱溶液。

注意：用于清洗的NaCl溶液与系统加盐的NaCl的要求是不一样的。

3、清洗：3.1 清洗方案（1）：酸洗膜组件浓室的基本程序如下：✧清洗系统的准备。

✧在浓水循环系统中补充和循环酸性清洗溶液。

✧清洗浓水循环系统并且返回生产运行状态。

1、准备工作✧按操作手册中的关闭程序关闭系统，将整流器的手动开关置于OFF状态，以确保系统动力电源的关闭。

警告：膜组件系统在较高电压下操作，在进行任何清洗和维修之前必须保证整流器的动力电源关闭。

✧关闭系统淡室进水阀门。

警告：在关闭进水阀门之前，关闭进水泵或将进水引入旁通管线以避免进水管线或设备所承受的压力过高。

✧关闭系统下列阀门：淡室产水阀门淡室循环阀门浓水排放阀门✧关闭下列阀门关闭每组支路淡室的进、出口阀门关闭每组支路浓室的进、出口阀门✧将浓室的出口管线上的清洗接头与清洗罐接通。

✧将浓室的进口管线上的清洗接头与清洗系统设备管线相连接。

EDI设备的化学清洗及再生

EDI设备的化学清洗及再生EDI设备是应用在反渗透系统之后，取代传统的混床离子交换技术生产稳定的超纯水。

EDI模块的日常清洗及保养对于延长其使用寿命发挥着不可忽视的作用。

虽然EDI膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是随着设备运行时间的延展，EDI膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。

如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2 和较高的pH 值，将会加快沉淀的速度。

遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。

通常判断EDI 膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高45%。

2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。

3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。

4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。

膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：颗粒/胶体污堵；无机物污堵；有机物污堵；微生物污堵。

（EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗）详情如下：1、颗粒/胶体污堵进水颗粒度≥5μm 时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。

如果EDI膜块的进水不是直接由RO 产水端进入EDI 膜块，而是通过RO产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI 膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。

在组装EDI设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。

2、无机物污堵如果EDI 进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时,将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。

EDI污染判断及8种清洗方法全解析

设备的化学清洗及再生虽然EDI 膜块的进水条件在很大的程度上减少了膜块内部阻塞的机会，但是着设备运行时间的延展，EDI 膜块内部水道还是有可能产生阻塞，这主要是EDI进水中含有较多的溶质，在浓水室中形成盐的沉淀。

如果进水中含有大量的钙镁离子（硬度超过0.8ppm）、CO2 和较高的PH 值，将会加快沉淀的速度。

遇到这种情况，我们可以通过化学清洗的方法对EDI 膜块进行清洗，使之恢复到原来的技术特性。

通常判断EDI 膜块被污染堵塞可以从以下几个方面进行评估判定：1、在进水温度、流量不变的情况下，进水侧与产水侧的压差比原始数据升高45%。

2、在进水温度、流量不变的情况下，浓水进水侧与浓水排水侧的压差比原始数据升高45%。

3、在进水温度、流量及电导率不变的情况下，产水水质（电阻率）明显下降。

4、在进水温度、流量不变的情况下，浓水排水流量下降35%。

膜块堵塞的原因主要有下面几种形式：1、颗粒/ 胶体污堵2、无机物污堵3、有机物污堵4、微生物污堵EDI 清洗注意：在清洗或消毒之前请先选择合适的化学药剂并熟悉安全操作规程，切不可在组件电源没有切断的状态下进行化学清洗。

颗粒/ 胶体污堵进水颗粒度≥5μm 时会造成进水流道堵塞，引起膜块内部水流分布不均匀，从而导致膜块整体性能降低。

如果EDI 膜块的进水不是直接由RO 产水端进入EDI 膜块，而是通过RO产水箱经过增压泵供水，建议在进入EDI 膜块前端增设保安过滤器（≤0.2μm）。

在组装EDI 设备时，所有的连接管道系统应冲洗干净以预防管道内的颗粒杂质进入膜块。

无机物污堵如果EDI 进水含有较多的溶质且超出设计值或者回收率超过设计值时, 将导致浓水室和阴极室的结垢，生成盐类物质析出沉淀，通常结垢的类型为钙、镁离子生成的碳酸盐。

即便这类物质的浓度很小，接触时间也很短，但随着运行时间的累加，仍有发生结垢的可能，这种硬度结垢很容易通过酸洗去除。

按照方案 1 中的方法，使用低PH溶液在系统内部循环清洗，可以去除浓水室和阴极室的结垢。

超纯水系统EDI装置化学清洗及灭菌方法

超纯水系统EDI装置化学清洗及灭菌方法郭银明;李为;段宏锋;雷阳;马珮;方正兴【摘要】Contamination and blockage occur gradually in the electrodeionization (EDI) device of ultra-pure water systems,due to long-time running. As a result,the EDI device could not be operated normally and its service time could be shortened. The cleaning method and courses for contamination and blockage resulted from long-time running of the EDI device in a company have been collated and summarized. This essay provides reference for the management of ultra-pure water systems and chemical cleaning or sterilization maintenance of EDI device.%超纯水系统中的电去离子（EDI）装置由于长时间运行会逐渐出现污堵，导致EDI装置不能正常运行和使用寿命缩短。

通过对某公司EDI装置在长期运行下产生的污堵清洗方法和过程进行总结整理，为超纯水系统设备管理、EDI装置化学清洗及灭菌维护提供借鉴。

【期刊名称】《工业水处理》【年(卷),期】2014(000)005【总页数】4页(P93-95,96)【关键词】电去离子技术(EDI);化学清洗;灭菌【作者】郭银明;李为;段宏锋;雷阳;马珮;方正兴【作者单位】陕西天宏硅材料有限责任公司，陕西咸阳712038;陕西天宏硅材料有限责任公司，陕西咸阳712038;上海水合环境工程有限公司，上海200011;上海水合环境工程有限公司，上海200011;陕西天宏硅材料有限责任公司，陕西咸阳712038;陕西天宏硅材料有限责任公司，陕西咸阳712038【正文语种】中文【中图分类】X703电去离子技术（EDI）是将电渗析技术与离子交换技术有机地结合在一起的膜分离脱盐技术，具有连续出水、无需酸碱再生等优点，被广泛地用于电子、电力、光伏、医药、化工等行业的纯水制备环节。

edi化学清洗流程

edi化学清洗流程EDI化学清洗流程一、引言化学清洗是指通过化学反应来去除或分解杂质、污染物等的过程。

EDI（Electrodeionization）即电极离子交换技术，是一种通过电场作用将水中的离子从水溶液中分离出来的技术，常用于水质处理和纯化过程中。

本文将介绍EDI化学清洗流程的具体步骤和注意事项。

二、EDI化学清洗流程1. 准备工作在进行EDI化学清洗前，需要进行一些准备工作。

首先，需要关闭EDI设备的进水和出水阀门，并将电源断开。

接着，需要排空EDI 设备中的水，并清除设备内可能存在的杂质和污染物。

此外，还需要检查EDI设备的运行状态和相关设备的连接情况，确保设备正常运行。

2. 制备清洗液制备清洗液是进行EDI化学清洗的关键步骤。

清洗液的配制需要根据具体的清洗目的和污染物种类来确定。

常用的清洗液包括酸性清洗液、碱性清洗液和氧化剂清洗液等。

在配制清洗液时，需要按照一定的比例将清洗剂和纯水混合，同时注意搅拌均匀，以确保清洗液的浓度和均匀性。

3. 清洗过程进行EDI化学清洗时，需要按照一定的步骤进行操作。

首先，将制备好的清洗液注入EDI设备中，并确保液位覆盖清洗膜。

接着，打开EDI设备的进水阀门，让清洗液均匀地流过清洗膜，进行清洗作用。

清洗时间的长短可以根据实际情况进行调整，一般建议清洗时间为1-2小时。

4. 清洗后处理清洗结束后，需要对EDI设备进行后续处理。

首先，关闭EDI设备的进水阀门，将清洗液排出。

然后，打开EDI设备的出水阀门，用纯水进行冲洗，以去除残留的清洗剂和杂质。

冲洗时间一般为30分钟左右。

最后，关闭EDI设备的出水阀门，并将电源接通，使设备恢复正常运行。

5. 检测和验证进行EDI化学清洗后，需要对清洗效果进行检测和验证。

常用的检测方法包括测量EDI设备的产水质量、测量设备的电导率和pH值等。

通过对清洗后的水质进行分析，可以评估清洗效果是否达到预期的要求。

如果清洗效果不理想，可以根据实际情况进行调整和再次清洗。