曝光原理与曝光机介绍高启清

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曝光原理与曝光机

曝光原理与曝光机曝光原理是指在摄影中，通过适当的光线照射在感光材料上，使其暴露于光线下，从而形成影像的过程。

在摄影中，曝光是指控制光线进入相机，照射到感光材料上的过程。

曝光的主要目的是控制图像的亮度、对比度和色彩等参数，从而获得所需的影像效果。

曝光原理有三个基本要素：光圈、快门速度和感光度。

其中，光圈是相机镜头内能够控制的光线进入量的大小。

光圈的大小由光圈值表示，一般用"F数"来表示。

快门速度是相机内部控制快门的开关打开与关闭时间的长短，一般用秒为单位表示。

而感光度则是指感光材料对光线敏感的程度，一般用ISO值表示。

曝光机是实现曝光原理的设备，用于控制光线的进入量。

常见的曝光机包括相机、曝光仪、灯具等。

不同类型的曝光机有不同的功能和操作方式。

在摄影中，在确定了所要拍摄的场景和主题后，摄影师需要根据所需的影像效果来决定曝光的参数。

首先是选择适当的光圈，根据拍摄对象和光线条件来调整光圈大小。

光圈越大，光线进入量越大，图像就会更亮；光圈越小，光线进入量越小，图像就会更暗。

其次是选择适当的快门速度，根据拍摄对象的运动状态来决定快门速度的长短。

快门速度越快，快门打开时间越短，图像就会更清晰；快门速度越慢，快门打开时间越长，图像就会更模糊。

最后是选择适当的感光度，根据光线条件来调整感光度的大小。

感光度越高，图像就会更亮，但同时也容易产生噪点；感光度越低，图像就会更暗，但同时也会减少噪点。

总之，曝光原理是摄影中非常重要的基础知识，掌握曝光原理和曝光机的使用方法，能够帮助摄影师更好地控制光线，并获得所需的影像效果。

曝光原理与曝光机介绍

根据需要更换曝光机的过滤网，以保持空气流通和防止灰尘进入。
定期保养
按照制造商的推荐，定期对曝光机进行全面的保养和维护，以保证其正常运行和使用寿命
。
曝光机常见故障及排除方法
原稿不曝光
检查原稿是否放置平整，确保无遮挡；检查曝光机的光源是否正常工作。
曝光过度或不足
调整曝光机的曝光参数，根据原稿的材质和厚度等因素进行适当调整。
量。
通过合理的曝光控制，可以获得具有高分辨率、高对比度和高色彩还原度的图像或
文字。
在科学研究和技术应用中，曝光原理也具有广泛的应用，如生物显微成像、天文观测和微
电子制造等。
曝光原理的应用领域
摄影
在摄影中，曝光原理用于将景物转化为照片，通过调整曝光时间和光圈大小等参数，可以获得不同效果的照片。
ERA
曝光机的结构
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0紫外灯、激光等。
反射镜和透镜系统
控制光束的方向和聚焦，确保光束准确投射到掩模版上。
掩模版
承载电路图形，使光束通过或阻挡。
工作台
承载硅片或玻璃基板，进行精确的平移和旋转。
曝光机的工作原理
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光源发出的光束经过反射镜和透镜系统的控制，投射到掩模
设置曝光参数
根据原稿的材质、厚度等因素，调整曝光机的曝光时间和光源亮度等参数。
取出原稿
曝光完成后，取出原稿，注意避免触碰原稿表面，以免影响曝光效果。
曝光机的维护保养
清洁机身
定期使用干燥的软布擦拭曝光机表面，保持机身清洁。
检查光源
定期检查曝光机的光源是否正常，如有损坏应及时更换。

《曝光机要点技术》课件

详细描述
机械故障表现为运动部件异常、卡滞或磨损；电路故障表现为电源故障、传感器故障或控制电路故障；软件故障表现为程序崩溃、数据传输错误或系统更新失败。解决方案包括定期维护保养、检查更换损坏部件、修复电路故障和更新软件系统等。
总结词
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CHAPTER
曝光机维护与保养
每天使用柔软的干布擦拭曝光机表面，保持清洁。
详细描述
高精度和高分辨率的曝光机需要采用先进的曝光技术，如光学曝光、电子束曝光等，同时还需要采用精密的制造工艺，如超精密加工、纳米加工等，以确保设备的稳定性和可靠性。
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总结词：高效能和稳定性是曝光机发展的另一个重要趋势。详细描述：高效能的曝光机能够提高生产效率，降低生产成本，而高稳定性的曝光机能够保证设备的长期可靠运行，减少维护和维修成本。为了实现高效能和稳定性，需要采用先进的控制系统和精密的部件。总结词：高效的控制系统能够实现快速、准确的运动控制和精密的定位控制。详细描述：先进的控制系统能够实现快速、准确的运动控制和精密的定位控制，从而提高设备的加工效率和精度。同时，高效的控制系统还能够实现设备的自动化和智能化，进一步提高设备的生产效率和稳定性。
总结词：智能化和自动化已经成为现代曝光机的重要特征。详细描述：智能化和自动化的曝光机能够实现自动化加工、智能化检测和故障诊断等功能，从而提高设备的生产效率和可靠性。智能化和自动化的曝光机还能够减少人工干预，降低人为因素对设备精度和稳定性的影响。总结词：为了实现智能化和自动化，需要采用先进的人工智能技术和传感器技术。详细描述：先进的人工智能技术能够实现设备的自适应控制和自主学习，从而提高设备的智能化水平。传感器技术则能够实现设备的实时监测和故障预警，进一步提高设备的可靠性和稳定性。

曝光机原理

曝光机原理曝光机是一种用于从曝光时间到连续曝光操作的仪器，常被利用用于摄影、印刷图像处理、电动设备等领域。

它主要由控制器、曝光裁剪器、光源和视觉显示器组成，它可以实现对图像的预处理、层次化处理和组合处理，使对曝光时间、光强、颜色等参数的控制更加精确准确，并且可以根据物理现象的特点自动调整曝光参数，从而实现在摄影、印刷中较好的图像效果和高精度的印刷产品。

究其根本，曝光机的原理是控制图像的曝光时间，以达到控制图像的明暗度和对比度的目的，进而决定图像的效果。

曝光机是一种时间控制装置，其作用是控制照片曝光时间，使曝光时间与控制装置中设定的值保持一致，从而实现摄影图像质量的合理控制。

曝光机的主要原理是控制曝光时间，它在控制中心的控制下，通过检测光控制器的曝光裁剪信号，将曝光时间控制到指定的精度，从而实现对光强、颜色和图像明暗度的精确控制。

曝光机可以根据物理现象的特点自动调整曝光参数，从而获得更好的图像效果和高精度的印刷产品；同时它还能实现对图像的预处理、层次化处理和组合处理，使曝光时间、光强、颜色等参数更加精确准确。

曝光机可以用于摄影、印刷图像处理、电动设备等多种领域，在这些领域中，曝光机的使用给日常生活和工作等方面带来了很多便利，也为摄影、印刷等方面的实现更好的成果带来了极大的帮助。

曝光机的主要原理是控制曝光时间，它可以实现对图像的预处理、层次化处理和组合处理，从而使曝光时间、光强、颜色等参数更加精确准确，使摄影、印刷图像更加准确、美观，从而获得更好的图像效果和高精度的印刷产品。

它可以自动调整曝光参数和控制图像的明暗度和对比度，为复杂的高精度图像处理提供了有力的支持，可以为摄影、印刷等方面所需做出更好的贡献。

总之，曝光机是一种具有很强功能的控制装置，它可以对图像的曝光时间、光强、颜色等参数进行精确的控制，为摄影、印刷等领域提供了便利，也使得更复杂多变的摄影、印刷效果更加准确和美观。

曝光

B.平行光光路图
1. 設備外觀
设备组成
灯泡及灯罩
反射镜
光线整合器
平行光反射镜
曝光光线走势简易图
球面反射镜灯反射镜
复眼绿油冷光镜 Panel
补充：曝光对位方法、均勻性、曝光尺的应用补充：曝光对位方法、均勻性、对位方法 1.曝光对位有两种方法：安分法、MMD 曝光对位有两种方法安分法、
曝光培训资料
2011.08.20 苏春齐
学习项目
一、曝光目的二、曝光流程三、曝光原理四、SOP(Standard
operation process)即作
业标准书
•
、
光：光连锁，碱。
焊，
线，时焊
∗ 简言之
♣ 目的：影像转移 ♣ 主要设备：曝光机 ♣ 制程要点： A 曝光机的选择 B 能量管理 C
平行光
非平行光
油墨
5
根据波的长短及波源的不同，电磁波谱可大致分为：
（1）无线电波——波长从几千米到0.3米左右，一般的电视和无线电广播的波段就是用这种波；（2）微波——波长从0.3米到10-3米，这些波多用在雷达或其它通讯系统；（3）红外线——波长从10-3米到7.8×10-7米；红外线的热效应特别显著；（4）可见光——这是人们所能感光的极狭窄的一个波段。可见光的波长范围很窄，大约在 7600 ～4000（在光谱学中常采用埃作长度单位来表示波长，1＝10－8厘米）、从可见光向两边扩展，波长比它长的称为红外线，波长大约从7600直到十分之几毫米。波长从（78～3.8） ×10-6厘米。光是原子或分子内的电子运动状态改变时所发出的电磁波。由于它是我们能够直接感受而察觉的电磁波极少的那一部分；（5）紫外线——波长比可见光短的称为紫外线，它的波长从3×10-7米到6×10-10米，它有显著的化学效应和荧光效应。这种波产生的原因和光波类似，常常在放电时发出。由于它的能量和一般化学反应所牵涉的能量大小相当，因此紫外光的化学效应最强；红外线和紫外线都是人类看不见的，只能利用特殊的仪器来探测。无论是可见光、红外线或紫外线，它们都是由原子或分子等微观客体激发的。近年来，一方面由于超短波无线电技术的发展，无线电波的范围不断朝波长更短的方向发展；另一方面由于红外技术的发展，红外线的范围不断朝波长更长的方向扩展。日前超短波和红外线的分界已不存在，其范围有一定的重叠。

AMOLED与LCD都需要的核心工艺设备曝光机，有几个了解这么多……

AMOLED与LCD都需要的核心工艺设备曝光机，有几个了解这么多……一般光刻在显示领域主要在TFT和CF制程上，光刻的流程分为：上光阻→曝光→显影→显影后检查→CD量测→Overlay量测。

而在整个流程中，今天OLEDindustry 重心来讲讲曝光这段核心工艺及其设备。

曝光，简单点说，就是通过光照射光阻，使其感光。

然后通过显影工艺将曝光完成后的图形处理，以将图形清晰的显现出来的过程。

而整个光刻工艺，则是将图形从光罩上成象到光阻上的过程。

曝光机的原理谈到曝光，那必不可少就要谈到曝光机。

目前大部分曝光设备采用的是非接触式曝光。

原理是紫外光经过MASK对涂有光刻胶的ITO 玻璃曝光，曝光后的玻璃经显影产生与mask板相同的图案。

在曝光显影时, 其曝光系统有一个基本的关系:其中R为最小特征值, 即分辨率的最小距离。

k1 为常熟(瑞利常数)。

λ为曝光光源波长。

NA为透镜的数值孔径, 是光罩对透镜张开的角度的正玹值。

该值最大是1; 先进的曝光机的NA 在0.5 ~ 0.85之间。

可见为了减小最小特征尺寸, 则必须减小曝光光源波长和提高NA值。

ASML最新推出的EUV光刻胶, 可以把波长虽短到13.5 nm。

但是整个光刻活动都在真空环境, 则生产速率较低。

如果采取x-ray。

虽然x-ray波长只有4 ~ 50 , 但是因为其能穿透大部分掩模版切对应光刻胶开发难度较大, 该技术一直没有被采用。

为了在不改变曝光系统的前提下提高NA而改善R值, 可采取的方法有:（1）改变接近式曝光机中镜头和光刻胶的介质, 将其从空气换成其他材料。

通过该方式改变NA值可以是的193 nm技术在满足45 nm工艺节点制程要求的同时, 进一步提高到28 nm制程。

（2）如果将接近式配合二重曝光相想结合, 可以进一步将制程节点缩小到22 nm, 且工艺节点缩小到10 nm。

显示制造中的曝光技术在TFT-LCD的生产中, 根据制作原件的不同其采取的曝光方式也不相同:CF: 主要采取接近式曝光, 其掩模板与基板间距为10 μm左右。

曝光机要点技术概述

曝光机要点技术概述曝光机是一种用于制作印刷品的设备，在印刷工业中起着至关重要的作用。

它通过将光线投射到印刷版上，使其暴露出图像或文字，并进行后续的印刷加工。

下面将从曝光机的原理、种类、主要技术参数、应用领域等方面进行详细的技术概述。

一、曝光机的原理曝光机的基本原理是利用光照射到印刷版上，使光敏材料发生化学反应，形成图像或文字。

曝光机通常由曝光光源、曝光台、曝光材料以及控制系统等组成。

在曝光过程中，光源会发射出特定波长的光线照射到印刷版上，使其上的光敏材料发生化学变化，它们可以是光敏胶版、屏幕印刷网版或直接接触印刷版等。

曝光机通过控制光源的强弱、时间和曝光方式等参数，来实现图像的精确控制和调节。

二、曝光机的种类根据曝光方式的不同，曝光机可以分为直接曝光机和间接曝光机两种。

直接曝光机是将光线直接照射到印刷版上，可以快速、高效地完成曝光过程。

而间接曝光机则需要通过间接介质来传递光线，如光学镜头或光纤传输，它一般用于对印刷版进行高精度、高分辨率的曝光。

三、曝光机的主要技术参数1. 曝光能量密度：曝光机能够提供的能量密度是评估其曝光效果的重要指标。

通常以焦耳/cm²为单位来表示。

2.曝光时间：曝光机的曝光时间是指光线照射到印刷版上的时间长度。

曝光时间的长短直接影响到图像的清晰度和分辨率。

3.曝光波长：曝光机可提供的光线波长范围，这对于不同的光敏材料是非常重要的。

4.分辨率：曝光机的分辨率指的是其能够生成的最小线宽或最小点尺寸。

分辨率越高，图像越细腻。

5.灰度范围：曝光机的灰度范围指的是图像可以表示的不同灰度级别的数量。

灰度范围越大，图像显示的层次感越丰富。

四、曝光机的应用领域曝光机在印刷工业中应用广泛，特别是在平面印刷、丝网印刷、数字印刷和印刷制版等方面。

它在电子行业中也有重要的应用，如PCB印刷电路板的制作，碳膜电阻的曝光制造等。

总之，曝光机作为印刷行业的重要设备，其技术概述涵盖了曝光机的原理、种类、主要技术参数和应用领域。

曝光原理与曝光机介绍

曝光原理与曝光机介绍曝光是摄影的基本概念之一，在摄影中起到至关重要的作用，可决定照片的亮度、对比度和色彩饱和度等要素。

曝光正确与否直接关系到照片的质量和效果。

而曝光机作为曝光的工具，主要用于控制摄影过程中的曝光时间和光源强度，从而影响照片的曝光效果。

在本文中，将详细介绍曝光原理以及常见的曝光机。

曝光原理曝光是指在摄影过程中，将胶片或数码传感器通过光线暴露于光源下的时间长度。

曝光时间的长短直接影响到照片的明暗程度，时间越长，照片越亮；时间越短，照片越暗。

曝光强度则与光线的强弱有关，光线越强，照片越亮；光线越弱，照片越暗。

因此，在摄影过程中，通过调整曝光时间和光源强度，可以控制照片的明暗程度，从而获得理想的曝光效果。

曝光机介绍曝光机是用于控制曝光时间和光源强度的设备。

它可以通过机械或电子的方式控制曝光时间和光源强度的变化，使得摄影过程中得到准确的曝光效果。

以下是一些常见的曝光机：1.快门曝光机快门曝光机是最基本的曝光控制设备之一、它通过控制快门的开闭时间来控制曝光时间的长短。

在摄影机中，快门是一块位于镜头前方的遮光板，通过快门机构的机械开关控制曝光时间。

快门曝光机既可以手动控制曝光时间，也可以通过自动曝光系统来自动调节曝光时间。

2.光源控制装置光源控制装置是一种用来控制光线强度的曝光机。

它主要通过控制光源的强度来调节曝光效果，常见的光源控制装置有补光灯和闪光灯。

补光灯可以通过增加光源的亮度来提高照片的曝光度，特别适用于低光环境下的拍摄。

而闪光灯则是利用电容器储存电能，通过放电来产生强光，达到照亮拍摄对象的目的。

3.自动曝光系统自动曝光系统是现代摄影中常用的曝光机。

它通过内置的光电测光器采集背景光线强度，并根据选择的曝光模式自动调节快门速度和光源强度，使得照片的曝光效果符合预期。

常见的自动曝光模式包括光圈优先模式、快门优先模式和程序自动曝光模式。

总结曝光在摄影中是一个非常重要的概念，可以通过调整曝光时间和光源强度来控制照片的明暗程度。

曝光机的原理

曝光机的原理
曝光机是一种用于光刻制程的设备，其工作原理主要包括以下几个步骤：
1. 掩模对准：首先，在曝光机的工作台上放置所需曝光材料，如光刻胶涂层的硅片。

然后，将待曝光的掩模（通常由玻璃或石英制成）放置在硅片上，并确保掩模与硅片之间的对准精度。

2. 光源照射：曝光机会产生一束高能光源，如紫外光或激光光源。

这束光会经过光学系统的聚焦透镜，以获得更小的焦斑尺寸，并准确照射到掩模上。

3. 光束透射：经过掩模的光束会在透明区域透射，而在掩膜上的不透明区域则会遮挡光束。

4. 曝光材料反应：光刻胶等曝光材料会对光的能量做出反应。

在光束照射下，曝光材料会发生化学或物理上的变化，使其在暴露区域的特定区域上具有不同的物理或化学性质。

5. 光刻胶开发：经过曝光后，将硅片放入开发液中进行显影。

开发液将去除未曝光的部分光刻胶，从而只保留曝光区域的图案。

通过这个曝光机的工作原理，可以在硅片上制造出微细的光刻图案，用于制备微电子器件或光学元件等应用。

lcd曝光机工作原理

lcd曝光机工作原理嘿呀！今天咱们来好好聊聊LCD 曝光机的工作原理呢！首先呀，咱们得明白啥是LCD 曝光机。

LCD 曝光机呢，就是在LCD 制造过程中起着至关重要作用的一种设备。

哎呀呀，它的工作原理可不简单！这LCD 曝光机的核心部分就是光源系统啦。

哇，这光源可讲究着呢！通常采用的是高强度的紫外线光源，为啥要用这紫外线呀？因为它的能量高，能够引发特定的化学反应呀！在曝光过程中，LCD 基板会被精准地放置在特定的位置上。

哎呀，这个放置的精度要求那是相当高的！稍有偏差，可就会影响整个产品的质量呢。

接下来呢，光线会通过一系列的光学元件，比如说透镜、反射镜等等。

这些光学元件的作用可大啦！它们能够调整光线的传播方向和强度分布，确保光线均匀地照射在LCD 基板上。

还有哦，控制系统在这其中也扮演着重要的角色呢！它要精确地控制曝光的时间、强度和位置。

哎呀呀，这可就需要非常先进的技术和算法啦！再说说这个遮光系统。

为啥要有遮光系统呢？嘿嘿，就是为了在不需要曝光的区域进行遮挡，防止误曝光呀！这可是保证产品质量的关键一环。

当光线照射到LCD 基板上的光刻胶层时，会引发化学反应。

哇，这反应可神奇啦！光刻胶的性质会发生改变，从而在后续的工艺中能够实现图案的转移和制作。

而且呀，不同类型的LCD 曝光机，工作原理可能还会有一些细微的差别呢。

比如说，有的是接触式曝光，有的是非接触式曝光。

接触式曝光呢，就是光源和基板直接接触；非接触式曝光呢，则是通过一定的距离来进行曝光。

哎呀呀，总之，LCD 曝光机的工作原理涉及到众多的技术和环节，每一个环节都需要高度的精准和协调，才能保证最终生产出高质量的LCD 产品呀！再来深入讲讲这个光学元件的调整。

如果调整不好，光线的均匀性就会受到影响，那可就麻烦啦！比如说，透镜的焦距不对，或者反射镜的角度偏差一点点，都可能导致曝光效果大打折扣。

还有控制系统中的传感器，它们要实时监测各种参数，一旦发现有异常，就得赶紧发出警报或者自动调整，这可真是一点儿都不能马虎！说到这遮光系统的精度，也是至关重要的呢。

曝光基本知识与曝光机介绍(高启清)

– 塗佈→預烤→曝光→顯像→UV硬化→後烘烤約1 mil厚，能量 400~600 mj/cm2
– 曝光時需抽真空使底片密貼板材並隔絕氧氣使聚合反應加速完成
各種 UV 曝光燈管
Long Arc: 水銀燈/金屬鹵化物燈 Short Arc:汞氙短弧燈
防焊曝光用/ 7, 8, 9, 10 Kw
平行光曝光用/ 3.5, 5, 8 Kw
玻璃
15695021 刮傷或過髒清潔無效時
迫緊
14390061 漏氣或老化時
MYLAR
B4100024 刮傷或過體清潔無效時
按鈕開關
依開關故障時更換
油水過濾濾心 53400008 一年或 2500 小時
手動曝光機操作畫面
HITECH
第一組: 上燈:
上框.
下燈:
上燈:
下框.
下燈:
設定值
＃＃＃＃＃＃＃＃＃＃＃＃
現在值
＃＃＃＃＃＃
＃＃＃＃＃＃
強度
＃＃＃＃＃＃＃＃＃＃＃＃
狀態指示區
F1
F2
F3
F4
F5
S/C
→
＋
－
平行光系統
散射光對曝光影響
平行半角與斜射角
積光器 (Integrator)
反射鏡 (Reflection Mirror)
平行光曝光系統
冷鏡 (Dichroic Mirror)
曝光照射面 (Exposure Surface)
Polymer
Developing
聚合/交聯
Na2CO3
Polymerization / Cross Linking
• PI + h PI*
• ITX + h ITX*

曝光原理与曝光机

能量對光阻聚合影響
起始階段
部分聚合階段
完全聚合階段
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曝光能量與最佳解析度關係
• 以乾膜曝光而言，為得到最佳乾膜解析能力，曝光能量約有10% 的容許區間，這也是對能量均勻度的基本要求 • 當線路愈細及線寬公差要求愈嚴時，對均勻度的要求應更嚴格
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曝光方式與吸真空
– 光阻(乾膜/濕膜)→曝光聚合(UV)→顯像(碳酸鈉)
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光阻反應機構
• Sensitizer 光敏劑
– 接受初始能量, 啟動反應 (搖旗吶喊)
• Photoinitiator 感光起始劑
– 接受, 產生自由基, 抓Monomer, 連鎖反應形成聚合物 – 對 320~380 nm 波長敏感
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曝光對乾膜結構的變化
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線路曝光作業的考量因素
• 反應特性 • 作業要求
– 聚合反應速率與配方、 – 提高光阻與銅面附著力塗佈厚度、UV照度及 – 曝光顯像後光阻側壁垂直且 UV光源發射光譜分佈殘足短等有關。 • 達到最佳光阻解析能力 – 聚合反應中能量的累積 – 曝光能量↓ 時，解析度↑ 是持續性的，反應開始 – 曝光能量↑時，聚合效果及抗後如因故UV照射受干化性↑ 擾而中斷時，將導致反應不完全。 – 達到光阻最佳工作區間 →準確的能量控制 – 聚合反應中應儘量隔絕氧氣的接觸，因氧的活 – Off Contact↑時，解析度↓ → 性大，會抑制其它自由提高底片與板面真空密貼程基的聯結，降低聚合反度應速率。 11/50
• 板厚/孔徑 • 鑽孔, 電鍍能力
– 孔間距
• 100 mil = 2.54 mm • 50 mil = 1.27 mm

曝光原理与曝光机

• 無電極點光源
– Microwave 激發 UV 燈
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各種 UV 曝光燈管
Long Arc: 水銀燈/金屬鹵化物燈 Short Arc:汞氙短弧燈
防焊曝光用/ 7, 8, 9, 10 Kw
平行光曝光用/ 3.5, 5, 8 Kw
Capillary: 毛細燈線路曝光用/ 3, 5 Kw
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銅箔基板
前處理黑/棕氧化前處理
裁板
乾膜貼合疊板壓合乾膜貼合
磨邊導角內層曝光
鑽孔
外層曝光
內層顯像去毛邊外層顯像
內層蝕刻除膠渣鍍二次銅
內層剝膜化學鍍銅鍍錫鉛
內層AOI 鍍一次銅外層剝膜
典型多層板製程
Multi-Layer Process
外層蝕刻剝錫鉛外層AOI
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前處理
– 塗佈→預烤→曝光→顯像→後烘烤→UV硬化約0.8 mil厚，能量 400~600 mj/cm2
– 曝光時需抽真空使底片密貼板材並隔絕氧氣使聚合反應加速完成
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光阻曝光原理
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曝光原理及製程
• 光阻聚合
365nm
• 製程
G-line: 436 nm H-line: 405 nm I-line: 365 nm
0.38mm, 1/1: 17.8 mil – 7628: 7.0 mil – 1080: 2.5 mil – L6 - 1/2 oz, 0.7 mil
– Total = 64 mil = 1.6 mm
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多層板製程示意
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基板處理內層製程壓合鑽孔鍍銅外層製程
防焊製程表面處理檢驗成型

玻璃曝光机工作原理

玻璃曝光机工作原理哎，说起这玻璃曝光机，它可真是个高科技的小能手，咱们得用大白话聊聊它是怎么工作的，就像咱们聊家常一样。

想象一下，你手里拿着一块晶莹剔透的玻璃，就像那清晨露珠滑过的荷叶，干净又透亮。

但这玻璃啊，它不只是好看，还得有点“内涵”，得在上面印上点啥图案或者线路，这时候，玻璃曝光机就闪亮登场了！这家伙，长得挺有科技感，一堆按钮、屏幕，还有那么几个神秘兮兮的光源。

它工作起来，那叫一个“悄无声息，却暗藏玄机”。

首先，它得给玻璃穿上件“隐形衣”，这层衣服啊，其实是感光材料，特别敏感，见不得光。

然后，好戏开场了！玻璃曝光机就像个精准的画家，手里拿的不是画笔，而是那神奇的光源。

它对准玻璃上的“隐形衣”，一束束光线精准地打在需要曝光的地方，就像是阳光透过树叶的缝隙，斑驳地照在地上。

但这光啊，比阳光可厉害多了，它能让“隐形衣”在特定的地方发生“化学反应”，变得不再隐形，露出了底下的玻璃。

这个过程，就像是给玻璃做了一次“光疗SPA”，只不过这SPA不是让人放松的，而是让玻璃变得更有“内涵”。

曝光完成后，再经过一系列的冲洗、显影，那些图案、线路就像变魔术一样，出现在了玻璃上，清晰又精准。

说起来简单，但这背后的技术可是相当复杂。

得精确控制光源的强度、角度，还得考虑感光材料的特性、环境的温湿度等等。

就像是咱们做菜，火候、调料都得恰到好处，才能做出美味佳肴。

所以啊，这玻璃曝光机，就像是咱们生活中的“魔术师”，用光和影的魔法，在玻璃上创造出无限可能。

它让玻璃不再只是冷冰冰的建筑材料，而是变成了可以讲述故事、传递信息的艺术品。

每次看到那些经过曝光机处理的玻璃，我都忍不住要感叹一句：“这技术，真是绝了！”它让咱们的生活变得更加丰富多彩，也让这个世界变得更加神奇和有趣。

曝光机原理

曝光机原理
曝光机是一种用于制作电子电路板的设备，它可以将电子电路图形转换成可以曝光在基板上的图案。

它是电子电路板制造工艺中的关键组成部分，是制作电子电路板的重要工具。

曝光机的工作原理是将电子电路图形转换成可以曝光在基板上的图案，然后通过光源投射到基板上，使基板上的光敏胶片发生变化，从而完成曝光。

曝光机的结构主要由曝光头、曝光箱、操作控制系统和电源等组成，其中曝光头是曝光机的核心部分，它将电路图形转换成可以曝光在基板上的图案。

曝光箱用来放置光敏胶片，控制系统用于控制曝光机的工作状态，电源则为曝光机提供电源。

曝光机的工作过程主要分为以下几个步骤：
1、准备工作：首先，将电子电路图形转换成可以曝光在基板上的图案，然后将图案放置在曝光头上，并将光敏胶片放置在曝光箱中。

2、曝光：将曝光头上的图案投射到光敏胶片上，使其发生变化，从而完成曝光。

3、检查：检查曝光后的光敏胶片，确保它们没有发生任何变化，以保证曝光的准确性。

4、清洗：清洗曝光后的光敏胶片，以确保它们在下一次曝光过程中不会受到任何污染。

曝光机是电子电路板制造工艺中的关键组成部分，它可以将电子电路图形转换成可以曝光在基板上的图案，从而完成曝光，使电子电路板的制作更加精确，更加可靠。

数码相机曝光原理

数码相机曝光原理数码相机曝光原理是指在拍摄照片时，相机感光元件对光线的接收和记录过程。

正确的曝光是获得优质照片的关键之一，因此了解数码相机曝光原理对于摄影爱好者至关重要。

一、感光元件数码相机的感光元件是记录图像的重要组成部分。

常见的感光元件有两种类型：CCD（Charge-Coupled Device，耦合光电器件）和CMOS （Complementary Metal-Oxide-Semiconductor，互补金属氧化物半导体）。

CCD感光元件是一种以模拟信号形式记录图像的技术，具有较高的图像质量和灵敏度，但功耗较高。

CMOS感光元件则是以数字信号形式记录图像的技术，具有功耗低、集成度高等优势。

二、光圈光圈是控制相机镜头进光量的设备。

它是由一系列可移动的金属叶片组成，通过调节光圈大小来控制进光量的多少。

光圈的大小用F值表示，F值越小，光圈越大，进光量就越多。

在曝光原理中，光圈大小与曝光的亮度直接相关，因为更大的光圈能够使更多的光线通过镜头进入相机，从而提高曝光亮度。

三、快门速度快门速度是指感光元件暴露在光线下的时间长短，通常以秒（s）来表示。

较快的快门速度用于拍摄运动物体，可以冻结物体的运动；较慢的快门速度则用于拍摄夜景或需要捕捉物体轨迹的场景。

快门速度与曝光时间成反比关系，即快门速度越快，曝光时间就越短，进而得到更清晰的图像。

四、ISO感光度ISO感光度是指感光元件对光线敏感程度的度量，通常用ISO数字来表示。

增加ISO值可以提高相机的感光度，从而在低光条件下拍摄更明亮的照片。

然而，增加ISO感光度也会引入噪点和图像细节的丢失。

因此，在拍摄时需要根据实际情况合理调整ISO值，以平衡亮度和图像质量。

五、曝光补偿曝光补偿是指通过调整相机曝光参数来改变图像亮度的技术。

这是非常有用的功能，尤其在拍摄高对比度场景或者特殊光照条件下。

通过增加曝光补偿值，可以使整体图像变亮；减少曝光补偿值，则可以使整体图像变暗。