触摸屏黄光制程介绍

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触摸屏制程介绍

触摸屏制程介绍

触摸屏制程流程
Cover Glass
黏贴组合
Sensor
OCA
Sensor Glass
模块工程
切割
抛光 Sensor film 化学强化
Glass + film
Border 走线
OCR
FPCa
上油墨
Cover Lens 制程
(1) 玻璃 (2) 雷射切割 (3) CNC整边、抛光 (4) 四角研磨
G/G
Cover Glass 0.7mm
OCA
Sensor Glass
0.15mm
0.5mm
总厚:1.35 mm
GFF
Cover Glass OCA Sensor Film 0.7mm 0.1mm 0.05mm
总厚:1 mm
OCA
Sensor Film
0.1mm
Gorilla Glass 调整七种成分,包括改 变多种氧化物含量(秘密成分),可增 加黏性、提高玻璃抗压力、加速离子 交换。
化学强化等级
Gorilla 各代强度差异,主要为离子交换程度差异
强化等级差异 强 钾离子强化层越厚,具有 较佳机械抗压力及抗刮性

Cover lens 镀膜种类
1. Anti-Relfrection (AR coating) 抗反射涂层,降低反射光线 2. Anti-Sumdge (AS coating) 覆盖表面细孔,降低接触角度达到滑顺、防污。 3. Hard coating 硬度强化、耐刮 4. Anti-Glare (AG coating) 增加表面细孔降低反射光线、高精细型可防指纹
G/G Process Flow
G/G = Cover Glass + Sensor Glass 使用OCA胶贴合在一起

触控面板黄光制程工艺全解

触控面板黄光制程工艺全解

触控面板制造工艺之黄光工艺流程全解发布时间:2014-8-22作为目前电容式触摸屏最为主流的制造工艺,黄光制程一直备受关注。

技术发展到今天,已经拥有非常完善的工艺。

本文将从黄光制程的步骤入手,全面介绍制程中每个步骤及所需注意的事项。

1. PR前清洗A.清洗:指清除吸附在玻璃表面的各种有害杂质或油污。

清洗方法是利用各种化学浓剂(KOH)和有机浓剂与吸附在玻璃表面上的杂质及油污发生化学反应和浓解作用,或以磨刷喷洗等物理措施,使杂质从玻璃表面脱落,然后用大量的去离子水(DI水)冲洗,从而获得洁净的玻璃表面。

(风切是关键)B.干燥:因经过清洗后的玻璃,表面沾有水或有机浓剂等清洗液。

这样会对后续工序造成不良影响,特别是对后续光刻工艺会产生浮胶、钻蚀、图形不清晰等不良现象。

因此,清洗后的玻璃必须经过干燥处理。

目前常采用的方法是烘干法,而是利用高温烘烤,使玻璃表面的水分气化变为水蒸气而除去的过程,此方法省时又省力。

但是如果水的纯度不变,空气净化等不多或干燥机温度不够,玻璃表面残存的水分虽经气化为蒸气,但在玻璃表面还会留下水珠,这种水珠将直接影响后续工序的产品质量。

C. 十槽清洗机 PR清洗机制程参数设定1---3槽KOH溶液为0.4~0.7N,温度为60±5℃,浸泡时间为2~3min/槽纯水溢流量为0.5±0.2㎡/n. KOH溶度为1.0N~1.6N,温度为40±5℃,喷洗压为0.2~1.0kgf/c㎡,传动速度为3.0~4.5m/min,磨刷转速为85~95rpm,压力为0.2~1.0kg/c㎡,纯水温度为40±5℃,干燥机1.2.3段温度为110℃±10℃。

注:玻璃清洗洁净度不够之改改善对策,适当加入少许KOH溶液,改变KOH,溶液,经常擦拭风切口,喷洗等处,亦可调态清洗机传动速度,将传速度减慢。

2.PR涂佈光刻是一种图像复印和化学腐蚀相结合的,综合性的精密表面加工技术。

触摸屏生产工艺核心技术之黄光工艺

触摸屏生产工艺核心技术之黄光工艺

BOE(NH4F/HF)
谢谢!
黄光制程:
来料玻璃
黄光制程由此开 始
作出所需的图形
ITO、Metal、PI制程 为Sensor提供第一层保 护
Passivation (Organic)
为黄光后的工序作准备
蚀刻膏印刷/可剥胶印刷
切割
黄光制程到此结 束
整个制程的相关示意图-1
微影技术!
光阻塗佈
清洗
烘乾
顯影
曝光
PI和Passivation制程只需到这一 步
Oven
Metal Patterning Flow
Metal Patterning
Glass Cleaning
IR/UV/CP
PR Coating
Pre-Bake
Pattern Exposure
Developing
Post-Bake
Stripping
Etching
各制程效果图 (以Spark为制版)
Via hole
结果是等 效的
反制程:
Jumper PI

Pattern Trace
粗略的生产流程:
来料玻璃
Sheet
最终成品! pcs
常见尺寸: 370×470mm 厚度则有0.33、0.4、 0.5、0.55、1.1、 1.3mm不等
一路OK Boding、贴合等白光制程
什么是黄光?
ITO
PI
Metal (已喷AG)
反制程全制程
主要机台和常用药液
分为: Roller式 Slit式 Spin式
涂 布 机 :
清洗设备
清和曝光机 DNK曝光机
限于篇幅,仅举部分实例!

电容触摸屏工艺流程简介

电容触摸屏工艺流程简介

印刷正面 镭射银浆
印刷反面 镭射银浆
ITO厂工序
印刷 反面ISO
印刷正面 ISO(可选)
反面银浆镭射
正面银浆镭射
成品
贴合
绑定
切割成小片
单层镀ITO
基板
ITO镀膜
双层镀ITO
基板
ITO镀膜
单层镀ITO+METAL
基板
ITO镀膜
金属镀膜
双层镀ITO+METAL
基板
ITO镀膜
金属镀膜
ITO蚀刻-单面结构
L
其中要求如下: 1.不允许有S形翘曲
ITO
ITO架桥:导电性差(40Ω/■左右),解决
了金属点可见的问题,同时增加一道光照,成本
增加。
绝缘材料 金属或ITO
黄光SITO 结构工艺流程图(金属架桥)
单层镀ITO
ITO蚀刻单面结构
黄光厂工序
金属蚀刻单面结构
镀SIO2/OC
印刷可剥胶 (可选)
成品
贴合
绑定
切割
2.黄光DITO结构触摸屏制程
1.黄光SITO结构触摸屏制程
介绍:SITO是Single ITO的简称。即菱型
线路做法。XY轴(发射极和感应极)都在玻璃的
同一面。
X PATTERN和Y PATTERN通过搭桥的方式,
实现触摸屏发射极和感应极的作用。
架桥的选择:
金属架桥:导电性好(0.4Ω/■左右),但
是金属点会可见,影响外观。(推荐)
大片ITO蚀刻干蚀刻
印刷 银浆线路
大片ITO蚀刻干蚀刻
印刷 银浆线路
贴大片 OCA1
贴大片 OCA2
切割成小片
成品

黄光工艺介绍

黄光工艺介绍

4.黄光制程与传统制程的优劣2-流程工艺能力
耐酸印刷制程
制程规 耐酸印 格项目 刷制程
评判
线宽线 0.3*0.3

mm
一般
蚀刻痕 明显
一般
是否扩 散
产品设 计图形 复杂的
程度
精度
印刷容 易扩散
设计图 形简单
0.1mm
一般 一般 一般
黄光制程
制程规 黄光制 格项目 程
,容易扩散。 容易受ITO图案复杂性
影响
良率高不受其它影响
Remark: 黄光制程相对耐酸印刷制程良率较高。


黄光工艺介绍 Profile of Photo process
2012-12-29

1、黄光制程定义-核心技术及名称的来源
黄光工艺使用的技术 黄光使用的技术为微影 (Lithography) 技术,使用的材料为感光材料,这
种材料称之为光阻(PR,photo resistance)。PR具有独特的特性,在UV光的作 用下,会发生化学变化,变成易容与酸或者碱的新物质。
微影 (Lithography) 技术是将光罩 (Mask) 上的图案先转移至PR上,再以 溶剂浸泡将PR受光照射到的部份加以溶解或保留,形成和光罩完全相同或呈互 补的光阻图。
黄光制程名称的来源 由于微影制程的环境照明光源是黄光,而非一般摄影暗房的红光,所以这
一制程常被简称为“黄光”制程。 黄光制程线路精准度水平高,被广泛应用在电容式触摸屏sensor的加工。
Remark:黄光制程采用干膜代替耐酸制程能力进一步提升,可以提升产品层次。 镭雕工艺有效率和爆点的问题,复杂ITO图案产品的批量性低。

4.黄光制程与传统制程的优劣3—批量能力

黄光设备工作流程简介

黄光设备工作流程简介

黄光工艺触摸屏
黄光工艺触摸屏是一种可接收触头等输入讯号的感应式液晶显示装置,当接触了屏幕上的图形按钮时,屏幕上的触觉反馈系统可根据预先编程的程式驱动各种连结装置,可用以取代机械式的按钮面板,并借由液晶显示画面制造出生动的影音效果。

原理特征
利用压力感应进行控制触摸屏。

触摸屏作为一种最新的电脑输入设备,它是目前最简单、方便、自然的一种人机交互方式。

它赋予了多媒体以崭新的面貌,是极富吸引力的全新多媒体交互设备。

黄光工艺
微影技术说起,即可略知一二。

微影技术是将光罩上的主要图案先转移至感光材料上,利用光线透过光罩照射在感光材料上,再以溶剂浸泡将感光材料受光照射到的部份加以溶解或保留,如此所形成的光阻图案会和光罩完全相同或呈互补。

由于微影制程的环境是采用黄光照明而非一般摄影暗房的红光,所以这一部份的制程常被简称为“黄光”。

微影制程很好地实现了黄光工艺触摸屏视觉上的精准度。

应用
主要应用于公共信息的查询、领导办公、工业控制、军事指挥、电子游戏、点歌点菜、多媒体教学、房地产预售等。

iphone5感应线路就是采用黄光工艺的触摸电容屏,此种电容屏有助于手机在超窄边框上面布线,使手机工艺如钟表般精细,更薄,身材更漂亮,更有利于超窄边款手机的散热,更是贴合技术的绝配。

触摸屏黄光制程介绍

触摸屏黄光制程介绍

触摸屏黄光制程介绍触摸屏黄光制程介绍高精度网印制版及印刷技术是触摸屏制程中的核心技术,随着触摸屏市场的迅猛发展,对触摸屏生产成本和技术的要求也越来越高,谁的成本低、技术精,谁就能抢先占领市场,这同时也给触摸屏厂家就选择什么制程更能符合公司长远发展提出了疑问,那么触摸屏厂家到底是选择黄光制程还是印刷制程呢?11. 51Touch:利满洋行主要从事滚筒印刷制程,是这方面的专家,请您就目前黄光制程和滚筒印刷制程的区别做一个详细的介绍吧。

利满洋行:黄光制程和滚筒印刷制程就印刷制程而言,在成本和工艺上还是有很大区别的,我这里有一个比较详细的描述与大家分享一下:一、TP厂 : 黄光制程 vs 印刷制程黄光制程 vs 印刷制程二、黄光制程与滚筒网印的投资评估比较.1.) 黄光制程设备投资成本昂贵.- 黄光制程投资额由RMB 20M-70M不等,如卷对卷制式更不止此数,- 上下游工序、材料均须另作配合,- 樱井滚筒机的投资额相对是小巫见大巫了。

2.) 黄光制程设备占地面积较大, 影响生产厂使用的灵活性.任何工厂需要生产安排的灵活性,纵使黄光制程有其优点,而优点往往从接“大单“中才能反映出来,因其制程必须使用一定的蚀刻用化学剂,TP工厂接单的“单头量”直接影响每件成本,而现今电子产品讲求多花样,推陈出新是生存之道,所以TP厂的灵活性不是任何先进生产方式可以代替的。

樱井滚筒机设备摆放也不需要特定的楼层/位置, 而生产时只需要换网板就能马上生产不同尺寸的型号机种了。

3.) 制程设备投资与长远使用性风险评估.黄光制程是30多年前由MEMS 开始在半导体业界采用,20多年前TFT LCD厂家也开始使用,后来应用面扩展到PV 和TP,相对于PV 和TFT , TP结构比较有多变的空间,尤其各品牌都追求薄和轻,这趋势都直接引伸出不同的工艺模式,高昂的黄光制程投资额使投资风险一直成为决策的最大障碍。

在国内TFT 用黄光也不到10年,TP就更不用说了,但网印在国内累积了大量经验和人材,而TP厂的网印技术与人才皆是公司的重要资产,企业投资在现成和累积的资产上,使它延伸及增值,对长线企业发展最为有利。

电容屏ITO黄光制程工艺

电容屏ITO黄光制程工艺

电容屏ITO黄光制程工艺流程第一步:ITO GLASS参数规格:长宽:14*16 厚度:0.55,0.7,1.1规格:普通,钢化等,特性:AR(抗反射),AG(防眩光),AS(防水防污),AF(防指纹)等电容玻璃:安可,冠华,正达,正太等。

第二步:素玻璃参数规格:素玻璃:康宁,旭硝子等。

500*500规格第三步:清洗参数规格:1.将GLASS 表面的脏污,油污,杂质等去除并干燥。

2.将素玻璃表面的脏污,油污,杂质等去除并干燥,然后过镀膜线镀ITO 层形成GLASS。

第四步:背保丝印参数规格:膜厚:10-20μM,250-420 目聚酯网,此背保要求高,不能有一点脏污,油污,杂质等,要不回影响到在这面处理ITO 图案和银浆走线的附着力等。

日本朝日,丰阳等,热固型。

第五步:光刻胶整版丝印参数规格:膜厚:5-10μM,300-420 目聚酯网.需在温度20 度-25 度的范围和黄灯的环境下进行。

光刻胶:田菱THC-29(耐酸曝光显影型光刻胶)等。

第六步:前烘参数规格:让印有光刻胶的材料在一定的温度,时间下固化。

温度:80-90 度。

时间15-20 分钟。

第七步:曝光参数规格:通过紫外线和菲林的垂直照射,让光刻胶形成反应。

光能量:60-120MJ/C ㎡,时间:6-9s第八步:显影参数规格:用弱KOH 溶解液去除材料上被曝光过的光刻胶,留下没有曝光的光刻胶。

弱碱:0.05-0.2 MOL.温度:20±3 度,压力:0.02-0.05KG,速度:5.5±2.5M/MIN。

第九步:坚膜参数规格:让显影留下的光刻胶经高温处理,让光刻胶完全固化。

温度:120-150度,时间:20-30.第十步:蚀刻参数规格:酸度:3.5-6.5MOL,温度:45±5 度,压力:1-2KG,速度:0.8-1.5M/MIN。

碱度:0.5-0.8MOL,温度:35±5 度,压力:1-2KG,速度:1.5-3.5M/MIN。

黄光制程

黄光制程

扩散 (Diffusion)
清洗 (Clean)
离子注入 (Implant)
Litho 什么是黄光区?
Litho
- Clean Room -
Separation Other Area Lithography Area † Clean
Materia l Selectio n
Cleaning System
• 按运作分类: 扫描机(SCANNER); 步进机(STEPPER)
Litho
什么是光罩?
光罩是有很多图形(Pattern)的模板设计图形
+ +
Test Key Barcode Scribe Line
Fiducial Test Line
Main Pattern
+
+
Global Mark
QA Cell
FACTOR
EE / FO OL Base Line / FB Mix & Match(System)
• Process condition depends on which layer : Substrate condition,CD,Topology,OL target,Etch target etc • Key process factor : Tpr(A),Use BARC or not,SB,TARC or not,WEE,EE,FO,OL offset,PEB, Dev. Dipping time and so on. • Key machine factor : Cup exhaust pressure,Water jacket control temp,Chamber pressure,Temp,focus, Plate exhaust,PEB temp Accuracy.

黄光制程介绍

黄光制程介绍

100
NA
NA
1000
7
NA
10000
70
NA 100000 700
我們的無塵室規格
❖落塵量 :每一立方英尺的空間裡直 徑0.5微米的灰塵或顆粒 數目小於10000個. (10000級)
❖溫 度 : 21℃-25℃ ❖溼 度 : 相對溼度 50﹪-70﹪ ❖靜電限制: 低於100 伏特
10/22
干膜光阻
3/21
模版式 移印式 印刷式 黃光轉移
通過干膜的光照反 應、化學反應發生 分解,達成非接觸
式轉移圖形
制程簡介
表面清潔
4/22
壓膜 去膜
曝光 顯 影
蝕刻
黃光區域
黃光燈:由于感光性的原料,對紫外光或可見 光敏感,如果采用含紫外線的普通白光燈照明 ,結果是電阻圖形邊緣模糊,從而降低產品的 質量,所以必須使用防紫外線燈,目前我們使 用的燈波長是大于365nm.
Hale Waihona Puke 黃光制程介紹前言黃光制程是通對涂覆在物件表面的光敏 性物質(又稱光刻膠或光阻),經曝光、顯 影后留下的部份對底層起保護作用,然后進 行蝕刻去膜,最終獲得永久性圖形的過程。
1/22
目錄
❖ 制程簡介 ❖ 黃光區域 ❖ 無塵室 ❖ 干膜光阻
2/22
❖ 曝光 ❖ 顯影 ❖ 蝕刻 ❖ 去膜
制程簡介
圖 形 轉 移 技 術
2 表示正在品質驗證的阻值
MS生產設備
21/22
小結
黃光制程是一種產品制造技術,并不 限于生產一種產品,目前的認知是可以在 平面物件上做出圖形,可以將銅合金制作 成需要的形狀,各制程如有新品的試制可 以采用。
23 22/22
12/22

黄光流程学习报告20130102

黄光流程学习报告20130102

学习报告
随着TP行业的激烈竞争,触摸屏技术不断更新和创新,黄光制造成为了目前TP行业不可或缺的技术之一。

以下是电容屏黄光制程工艺:
一、制造之定义
所谓制造,不仅是生产产品,而且含有以正常成本的费用、正常的使用工时及在所定的期限内,制出品质稳定、符合客户规格的产品。

二、工作职掌
1、人员管理、教育培训
2、机器设备保养
3、生产进度控制及调整
4、物料控制
5、效率改善
6、品质改善
7、安全管理
8、现场管理及改善
三、工艺流程图
PR前清洗→印刷背保→ DI清洗→ PR涂布

坚膜← 显影← UV曝光← PR固化

蚀刻→ 脱膜→ DI清洗
1、PR 前清洗
ITOGLASS 清洗指用物理的方法(磨刷喷洗)和化学的方法(去离子水DI 水和KOH)将玻璃表面的脏污和油污、杂质除去并干燥的过程。

2、PR 涂佈
指在玻璃的导电层表面均匀涂上一层光刻胶。

3、前烘
指在一定温度下将涂有光刻胶的玻璃烘一段时间、使光刻胶的溶剂挥发,形成固体的PR 层。

4、曝光
指用紫外线通过预先设置好的菲林垂直照射光刻胶表面,使被照射部分的光刻胶发生反应。

5、显影
指用弱KOH 溶液去离玻璃表面将径光照射部分的光刻胶除去,保留未照射部分的光刻胶。

6、坚膜
指将玻璃在径一次高温处理,使光刻胶膜更加坚固。

7、蚀刻
指用适当的酸液将无光刻胶覆盖的ITO 层除去,这样就得到了我们所需要的ITO 电极图形。

8、脱膜
指用较强的KOH 剥膜液将残留光刻胶除去,将玻璃表面清洗干燥。

2013年01月02日。

电容触摸屏工艺流程简介

电容触摸屏工艺流程简介


目前我司常用的是纳钙玻璃,价格相对低,但是强度相对差,一般材质为旭硝子,铝硅玻璃相比强度更高,但是价格高,一 般材质为康宁。
名词解释:
• • • 6.方阻:d为膜厚,I为电流,L1为膜厚在电流方向上的长度,L2为膜层在垂直电流方向的长度,ρ为导电膜的体电阻率。ρ和d可以认为是不变的定值, 当L1=L2时,为正方形的膜层,无论方块大小如何,其电阻率为定值ρ/ d,这就是方阻的定义,即R□= ρ/ d; 在我们的工作中,对上面的公式进行转化: R( 线阻)=R□*L2/L1
• 即翘曲的高度与翘起边 的长度之比
其中要求如下: 1.不允许有S形翘曲
h
L
曝光
上光阻
金属蚀刻-双面结构
金属 ITO 光阻 Mask
基板
上光阻
曝光
去光阻
蚀刻
显影
金属面ITO蚀刻-双面结构
基板
上光阻
曝光
去光阻蚀刻显影源自非金属面ITO蚀刻-双面结构
基板
上光阻
曝光
去光阻
蚀刻
显影
镀SIO2/OC
镀 SiO2(O C)
不镀 SiO2(OC)
印刷可剥胶
切割
功能测试
后段流程介绍
ITO
绝缘材料 金属或ITO
黄光SITO 结构工艺流程图(金属架桥)
单层镀ITO
ITO蚀刻单面结构
黄光厂工序
金属蚀刻单面结构
镀SIO2/OC
印刷可剥胶 (可选)
成品
贴合
绑定
切割
2.黄光DITO结构触摸屏制程
介绍:DITO是Double ITO的简称。即两面 线路做法。 XY轴分别布于玻璃上下两层 X PATTERN和Y PATTERN分别在玻璃的两 面,实现触摸屏发射极和感应极的作用。

露光(黄光)制程介绍

露光(黄光)制程介绍
正行光阻種類(依狀態): 液態光阻 乾膜√
正型光阻
Original
曝光 (照光處)
顯影
長鏈(強壯)
裂解
曝光處—洗掉光阻
負型光阻
短鏈(弱)
聚合(Cross Link)
曝光處—光阻留著
光阻 光罩/底片
光阻
正負光阻Pattern說明
基板
基板
紫外線
曝光
負光阻 正光阻
基板
顯影後
基板
正光阻優點:高解析(解析能力3um)、負光阻(乾膜解析約15 um) 負光阻優點:便宜
2.鄰接式曝光機(Proximity Mode) 備註:適用油墨曝光、感光銀膠曝光、RBM曝光
3.投影式曝光機(Stepper) 備註:半導體、LCD、超細線路、超高解析、高對
位精度 4.LDI曝光系統(Laser Direct Imaging)
備註:無需光罩、高對位精度
12
曝光波長
曝光機感光光譜
I-Line H-Line G-Line
G-line: 436 nm H-line: 405 nm I-line: 365 nm
乾膜感光光譜 適合感光光譜365nm
➢每支乾膜需確認其感光範圍,再確認該乾膜 是否可適用於該曝光機。
➢一般曝光機為I、H、G Line共存or單一波長 I Line為主。
接觸式曝光機(Contact Mode)
底片製作說明-----RD、繪圖必知
底片組成:PET+藥膜 底片製作流程: 快速記憶PET上正型光阻+曝光+顯影
PET塗藥膜(正型光阻)雷射繪片(曝光)顯影乾燥 正片
底片構造
藥膜 PET
YLO出圖
For 正型光阻、印刷製程

TFTLCD黄光制程介绍资料

TFTLCD黄光制程介绍资料

IVO
Info Vision
2021/10/15
Cleaner introduction
IVO
Info Vision
The structure of E-UV chamber
2021/10/15
Cleaner introduction
The measurement of contact angle
分辨率
• 能够在玻璃基板上形成符合要求的最小 的特征图形。形成的CD越小,PR的分辨 能力和光刻系统就越好
2021/10/15
Coater introduction
IVO
Info Vision
对比度
• PR从曝光区域到非曝光区域的过度的陡 度
对比度差
PR
对比度好
PR
Film
2021/10/15
Glass
AAJET
2021/10/15
Cleaner introduction
The basic principle of inclined rinse
IVO
Info Vision
2021/10/15
Cleaner introduction
IVO
Info Vision
Brush structure
2021/10/15
IVO
Info Vision
2021/10/15
Cleaner introduction
IVO
Info Vision
The simple drawing of roller brush & AAjet rinse section
2021/10/15
Cleaner introduction

黄光制程工艺流程

黄光制程工艺流程

根据光敏材料的性质,选择合适的光 源波长和功率。
显影设备
显影设备
用于将光固化后的膜进行显影,去除未固化的材 料。
显影方式
可以采用浸泡显影、喷淋显影等方式。
显影剂选择
根据光敏材料的性质,选择合适的显影剂。
蚀刻设备
1 2
蚀刻设备
用于对硅片进行蚀刻处理,形成电路和图形。
蚀刻方式
可以采用化学蚀刻、物理蚀刻等方式。
技术挑战
光刻机精度要求高
黄光制程需要高精度的光刻机,以确保图案的精确复制和加工。
制程控制难度大
黄光制程涉及多种材料和复杂的化学反应,对制程参数和环境条件 要求极高,控制难度较大。
设备维护与升级成本高
黄光制程设备昂贵且维护成本高,同时随着技术更新换代,设备升 级也面临较大压力。
环境影响与可持续发展
特点
黄光制程具有高精度、高稳定性和高效率的特点。在微电子、精密机械、光学 等领域中,黄光制程广泛应用于表面处理、光刻、曝光等关键工艺环节。
黄光制程的重要性
提高产品质量
黄光制程能够有效地提高产品的质量和性能,降低不良率,提高 生产效率。
满足高精度需求
随着科技的发展,产品对精度的要求越来越高,黄光制程能够满足 高精度、高稳定性的制造需求。
03
聚酯
聚酯是一种常用的高分子材料,具有良好的透明性和机械性能,常用于
制造中低端光掩膜和光刻胶。
光敏材料
光敏材料
光敏材料是黄光制程中的核心材料之一,用于制造光掩膜和光刻胶。它们在受到特定波长 的光线照射后,会发生化学反应,从而产生交联或降解等变化。
光刻胶
光刻胶是光敏材料的一种,分为正性胶和负性胶两种类型。正性胶在受到光线照射后会变 得可溶,而负性胶则会变得不溶。它们在光刻工艺中起到关键的作用。

黄光工艺介绍-20121230

黄光工艺介绍-20121230

批附光阻
3
UV光源 光罩图案 PR 光阻 ITO film 基材
UV通过光罩上的图案,照射到 光阻膜上去,制出光阻图案 (PR被UV照射后,发生化学变 化,但是物理形态没有变化,所 以生成的光阻图案肉眼不可见) 碱性溶液中,在光阻膜上形成与 光罩图案相同或者互补的光阻图 案 酸性溶液中,未被光阻图案遮 挡住的ITO被溶解,形成ITO图 案 酸性溶液中清晰掉光阻图案, 保留ITO图案。Sensor制作完 成
曝 光
4
光阻图案 ITO film 基材 光阻图案 5 ITO 图案 基材 ITO 图案 基材
显 影
蚀 刻
6
褪光阻
4.黄光制程与传统制程的优劣1-流程
耐酸 印刷 制程
黄光 制程
镭雕 制程
Remark:黄光制程与耐酸制程工艺的对比主要是用干膜代替了耐酸印刷制程,后续工站相同。

4.黄光制程与传统制程的优劣2-流程工艺能力 耐酸印刷制程
制程规 格项目 线宽线 距 蚀刻痕 是否扩 散 产品设 计图形 复杂的 程度 精度 耐酸印 刷制程 0.3*0.3 mm 明显 印刷容 易扩散 设计图 形简单 0.1mm 评判
黄光制程
制程规 格项目 线宽线 距 蚀刻痕 黄光制 程 40*4 0um 无 无 设计图 形可以 更复杂 ,性能 强大 40um 评判 好 好 较好
曝光前
Mask光罩
曝光后
PR 光阻 ITO film 未被mask遮挡的PR曝 光后变成不溶于碱的物 质,形成负性光阻图案 未被mask遮挡的PR曝 光后变成溶于碱的物 质,形成正性光阻图案

3、黄光制程的流程
1 2
ITO 基材 基材退火
ITO缩水 压干膜
PR 光阻 ITO 基材

玻璃保护盖板触摸屏、贴合、黄光制程OLE

玻璃保护盖板触摸屏、贴合、黄光制程OLE
2、成本低。
3、靠自身发光,无需背光源。
4、超薄。(图4)
4、全固态组件,抗震动性强,能适应恶劣环境。
5、具有宽视角特性,上下、左右的视角宽度超过170度。 (图5)
6、高分辨率(图6)
7、响应速度快,响应时间为微秒级,是普通液晶显示器响应时间的1/1000,适于播放动态图像。(图7)
8、相较于LED或LCD的晶体层,OLED的有机塑料层更薄、更轻而且更富于柔韧性。(图8)
内嵌式触控面板减少1片玻璃除降低厚度并有简化制成优势
附图21—3:
触摸屏
保护玻璃
显示屏
保护玻璃
显示屏+触摸屏
举例:Iphone5比Iphone4S少了触摸屏这一层
PART ONE
OLED是继CRT、PDP、LCD之后公认的最理想、最具发展前景的新一代梦幻般的显示技术,被视为21世纪最具前途的产品之一。
2、成本
3、设备供应(主要是欧美日厂商,三星已开发部分替代设备)
4、关键原材料(主要是欧美日厂商,韩国已有部分自给能力)
5、新技术(比如Sony已发布的直下式LED、激光电视等)
OLED产业发展的主要障碍:
1、器件的稳定性及寿命(包括存储寿命和使用寿命)
2、打屏幕OLED生产中的薄膜沉积均匀性
3、高分辨率情况下精细像素的形成
>170度
>120度
发光效率
>15lm/w
4~8lm/w
能耗
可低至1mw,比背光源LCD低
使用背光源,能耗大
厚度
1~1.5mm
含背光源有5mm
操作温度
-40℃~85℃
0~50℃
抗震性能
器件为全固态,无真空、液体物质,胜任汽车、飞机等各种震动工作环境。
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- 贵司可沿用 “丝纲印刷制程”, 而不用改变现有生产流程 / 物料,
- 便可去作日后量产工序.
- 贵司也不用担心 “花费太多人力 / 物力” 从新学习 或 聘请专业人员去操作..
- 使用新(黄光)制程设备, 或更改 / 新增其它设备去配合新(黄光)制程工序,
5. 51Touch:利满洋行的设备对制程中所用材料和工艺的要求是什么?
利满洋行:如上述,利用樱井滚筒网印机印银引线需要银浆和ITO薄膜,经过日本樱井无数次实验及客户回馈都证明ITO薄膜并不需要特别配合,而目前韩国和日本都各有起码一种银浆可供选择,而我们亦是这只韩国银浆的国内代理商。
- 樱井丝纲印刷机的独特 “零纲距” 对比 “沿用平枱机” 一般纲版的使用寿命以倍计延长, (长远计可节省大量金额的纲版经费.),
- 一台 “樱井丝纲印刷机” 可印制不同线路. 也可扩大每片ITO的印刷银线路排版面积,
- 提高产能有极大帮助. (或印刷不同的印刷品, 使用长远性高.)
4. 51Touch:触摸屏技术不断改进,推动对生产设备的要求越来越高,顺应市场需求而生的诸多印刷设备也日渐精密,请问利满洋行的产品有哪些特色?
利满洋行:使用樱井滚筒网印机的目的是印银引线,一般情况下L/S 80/80um可应付大部分要求,但随着越来越细的要求,现今L/S 40/40um已渐趋普遍。樱井滚筒网印机的特色是不需要触摸屏生产商去芜存箐地把既有的触摸屏生产工艺彻底改变,不需要重新大量投资购买新设备,不需要重新培训新人以适应新技术等等重大决策和改变;相反,樱井滚筒网印机可继续使用厂内原有网印班子,利用滚筒网印原理增加印刷面积,同时还可以大大降低网版开支;另外,樱井滚筒网印机的设计能够满足比现在市场一般要求更高的成品要求,所以触摸屏厂能够充分利用樱井滚筒网印机的潜在设计能力接受更高要求,更多附加值的订单,以此来提高自身的毛利率,赚取更多利润。
- 可沿用 “丝纲印刷制程”, 而不用改变现有生产流程/物料, 便可去作日后量产工序。
8. 51Touch:作为一个外资公司,利满洋行怎样解决售后服务的问题?
利满洋行:目前,樱井网印机销往中国大陆已经超过500台 (过去主要用于烟包、酒瓶包盒、胶彩盒、陶瓷器花纸、衣物转印花纸,各行业等, 利满洋行代理“樱井”网印机已有超过二十五年的历史) ,利满洋行在中国大陆聘用专业技术团队主理售后服务,如有维修需要,专业售后团队将以最快速度到客户处维修处理,分销商亦协助同步跟进。
1. 51Touch:请先介绍一下利满洋行的发展历程。
利满洋行:自1978年在香港成立以来,利满洋行积极并持续地和国外著名厂家合作, 引入高品质的电子产品制造用工业材料,初期集中于薄膜开关相关材料,如导电油墨、胶片等。最近十年随着手机、手提电脑、导航等电子产品相关的触摸屏材料需求强劲,我们代理的产品亦随之包括多样的高效能片材及薄膜、光扩散片、特别用途的高性能油墨, 高性能导电银浆;用在电子数码外观装饰用的高品质工业薄膜及油墨;LCD/LED行业用的高品质光学膜、优质增光片, 以及丝网领域的印刷机器及整套工艺与设备等。
中国触摸屏网独家专访利满洋行李志行经理: 关于TP厂家选择黄光制程和印刷制程的几点建议.
中国触摸屏网小记特别对利满洋行李志行经理(下图左起第一位)进行了采访。利满洋行李志行经理是一位从事了印刷工艺10多年的资深专家,今天为大家分享关于黄光制程和印刷制程的专业看法,希望对触摸屏行业者选择黄光制程和印刷制程有所帮助。
3.) 制程设备投资 与 长远使用性风险评估.
黄光制程是30多年前由MEMS 开始在半导体业界采用,20多年前TFT LCD厂家也开始使用,后来应用面扩展到PV 和TP,相对于PV 和TFT , TP结构比较有多变的空间,尤其各品牌都追求薄和轻,这趋势都直接引伸出不同的工艺模式,高昂的黄光制程投资额使投资风险一直成为决策的最大障碍。在国内TFT 用黄光也不到10年,TP就更不用说了,但网印在国内累积了大量经验和人材,而TP厂的网印技术与人才皆是公司的重要资产, 企业投资在现成和累积的资产上,使它延伸及增值,对长线企业发展最为有利。简单而言, 黄先制程只能用于单一特定制品制程, 过程中也可能需网印机配合, 樱井网印机 则可印刷 银线路、背保胶、绝缘油墨、面板装饰用胶片…..等是台 “长远发展” 的所需设备.
2. 51Touch:香港利满洋行于今年在无锡设立分公司,利满洋行在市场中的表现如何?
利满洋行:利满洋行虽然今年才在无锡设立分公司,但是利满洋行并不是大陆触膜屏行业的新来者,利满洋行在过去的三十多年都是通过大陆可靠、有实力的分销商把产品销往最终用户或者最终用户直接与我们联系达成购买协议。
黄光制程 vs 印刷制程
二、黄光制程与滚筒网印 的投资评估比较.
1.) 黄光制程设备投资成本昂贵.
- 黄光制程投资额由RMB 20M-70M不等,如卷对卷制式更不止此数,
- 上下游工序、材料均须另作配合,
- 樱井滚筒机的投资额相对是小巫见大巫了。
3. 51Touch:要顺利进军大陆市场,需要企业有自己的特色,在产品技术及市场战略都有自己的特点,请问利满洋行以何占有一席之地?
利满洋行:利满洋行从事丝网印刷起家,无论是薄膜开关还是触摸屏生产工艺中都离不开网印,网印就是把不同材料汇聚在同一基材上,这不仅仅是对材料本身有要求,更是对所使用的设备有要求,所需的不仅仅是产品知识这么简单而是需要更多实际的应用经验。正是这种丰富的行业经验本钱加上代理行业内顶尖产品如樱井滚筒机才令我们和TP大厂交流时能够从容应对,提供满足用户需求的完整解决方案,在与最高技术总监沟通交流中减少时间浪费,增加成功机会。
9. 51Touch:您如何看待中国的丝网印刷设备市场?
利满洋行:触摸屏厂商对新事物、新技术的接受能力非常高,这有利于触摸屏行业发展。外国多经济低迷,目前中国成为设备供应商目标,预料这种情况将令中国的丝网印刷设备市场百花齐放。
10. 51Touch:根据我们的了解,未来触摸屏的网版印刷的电机回路的线条宽幅是30um甚至是10um,利满洋行将如何面对未来的挑战?
利满洋行:这“樱井印刷机” 对触摸屏厂日后制作精细银线路, 可用直接印刷制程, 相对比“平枱机”, 将会有更多的优势:
- 樱井机的独特 “零纲距” 对比 “沿用平枱机” 一般纲版的使用寿命以倍计延长, (长远计可节省大金额的纲版支岀.);
- 一台 “樱井机” 可印制不同线路. 也可扩大每片ITO的印刷银线路排版面积, 对提高产能有帮助;
11. 51Touch:利满洋行主要从事滚筒印刷制程,是这方面的专家,请您就目前黄光制程和滚筒印刷制程的区别做一个详细的介绍吧。
利满洋行:黄光制程和滚筒印刷制程就印刷制程而言,在成本和工艺上还是有很大区别的,我这里有一个比较详细的描述与大家分享一下:
一、TP厂 : 黄光制程 vs 印刷制程
2.) 黄光制程设备占地面积较大, 影响生产厂使用的灵活性.
任何工厂需要生产安排的灵活性,纵使黄光制程有其优点,而优点往往从接“大单“中才能反映出来,因其制程必须使用一定的蚀刻用化学剂,TP工厂接单的“单头量”直接影响每件成本,而现今电子产品讲求多花样,推陈出新是生存之道,所以TP厂的灵活性不是任何先进生产方式可以代替的。樱井滚筒机设备摆放也不需要特定的楼层/位置, 而生产时只需要换网板就能马上生产不同尺寸的型号机种了。
4.) 投资设备后, 产生剂和的使用是不可避免的,而随之而来的是满足日渐严格的环保条例,花钱投资废水处理设备;增加人手、付出时间与官员周旋是少不了的。引入樱井网印机 则基本没有任何影响。
三、黄光制程 vs 印刷制程 (简单总结)
利满洋行:触摸屏技术确实是一日千里,发展趋势将不会是简单的朝一个方向,例如,银引线越细其实会产生额外的一些技术问题,10um线宽未必是优势。当然,最重要是触摸屏设备厂商的研发需要紧随着触摸屏厂商的要求而相应调整,在这方面,利满洋行与日本樱井公司经过二十年的合作,利满洋行对日本樱井公司抱有很大的信心,利满洋行相信在日本樱井公司的大力支持下,利满洋行能够提供满足触摸屏厂商要求的高性能产品。
触摸屏黄光制程介绍
高精度网印制版及印刷技术是触摸屏制程中的核心技术,随着触摸屏市场的迅猛发展,对触摸屏生产成本和技术的要求也越来越高,谁的成本低、技术精,谁就能抢先占领市场,这同时也给触摸屏厂家就选择什么制程更能符合公司长远发展提出了疑问,那么触摸屏厂家到底是选择黄光制程还是印刷制程呢?
6. 51Touch:利满洋行的设备主要应用范围是什么?
利满洋行:樱井滚筒网印机连续印刷满意情况下,可印L/S 40/40um 银引线;正因为它是一部网印机,用户是可以利用它做一般网印机的工作。
7. 51Touch:持续降低成本是占有市场的有力武器,利满洋行在成本控制方面有哪些经验?
- 直接印刷, 则不用考虑/担心使用其它制程的导入成本高,
- 如 “黄光制程” 会受到 特定物料 限制 (镀有金属的ITO) 成本高, 供货商选择不多,
- 水/电耗能..化学废料污染…环境处理费.. 等等的限制与困扰。
- 日后所产生的其它费用支出会较难预估….
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