pn结电容

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pn结势垒电容和扩散电容的形成机理和特点

pn结势垒电容和扩散电容的形成机理和特点

标题:pn结势垒电容和扩散电容的形成机理和特点1. 引言在半导体器件中,pn结势垒电容和扩散电容是两种常见的电容器件,它们的形成机理和特点对于理解半导体器件的工作原理和性能具有重要意义。

本文将对pn结势垒电容和扩散电容的形成机理和特点进行深入探讨,希望能够对读者有所帮助。

2. pn结势垒电容的形成机理和特点2.1 pn结势垒电容的形成机理pn结势垒电容是由pn结两侧的正负电荷形成的电场所形成的电容。

当在pn结两侧施加外加电压时,电场强度会发生变化,从而改变pn结两侧的空间电荷分布,从而改变pn结势垒的宽度和深度,进而改变电容的大小。

2.2 pn结势垒电容的特点pn结势垒电容具有电压响应快、频率响应宽、线性范围广等特点,适用于高频信号处理等场景。

pn结势垒电容的制作工艺相对简单,成本较低。

3. 扩散电容的形成机理和特点3.1 扩散电容的形成机理扩散电容是由扩散区的载流子浓度差所形成的电场所形成的电容。

当在扩散区施加外加电压时,电场强度会受到改变,从而影响扩散区内的载流子浓度分布,从而改变电容的大小。

3.2 扩散电容的特点扩散电容具有面积大、电容值相对稳定等特点,适用于集成电路中的存储电容等场景。

但是扩散电容的制作工艺相对复杂,成本较高。

4. 回顾与总结从上述可知,pn结势垒电容和扩散电容分别由不同的形成机理所决定,具有不同的特点和适用场景。

在实际的半导体器件设计中,需要根据具体的应用场景和要求来选择合适的电容器件,从而发挥其最佳的性能和效果。

个人观点与理解在半导体器件的设计中,除了了解pn结势垒电容和扩散电容等常见电容器件的形成机理和特点外,还需要结合具体的应用场景和要求进行综合考虑,从而选择最合适的电容器件,以确保器件的性能和可靠性。

随着半导体技术的不断发展,对电容器件的制作工艺和性能要求也在不断提高,希望未来能够有更多高性能、高可靠性的电容器件应用于各种领域,推动半导体器件的发展和创新。

结语本文通过对pn结势垒电容和扩散电容的形成机理和特点进行全面评估,深入探讨了其在半导体器件中的重要性和作用。

PN结——电容特性优秀课件

PN结——电容特性优秀课件

的电子电流一定;半导体流向金

属的电子电流因电位增加而降低,
故有半导体→金属反向电流(恒
定)。
金属半导体接触I-U特性类似于pn结的伏安特性
I
正向特性
VD
反向特性
肖特基二极管
利用金属—半导体整流接触特性制成的二极管称 为肖特基二极管。
肖特基二极管与pn二极管的比较
相同:单向导电性 不同:
1 反向电流产生机制不同: ➢肖特基二极管为多数载流子工作 ➢pn接面二极管为少数载流子工作 ➢结果:肖特基二极管的饱和电流要 大得多,起始电流也较大。
P
△U变化时,P区 积累的非平衡少 子浓度分布图
3 1
2
电子浓度
1 ΔU=0
2 ΔU<0
x 3 ΔU>0
U ΔU
N
+ +
+ +
....................................
. ..
.
.
P
PN结正向偏置电压越高,积累的非平衡少子越多。
这种电容效应用扩散电容CD表征。
CD Q U
PN结正偏时,由N区扩 散到P区的电子(非平衡少 子),堆积在 P 区内紧靠 PN结的附近,到远离交界 面处,形成一定的浓度梯 度分布曲线。电压增大, 正向(扩散)电流增大。
扩散电容示意图
U ΔU
N
+ +
+ +
....................................
. . .
..
C1 L
Байду номын сангаасDC
R
+ UD –

模电课件04第一章PN结电容

模电课件04第一章PN结电容
从而实现整流作用。
整流器广泛应用于各种电子设备 和电源供应系统中,如电源适配
器、充电器等。
放大器的运用
放大器是利用PN结的放大效应来实现信号放大的电子元件。
在放大器中,PN结电容的作用是控制信号的放大倍数和频率响应,从而 实现信号的放大。
放大器广泛应用于各种电子设备和系统中,如音频放大器、射频放大器 等。
PN结电容的物理意义
PN结电容反映了PN结两端电压与结 区内电荷分布之间的关系。
它对于理解半导体器件的工作原理、 分析电路性能以及设计新型器件具有 重要的意义。
PN结电容的特性
PN结电容具有非线性特性,即 在不同偏置电压下,PN结电容
的数值会发生变化。
PN结电容与温度密切相关,温 度的变化会影响PN结电容的大
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感谢您的观看
随着电子技术的不断发展,PN结电 容的应用范围越来越广泛,对其性能 的要求也越来越高。
为了满足不断增长的性能需求,PN 结电容的研究和开发也在不断深入, 新型材料和制备工艺不断涌现。
未来,随着电子器件的小型化和集成 化,PN结电容的发展将更加注重微 型化、高精度和高稳定性等方面,以 满足不断变化的市场需求。同时,随 着人工智能和物联网等新兴技术的快 速发展,PN结电容的应用领域也将 得到进一步拓展。
电荷存储与PN结电容
电荷在PN结空间电荷区中的存储形成 了PN结电容。
PN结电容的大小与空间电荷区的宽度 和掺杂浓度有关。
当外加电压施加在PN结两端时,自建 电场和外加电场的共同作用使得空间 电荷区中的电荷发生移动,导致电容 的充放电。
影响PN结电容的因素
01
02
03
掺杂浓度

pn结的特性,PN结的击穿特性,PN结的电容特性

pn结的特性,PN结的击穿特性,PN结的电容特性

pn结的特性,PN结的击穿特性,PN结的电容特性
当反向电压增大到一定值时,PN 结的反向电流将随反向电压的增加而急剧增加,这种现象称为PN 结的击穿,反向电流急剧增加时所对应的电压称为反向击穿电压,如上图所示,PN 结的反向击穿有雪崩击穿和齐纳击穿两种。

1、雪崩击穿:阻挡层中的载流子漂移速度随内部电场的增强而相应加快到一
定程度时,其动能足以把束缚在共价键中的价电子碰撞出来,产生自由电子—空穴对新产生的载流子在强电场作用下,再去碰撞其它中性原子,又产生新的自由电子—空穴对,如此连锁反应,使阻挡层中的载流子数量急剧增加,象雪崩一样。

雪崩击穿发生在掺杂浓度较低的PN 结中,阻挡层宽,碰撞电离的机会较多,雪崩击穿的击穿电压高。

2、齐纳击穿:当PN 结两边掺杂浓度很高时,阻挡层很薄,不易产生碰撞电离,但当加不大的反向电压时,阻挡层中的电场很强,足以把中性原子中的价电子直接从共价键中拉出来,产生新的自由电子—空穴对,这个过程称为场致激发。

一般击穿电压在6V 以下是齐纳击穿,在6V 以上是雪崩击穿。

3、击穿电压的温度特性:温度升高后,晶格振动加剧,致使载流子运动的平均自由路程缩短,碰撞前动能减小,必须加大反向电压才能发生雪崩击穿具有正的温度系数,但温度升高,共价键中的价电子能量状态高,从而齐纳击穿电压随温度升高而降低,具有负的温度系数。

6V
左右两种击穿将会同时发生,击穿电压的温度系数趋于零。

4、稳压二极管:PN 结一旦击穿后,尽管反向电流急剧变化,但其端电压几乎不变(近似为V(BR),只要限制它的反向电流,PN 结就不会烧坏,利用这一特性可制成稳压二极管,其电路符号及伏安特性如上图所示:其主要参数有:VZ 、Izmin 、Iz 、Izmax。

PN结电容

PN结电容

扩散电容用符号CD表示
CD
UT
(I D IS )
τ是非平衡载流Q子N 的Q平P 均寿命,ID 是 正 向 电 流 。 上 式 说载明流C子D平与衡I浓D 成度 正比。CD比CT大,一般CD在数十x pF~0.正0偏1μPNF结范非围平内衡。少当子浓反度偏分时布, ID = -IS,故CD=0
3 变容二极管
CT(0) UD

-U+CT
变容管的压控特性曲线
变容管广泛应用于高频电路
变容管的电路符号
特殊二极管
1.光敏二极管
2 . 发光二极管
I/μA
光敏二极管的符号
-12 -8 -4
E=200lx E=400lx -50
UD / V
光电二极管的PN结特性曲线
反向电流与光照度E成正比关系
3. 激光二极管
发光二极管的符号 二极管型光电耦合器
UDU-ΔDUD
IS
2 扩散电容CD

P
N
可见,势垒电容可等效为一个极
板距离随外加电压变化的平行板 电容,极板距离就相当于空间电 荷区的宽度。
当 正 偏 电 压 UD 增 大 到 UD+ΔUD时
U+ΔU U
载流子浓度
相当于电容的充电
当外加正偏电压变化时,PN
ΔQN
ΔQP
结外扩散区内累积的非平衡
载流子数变化引起的电容效 应,称为扩散电容
发光二极管的符号
CT
当频率很高时
反如向果电使阻二r极d很管大反,偏反,偏这二时极CD管=0在高 频时可以当作电容器来使用,
CT
CT (0) (1 uD )
CT
U
变容二极管

pn结的结电容

pn结的结电容

pn结的结电容1. 什么是pn结pn结是一种半导体器件,由p型半导体和n型半导体通过扩散或合金形成的。

在p 型半导体中,电子浓度较低,空穴浓度较高;而在n型半导体中,电子浓度较高,空穴浓度较低。

当p型和n型半导体相接触时,形成了一个p-n结。

2. pn结的结电容原理pn结的两侧会形成一个空间电荷区(也称为耗尽层),这个区域没有可自由移动的载流子。

当对pn结施加正向偏置时,即将正极连接到p端、负极连接到n端,耗尽层会变窄。

这是因为正向偏置使得空穴从p端向n端移动,并与n端的电子复合,减小了耗尽层宽度。

在这种情况下,pn结就具有了一个等效的电容器特性。

这个电容器就是pn结的结电容。

3. 结电容的公式pn结的结电容可以通过以下公式计算:C = sqrt(2 * ε * ε0 * A / (q * Nd * (Vbi - V)))其中: - C 是 pn 结的等效结电容 - ε 是半导体的介电常数 - ε0 是真空的介电常数 - A 是 pn 结的交叉截面积 - q 是元电荷(1.6 x 10^-19 C) - Nd 是 n 型区域的杂质浓度 - Vbi 是内建电势(也称为势垒电压) - V 是施加在 pn 结上的偏置电压4. 结电容与偏置电压关系结电容与偏置电压之间存在着一定的关系。

当施加反向偏置时,pn结处于正向耗尽状态,结电容较大。

而当施加正向偏置时,pn结处于正向导通状态,结电容较小。

这是因为在正向耗尽状态下,耗尽层宽度较大,形成了一个较大的耗尽层容积。

而在正向导通状态下,耗尽层宽度减小,耗尽层容积也相应减小。

5. 结电容在实际应用中的作用结电容在半导体器件中起着重要作用。

以下是一些例子:5.1 反向恢复时间当一个二极管或晶体管由导通状态切换到截止状态时,需要一定时间来恢复到正常工作状态。

这个时间被称为反向恢复时间。

结电容是影响反向恢复时间的重要因素之一。

较大的结电容会导致较长的反向恢复时间。

5.2 高频特性结电容也会影响器件的高频特性。

PN结结电容

PN结结电容

PN结结电容
PN结:
1)在外加正向电压时,电压大小的变化,引起空间电荷区(耗尽层)宽窄的变化,即空间电荷区正负电荷多少的变化,类似于电容充放电时极板电荷的变化,这种电容效应称之为“势垒电容”,Cb。

受主原子施主原子变成带电离子的数量变化
当PN结加反向电压时,Cb明显随u的变化而变化,利用这一特性制成变容二极管。

2)在外加正向电压大小变化时,引起耗尽层载流子(少子)浓度及数量的变化,这种电容效应称之为“扩散电容”,Cd。

3)PN结电容Cj=Cb+Cd
结面积小的为1pF左右,结面积大的为几十至几百pF,对于低频信号呈现出很大的容抗,其作用可忽略不计,因而只有在高频时才考虑结电容的作用。

esd pn结电容 -回复

esd pn结电容 -回复

esd pn结电容-回复什么是ESD PN结电容?ESD PN结电容是一种特殊设计的电容器,用于保护电子设备免受静电放电(ESD)的损害。

静电放电是一种常见的现象,特别是在干燥的环境中,它会导致电子设备的瞬间能量过载,从而损坏设备或者破坏其正常工作。

ESD PN结电容是通过在正负电极之间加入PN结而实现的。

PN结是由掺入不同类型的半导体材料形成的结构,可以起到抑制静电放电的作用。

在ESD PN结电容中,PN结能够将静电放电的过电压分散和吸收,从而保护电子设备的关键元件。

ESD PN结电容的工作原理是什么?ESD PN结电容的工作原理基于PN结的特性。

PN结是由P型和N型半导体材料接触形成的。

P型半导体材料富含正电荷(空穴),而N型半导体材料富含负电荷(电子)。

当P型和N型材料接触时,形成了一个电势差,也就是PN结。

在正常情况下,PN结处于绝缘状态,即没有电流通过。

然而,当静电放电引起过电压时,PN结开始导电。

具体来说,当正极受到静电放电冲击时,电荷会积聚在PN结的P区域,在电场的作用下,电子会从N区域流向P区域,导致电流通过PN结,从而分散和吸收过电压。

PN结的导电能力可以通过控制其电阻和容量来实现。

ESD PN结电容通常具有较高的电容值,使得其可以吸收更多的电荷。

此外,掺杂和材料的选择也会影响ESD PN结电容的特性。

ESD PN结电容的应用领域和优势是什么?ESD PN结电容广泛应用于静电放电保护电路中,以保护电子设备的关键元件。

它的应用领域包括电脑、手机、家电、汽车电子等。

ESD PN结电容具有以下优势:1. 高容量:ESD PN结电容通常具有较高的电容值,可以吸收更多的电荷,提供更好的保护性能。

2. 快速响应:ESD PN结电容能够迅速分散和吸收静电放电的过电压,避免其对设备造成损害。

3. 低导通电阻:ESD PN结电容在绝缘状态下具有较高的电阻,不会对电路的正常工作造成影响。

4. 高可靠性:ESD PN结电容具有良好的耐久性和稳定性,能够长时间保护电子设备免受静电放电的损害。

pn结电容与电压关系

pn结电容与电压关系

pn结电容与电压关系以pn结电容与电压关系为题,我们来探讨一下这个有趣而重要的物理现象。

在电子学中,pn结是一个由p型半导体和n型半导体组成的结。

当p型半导体与n型半导体相接触时,形成了一个特殊的结构,即pn 结。

在这个结构中,p型半导体中的空穴会向n型半导体中的电子区域扩散,而n型半导体中的电子会向p型半导体中的空穴区域扩散。

这种扩散现象会导致pn结的两侧形成一个电荷分布区域,称为空间电荷区域。

根据电子学的理论,当在pn结两侧施加不同的电压时,空间电荷区域的宽度会发生变化。

而这个变化又会导致pn结的电容发生变化。

因此,pn结可以作为一个电容器来使用。

在没有外加电压时,pn结的电容很小,因为空间电荷区域的宽度很窄。

但是当施加正向偏置电压时,即将正电压连接到p型半导体,将负电压连接到n型半导体时,空间电荷区域会变窄,电容也会减小。

这是因为正向偏置电压会抵消掉空间电荷区域的电荷,使其变薄。

相反,当施加反向偏置电压时,即将负电压连接到p型半导体,将正电压连接到n型半导体时,空间电荷区域会变宽,电容也会增大。

这是因为反向偏置电压会增加空间电荷区域的电荷,使其变厚。

因此,我们可以得出结论:pn结的电容与施加的电压呈反比关系。

也就是说,当电压增大时,pn结的电容减小;当电压减小时,pn 结的电容增大。

这个结论在电子电路中有着重要的应用。

例如,在放大电路中,我们常常需要改变电容的大小来调节电路的增益。

通过控制pn结两侧的电压,我们可以改变pn结的电容,从而实现对电路增益的调节。

pn结电容还可以用于存储信息。

通过控制pn结两侧的电压,我们可以改变pn结的电容大小,从而实现对信息的存储和读取。

这在数字存储器和闪存等设备中有着广泛的应用。

总结起来,pn结电容与电压呈反比关系。

当施加正向偏置电压时,电容减小;当施加反向偏置电压时,电容增大。

这个现象在电子电路和存储器中有着重要的应用,对于我们理解和应用电子学知识具有重要意义。

PN结的电容效应

PN结的电容效应

P区 耗 尽 层 N 区 -
P 区中电子 浓度分布
N 区中空穴 浓度分布
极间电容(结电容)
Ln
Lp
x
电容效应在交流信号作用下才会明显表现出来
二者综合,表现为PN结的结电容
正偏:CD占主导,结电容较大 反偏:CB占主导,结电容较小
理解概念,高频电路涉及
PN结的电容效应

(1) 势垒电容CB
当外加电压发生变化时,耗尽层的宽度要相应 地随之改变,即PN结中存储的电荷量要随之变化, 就像电容充放电一样。
P 空间电荷区 N
--
++
--
++
-- ++
EW
R
(2) 扩散电容CD
当外加正向电压
不同时,PN结两 + 侧堆积的少子的 数量及浓度梯度 也不同,这就相 当电容的充放电 过程。

pn结电容曲线

pn结电容曲线

pn结电容曲线
pn结电容曲线是半导体物理中的一个重要概念,它描述了pn结两端电压与通过pn结的电流之间的关系。

在正向偏置时,pn结电容曲线表现为一个正斜率的直线,即随着电压的增加,电流也增加。

而在反向偏置时,pn结电容曲线表现为一个负斜率的直线,即随着电压的增加,电流反而减小。

pn结电容曲线对于理解半导体器件的工作原理具有重要意义。

在半导体器件中,pn结是基本的结构单元之一,它具有整流和开关等特性。

通过研究pn结电容曲线,可以了解半导体器件在不同工作状态下的行为和性能。

pn结电容曲线还可以用于描述半导体器件的频率响应和噪声特性。

在高频电路中,半导体器件的频率响应受到器件内部电容的影响。

而噪声则是半导体器件中存在的不稳定因素之一,它会对电路的性能产生不利影响。

因此,研究pn结电容曲线对于提高半导体器件的性能和稳定性具有重要意义。

pn结电容曲线是半导体物理中的一个重要概念,它对于理解半导体器件的工作原理、描述器件的频率响应和噪声特性具有重要意义。

PN结简介

PN结简介

PN结PN结(PN junction)。

采用不同的掺杂工艺,通过扩散作用,将P型半导体与N型半导体制作在同一块半导体(通常是硅或锗)基片上,在它们的交界面就形成空间电荷区称PN结。

PN结具有单向导电性。

P是positive的缩写,N是negative 的缩写,表明正荷子与负荷子起作用的特点。

一块单晶半导体中,一部分掺有受主杂质是P型半导体,另一部分掺有施主杂质是N型半导体时,P 型半导体和N型半导体的交界面附近的过渡区称为PN结。

PN结有同质结和异质结两种。

用同一种半导体材料制成的 PN 结叫同质结,由禁带宽度不同的两种半导体材料制成的PN结叫异质结。

PN结(PN junction)制造PN结的方法有合金法、扩散法、离子注入法和外延生长法等。

制造异质结通常采用外延生长法。

P型半导体(P指positive,带正电的):由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的三价元素组成,会在半导体内部形成带正电的空穴;N型半导体(N指negative,带负电的):由单晶硅通过特殊工艺掺入少量的五价元素组成,会在半导体内部形成带负电的自由电子。

在P型半导体中有许多带正电荷的空穴和带负电荷的电离杂质。

在电场的作用下,空穴是可以移动的,而电离杂质(离子)是固定不动的。

N 型半导体中有许多可动的负电子和固定的正离子。

当P型和N型半导体接触时,在界面附近空穴从P型半导体向N型半导体扩散,电子从N型半导体向P型半导体扩散。

空穴和电子相遇而复合,载流子消失。

因此在界面附近的结区中有一段距离缺少载流子,却有分布在空间的带电的固定离子,称为空间电荷区。

P 型半导体一边的空间电荷是负离子,N 型半导体一边的空间电荷是正离子。

正负离子在界面附近产生电场,这电场阻止载流子进一步扩散,达到平衡。

在PN结上外加一电压,如果P型一边接正极,N型一边接负极,电流便从P型一边流向N型一边,空穴和电子都向界面运动,使空间电荷区变窄,电流可以顺利通过。

如果N型一边接外加电压的正极,P型一边接负极,则空穴和电子都向远离界面的方向运动,使空间电荷区变宽,电流不能流过。

PN结电容:交流特性

PN结电容:交流特性

学习材料
48
光电二极管〔光伏型光电探测器〕
与光电池一样,都是利用了p-n结的 光生伏特效应.
通常,工作时加反向偏压--将光信号转 变成电信号.
学习材料
49
学习材料
50
发光二极管〔pn结电致发光〕
pn结加正向偏压,使系统处于 非平衡态--注入非平衡载流子,这 些非平衡载流子因复合而产生光辐 射.
C=dQ/dV
学习材料
11
扩散电容 CD
学习材料
12
扩散电容
正向偏压时,有空穴从P区注入N区。当正向偏压 增加时,由P区注入到N区的空穴增加,注入的空穴一 局部扩散走了,一局部则增加了N区的空穴累积,增加 了载流子的浓度梯度。
电子情况完全相同。 在外加电压变化时,N扩散区内累积的非平衡空穴 也增加,与它保持电中性的电子也相应增加。 P扩散区情况完全相同。 这种由于扩散区累积的电荷数量随外加电压的变化 所产生的电容效应,称为P-N结的扩散电容。用CD表示。
学习材料
52
学习材料
图10-29
53
发光二极管
下表列出了用来在 可见光与红外光谱 区产生光源的半导 体。
在所列出的半导 体材料中,对于可见 光LED而言,最重要 的 是 GaAs1-yPy 与 GaxIn1-xN合金的Ⅲ-V 族化合物系统。
学习材料
54
发光二极管
以下图是平面二极管架构的可见光LED的根本结构图。其中图 (a)的截面图是以砷化镓为衬底制造的发红光的直接禁带LED。
§3 PN结电容——交流特性
2.4 P-N结电容
P-N结有整流效应,但是它又包含着破坏整 流特性的寄生因素。这个因素就是P-N结的电容。
一个P-N结在低频电压下,能很好地起整流 作用,但是当交流电压频率增高时,其整流特性 变坏,甚至根本上没有整流效应。这是因为P-N 结具有电容特性。

pn结电容

pn结电容

pn结电容一、概述pn结电容是一种基本的半导体器件,它由p型半导体和n型半导体构成,中间隔着一个pn结。

当在pn结两侧施加不同的电压时,会形成一个电场,从而使得pn结两侧的载流子发生漂移运动,进而改变pn 结的电容。

因此,pn结电容可以用来制作各种类型的电路和器件。

二、工作原理1. pn结介质层在没有外加电压时,p型区域和n型区域之间存在着一个正向偏置的内建势垒。

这个内建势垒是由于p型区域中多余的空穴与n型区域中多余的自由电子在边界处发生复合而产生的。

这个势垒形成了一个具有一定宽度的空间电荷区域(也称为pn结介质层),其中几乎没有可自由移动的载流子。

2. 反向偏置当对pn结施加反向偏置时,外加电场方向与内建势垒相反。

这样就会使得空间电荷区域变宽,并且减小内建势垒高度。

这样就使得载流子能够穿过空间电荷区域,形成反向电流。

此时,pn结的电容就会随着反向偏置电压的增大而减小。

3. 正向偏置当对pn结施加正向偏置时,外加电场方向与内建势垒相同。

这样就会使得空间电荷区域变窄,并且增加内建势垒高度。

这样就使得载流子不能够穿过空间电荷区域,形成正向电流。

此时,pn结的电容就会随着正向偏置电压的增大而减小。

三、制备方法1. 扩散法将p型半导体和n型半导体放在一起,在高温下进行扩散处理,使p 型半导体中掺杂有n型杂质,n型半导体中掺杂有p型杂质。

这样就可以在两个不同类型的半导体之间形成一个pn结。

2. 气相沉积法将p型半导体和n型半导体放在一起,在高温下通过化学气相沉积的方式制备出来。

四、应用领域1. 通信领域:用于制作振荡器、滤波器等无线通信器件。

2. 信号处理领域:用于制作模拟电路、数字电路等各种类型的电路。

3. 传感器领域:用于制作温度传感器、气体传感器等各种类型的传感器。

4. 光电子学领域:用于制作光控开关、光控放大器等光电子学器件。

五、总结pn结电容是一种基本的半导体器件,它可以通过施加不同的电压来改变其电容值。

pn结电容(pnjunctioncapacitance)物理知识大全

pn结电容(pnjunctioncapacitance)物理知识大全

pn结电容(pnjunctioncapacitance)物理知识大全苏霍姆林斯基说:让先生变得聪明的方法,不是补课,不是添加作业量,而是阅读、阅读、再阅读。

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pn结电容〔p-njunctioncapacitance〕pn结电容(p-njunctioncapacitance)pn结具有电容特性。

pn结电容包括势垒电容和分散电容两局部。

pn结的耗尽层宽度随加在pn结上的电压而改动。

当pn结加正向偏压时,势垒区宽度变窄、空间电荷数量增加,相当于一局部电子和空穴存入势垒区。

正向偏压减小时,势垒区宽度添加,空间电荷数量增多,这相当于一局部电子和空穴的取出。

关于加反向偏压状况,可作相似剖析。

pn结的势垒宽度随外加电压改动时,势垒区中电荷也随外加电压而改动,这和电容器充放电作用相似。

这种pn结的电容效应称势垒电容。

另外,在正偏结中,有少数非平衡载流子区分注入n区和p区的一个分散长度范围内(称做分散区),其密度随正向电压的添加而添加,即在两个分散区内贮存的少数非平衡载流子的数目随pn结的正向电压而变化。

这种由于分散区的电荷数量随外加电压的变化所发生的电容效应,称为pn结的分散电容。

pn结电容是可变电容。

势垒电容和分散电容都随外加电压而变化。

pn结电容使电压频率增高时,整流特性变差,是影响由pn结制成器件高频运用的重要要素。

应用pn结电容随外加电压非线性变化特性,可制成变容二极管,在微波信号的发生和缩小等许多范围失掉普遍的运用。

感谢阅读pn结电容(p-njunctioncapacitance)物理知识大全,希望大家从中失掉启示。

PN结的伏安特性与电容击穿

PN结的伏安特性与电容击穿

P+区
势垒区
EC
EV
反向偏压升高
P区价带顶高于 N区导带底
P区价带电子按一定几率 穿透势垒到达N区导带
形成电子空穴对
隧道效应
主要发生于高掺杂PN结中(P+N+结) 非破坏性可逆击穿
[势垒区宽度较小时]
隧道击穿电压较低 如 Si-PN 结 VB < 4.5 V 雪崩击穿电压较高 如 Si-PN 结 VB > 6.7 V
P
N
空间电荷区
内建电场
P
N
x
p
x
n


q
电子的电势能


qVD
EC
EV
EFΒιβλιοθήκη Ei带能EC
EV
EFN
Ei
EFP
1.1 PN结空间电荷区
*
非平衡PN结 处于一定偏置状态下的PN结称为非平衡PN结 当PN结两端加正向偏压VF,即P区接电源的正极,N区接电源的负极,称为正向PN结。
P
N
- + - + - +
正向PN结


P
N
-- ++ -- ++ -- ++
反向PN结


反之,当PN结两端加反 向偏压VR则称反向PN结。
1.2 PN结的单向导电性
*
正向电压VF 外加电场与内建电场方向相反 空间电荷区中的电场减弱 势垒区宽度变窄 势垒高度变低 qVD ↓ q(VD-VF) 破坏扩散与漂移运动间的平衡 扩散运动 强于 漂移运动 形成较大的电流, 正向偏压给PN结形成了低阻的电流通路
PN结伏安特性
*
平衡PN结:指半导体在零偏压条件下的PN结。 PN 结内温度均匀、稳定,不存在外加 电压、光照、磁场、辐射等外作用平衡 状态。
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PN结电容PN结电容分为两部分,势垒电容和扩散电容。

PN结交界处存在势垒区。

结两端电压变化引起积累在此区域的电荷数量的改变,从而显现电容效应。

当所加的正向电压升高时,多子(N区的电子、P区的空穴)进入耗尽区,相当于对电容充电。

当正向电压减小时,又会有电子、空穴从耗尽区分别流入N区、P区,相当于电容放电。

加反向电压升高时,一方面会使耗尽区变宽,会使P区的空穴进一步远离耗尽区,也相当于对电容的放电。

加反向电压减少时,就是P区的空穴、N区的电子向耗尽区流,使耗尽区变窄,相当于充电。

PN结电容算法与平板电容相似,只是宽度会随电压变化。

下面再看扩散电容。

PN结势垒电容主要研究的是多子,是由多子数量的变化引起电容的变化。

而扩散电容研究的是少子。

在PN结反向偏置时,少子数量很少,电容效应很少,也就可以不考虑了。

在正向偏置时,P区中的电子,N区中的空穴,会伴着远离势垒区,数量逐渐减少。

即离结近处,少子数量多,离结远处,少子的数量少,有一定的浓度梯度。

正向电压增加时,N区将有更多的电子扩散到P区,也就是P区中的少子----电子浓度、浓度梯度增加。

同理,正向电压增加时,N 区中的少子---空穴的浓度、浓度梯度也要增加。

相反,正向电压降低时,少子浓度就要减少。

从而表现了电容的特性。

PN结反向偏置时电阻大,电容小,主要为势垒电容。

正向偏置时,电容大,取决于扩散电容,电阻小。

频率越高,电容效应越显著。

在集成电路中,一般利用PN结的势垒电容,即让PN结反偏,只是改变电压的大小,而不改变极性。

势垒电容在积累空间电荷的势垒区,当PN结外加电压变化时,引起积累在势垒区的空间电荷的变化,即耗尽层的电荷量随外加电压而增多或减少,这种现象与电容器的充、放电过程相同。

耗尽层宽窄变化所等效的电容称为势垒电容。

势垒电容具有非线性,它与结面积、耗尽层宽度、半导体的介电常数及外加电压有关。

势垒电容是二极管的两极间的等效电容组成部分之一,另一部分是扩散电容。

二极管的电容效应在交流信号作用下才会表现出来。

势垒电容在正偏和反偏时均不能忽略。

而反向偏置时,由于少数载流子数目很少,可忽略扩散电容。

补充说明:势垒电容是p-n结所具有的一种电容,即是p-n结空间电荷区(势垒区)的电容;由于势垒区中存在较强的电场,其中的载流子基本上都被驱赶出去了——耗尽,则势垒区可近似为耗尽层,故势垒电容往往也称为耗尽层电容。

耗尽层电容相当于极板间距为p-n结耗尽层厚度(W)的平板电容,它与外加电压V有关(正向电压升高时,W减薄,电容增大;反向电压升高时,W增厚,电容减小)。

因为dV ≈ W · d E = W·(dQ/ε),所以耗尽层电容为C j= dQ/dV = ε/W。

对于单边突变p+-n结,有C j= ( qεND / 2Vbi )1/2;对于线性缓变p-n结,有C j = (q aε2 / 12Vbi)1/3。

势垒电容是一种与电压有关的非线性电容,其电容的大小与p-n结面积、半导体介电常数和外加电压有关。

当在p-n结正偏时,因有大量的载流子通过势垒区,耗尽层近似不再成立,则通常的计算公式也不再适用;这时一般可近似认为:正偏时的势垒电容等于0偏时的势垒电容的4倍。

不过,实际上p-n结在较大正偏时所表现出的电容,主要不是势垒电容,而往往是所谓扩散电容。

值得注意的是,势垒电容是相应于多数载流子电荷变化的一种电容效应,因此势垒电容不管是在低频、还是高频下都将起到很大的作用(与此相反,扩散电容是相应于少数载流子电荷变化的一种电容效应,故在高频下不起作用)。

实际上,半导体器件的最高工作频率往往就决定于势垒电容。

扩散电容为了形成正向电流(扩散电流),注入P 区的电子在P 区有浓度差,越靠近PN结浓度越大,即在P 区有电子的积累。

同理,在N区有空穴的积累。

扩散电容是二极管结电容的组成部分之一,另一部分是势垒电容。

二极管的电容效应在交流信号作用下才会表现出来。

反向偏置时,由于少数载流子数目很少,可忽略扩散电容。

而势垒电容在正偏和反偏时均不能忽略。

补充说明:扩散电容(Diffusion capacitance)是p-n结在正偏时所表现出的一种微分电容效应。

pn结扩散电容是来自于非平衡载少数流子在pn结两边的中性区内的电荷存储所造成的电容效应(因为在中性扩散区内存储有等量的非平衡电子和非平衡空穴的电荷,它们的数量受到结电压控制)。

这种由于注入载流子存储电荷随着电压变化所产生的扩散电容将随正向电压而按指数式增大;扩散电容也与直流偏压有关(也是一种非线性电容),也将随着直流偏压的增大而指数式增大,故扩散电容在正向偏压下比较大。

另外,由于pn结扩散电容与少数载流子的积累有关,而少数载流子的产生与复合都需要一个时间(称为寿命τ)过程,所以扩散电容在高频下基本上不起作用。

这就是说,扩散电容还与外加结电压的信号频率ω有关,并从而常常用乘积(ωτ)的大小来划分器件工作频率的高低:在低频(ωτ<<1, ωτ<<1)、即[外加信号的变化周期]>>[存储电荷再分布的时间]时,少数载流子存储电荷的变化跟得上外加信号的变化, 则扩散电容较大;在高频(ωτ >>1, ωτ>>1)、即存储电荷跟不上外加信号的变化时, 扩散电容很小(随着(ωτ)1/2下降),故扩散电容在低频下很重要。

因为pn结的开关速度主要决定于在两边中性区内存储的少数载流子,所以,从本质上来说,也就是扩散电容对开关速度的影响。

总之,pn结的扩散电容与其势垒电容不同。

前者是少数载流子引起的电容,对于pn结的开关速度有很大影响,在正偏下起很大作用、在反偏下可以忽略,在低频时很重要、在高频时可以忽略;后者是多数载流子引起的电容,在反偏和正偏时都起作用,并且在低频和高频下都很重要。

扩散电容二极管正向导电时,多子扩散到对方区域后,在PN结边界上积累,并有一定的浓度分布。

积累的电荷量随外加电压的变化而变化,当PN结正向电压加大时,正向电流随着加大,这就要有更多的载流子积累起来以满足电流加大的要求;而当正向电压减小时,正向电流减小,积累在P区的电子或N区的空穴就要相对减小,这样,就相应地要有载流子的“充入”和“放出”。

因此,积累在P区的电子或N区的空穴随外加电压的变化就可PN结的扩散电容C d描述。

扩散电容反映了在外加电压作用下载流子在扩散过程中积累的情况。

扩散区内电荷的积累和释放过程与电容器充、放电过程相同,这种电容效应称为扩散电容C d。

势垒电容与扩散电容之和为PN结的结电容C j,低频时其作用忽略不计,只在信号频率较高时才考虑结电容的作用。

当PN结外加电压变化时,空间电荷区的宽度将随之变化,即耗尽层的电荷量随外加电压而增多或减少,这种现象与电容器的充、放电过程相同。

耗尽层宽窄变化所等效的电容称为势垒电容C b当外加电压使PN结上压降发生变化时,空间电荷区的宽度相应改变。

势垒电容C b和扩散电容C d均是非线性电容,值一般都很小,它们之和称为PN结的结电容,记为C j二极管正向导电时,电子扩散到对方区域后,在PN结边界上积累,并有一定的浓度分布。

积累的电荷量随外加电压的变化而变化,当PN结正向电压加大时,正向电流随着加大,这就要有更多的载流子积累起来以满足电流加大的要求;而当正向电压减小时,正向电流减小,积累在P区的电子或N区的空穴就要相对减小,这样,就相应地要有载流子的“充入”和“放出”。

因此,积累在P区的电子或N区的空穴随外加电压的变化就可PN结的扩散电容C d描述。

扩散电容反映了在外加电压作用下载流子在扩散过程中积累的情况。

扩散区内电荷的积累和释放过程与电容器充、放电过程相同,这种电容效应称为扩散电容C d。

势垒电容与扩散电容之和为PN结的结电容C j,低频时其作用忽略不计,只在信号频率较高时才考虑结电容的作用.扩散电容为了形成正向电流(扩散电流),注入P 区的电子在P 区有浓度差,越靠近PN结浓度越大,即在P 区有电子的积累。

同理,在N区有空穴的积累。

扩散电容是二极管结电容的组成部分之一,另一部分是势垒电容。

二极管的电容效应在交流信号作用下才会表现出来。

反向偏置时,由于少数载流子数目很少,可忽略扩散电容。

而势垒电容在正偏和反偏时均不能忽略。

补充说明:扩散电容(Diffusion capacitance)是p-n结在正偏时所表现出的一种微分电容效应。

pn结扩散电容是来自于非平衡载少数流子在pn结两边的中性区内的电荷存储所造成的电容效应(因为在中性扩散区内存储有等量的非平衡电子和非平衡空穴的电荷,它们的数量受到结电压控制)。

这种由于注入载流子存储电荷随着电压变化所产生的扩散电容将随正向电压而按指数式增大;扩散电容也与直流偏压有关(也是一种非线性电容),也将随着直流偏压的增大而指数式增大,故扩散电容在正向偏压下比较大。

另外,由于pn结扩散电容与少数载流子的积累有关,而少数载流子的产生与复合都需要一个时间(称为寿命τ)过程,所以扩散电容在高频下基本上不起作用。

这就是说,扩散电容还与外加结电压的信号频率ω有关,并从而常常用乘积(ωτ)的大小来划分器件工作频率的高低:在低频(ωτ<<1, ωτ<<1)、即[外加信号的变化周期]>>[存储电荷再分布的时间]时,少数载流子存储电荷的变化跟得上外加信号的变化, 则扩散电容较大;在高频(ωτ >>1, ωτ>>1)、即存储电荷跟不上外加信号的变化时, 扩散电容很小(随着(ωτ)1/2下降),故扩散电容在低频下很重要。

因为pn结的开关速度主要决定于在两边中性区内存储的少数载流子,所以,从本质上来说,也就是扩散电容对开关速度的影响。

总之,pn结的扩散电容与其势垒电容不同。

前者是少数载流子引起的电容,对于pn结的开关速度有很大影响,在正偏下起很大作用、在反偏下可以忽略,在低频时很重要、在高频时可以忽略;后者是多数载流子引起的电容,在反偏和正偏时都起作用,并且在低频和高频下都很重要。

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