3.2.P.5.5杂质谱分析模板的整理

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相关规定

2 克/天

结合上述反应过程对杂质谱进行分析，主要分起始物料引入杂质，反应杂质，降解杂

质等。

第一部分：起始物料引入的杂质分析（比如头孢克洛的起始物料7-ACCA引入的杂质）

N S

OH O

O

NO 2

O

H N O

C 22H 19N 3O 7S MW: 469.47

O

C 16H 17KN 2O 4S MW: 372.48

Br

2

+

O

2

MW: 469.51

C 7H 6BrNO 2MW: 216.0322

C 23H 23MW: 485.51

N S N H H

OH O

O

2

O

C 22H 19N 3O 6S MW: 453.47

CH 2Cl 2/TEBAC TsCl

morpholine

N

S N H

H

N O

O

NO 2O

O

C

26H 26N 4O 6S MW: 522.57

1) Br 2-pyrindine

CH 2Cl 22

2C 14H 1235MW: 406.00

HCl 1) (PhO)3P/CH 2Cl 2

2) N,N-dimethyl aniline, PCl 5 i BuOH

Na 2S 2O 42H 2C 7H 7ClN 2O 3S MW: 234.66

1、无机杂质：说明引入情况和消除渠道；以及相关的控制方法和标准以及依据。比如上述列表中的钯元素控制。

2、普通有机杂质。

3、对映异构体（根据品种的情况具体分析）；考察不同的对应异构体对最终产品质量的影响情况。

4、

非对映异构体：比如ACCA 的△异构体；还包括非对应异构体自身的各种对映体。

第二部分：反应的每个步骤引入的杂质：需要结合实际反应监控（HPLC ，LC-MS 为主）过程对杂质消除过程以及对后续的影响进行实际说明。这个容主要在工艺描述部分进行，本部分引用工艺描述容。 1、步骤1引入的杂质。 2、步骤2引入的杂质。

3、步骤3引入的杂质。以及后续的步骤产生的杂质以及消除过程和简单的控制描述……

4、

精制过程引入的杂质。

第三部分：结合小试中试数据汇总列表、方法适用性、实际检测结果等容说明各个有机杂质的分布情况。

第四部分：潜在杂质在成品中的检测结果

第五部分：自制原料与原研片杂质对比：

行对比性说明。

第六部分：制剂中的特定杂质：主要分析制剂与原料药储存过程中降解产生的杂质，以及因为辅料和原料药相容性而产生的特定杂质：比如纤维素类的曼德拉反应产生的杂质等。

储存降解产生的杂质包括酸碱氧热光降解杂质，空气中水分造成的水解杂质，或者跟空气中二氧化碳反应产生的杂质。

1.说明各杂质的限度：

****杂质阈值（举例）

2. 3.2.P.5.5.1潜在杂质的推测

由****公司提供**原料药简单工艺路线，分析整理本品的杂质见下表。

表3.2.P.** ，-------------潜在杂质推测

3.潜在杂质特征的鉴定

a)原料合成过程带入的相关杂质特征的鉴定

由厂家提供的原料药合成过程中所用的起始原料及各步中间产物的色谱行为和紫外光谱特征进行汇总分析，初步鉴定注射用头孢地嗪钠成品中原料合成过程中带入的杂质。起始原料及各步中间产物鉴定特征如下表：

表3.2.P.5-X ****原料合成过程相关杂质特征鉴定

b)注射用头孢地嗪钠强制降解试验中杂质的特征鉴定

试品与对照品强制降解试验

表3.2.P.** 热破坏试验主要降解产物色谱信息

表3.2.P.5-50 酸破坏试验主要降解产物色谱信息

表3.2.P.5-51 碱破坏试验主要降解产物色谱信息

表3.2.P.5-52 氧化破坏试验主要降解产物色谱信息

表3.2.P.5-53 光照破坏试验主要降解产物

4.制剂杂质列表

a)以列表的方式列明产品中可能含有的杂质，分析杂质的产生来源，结合相关

指导原则要求，对于已知杂质给出化学结构并提供结构确证资料，并提供控制限度。

杂质的结构和种类的鉴定在其他模块或者附件中体现。按照以前惯例，自制杂质的结构确认是通过工艺描述加氢谱确认即可，特殊的需要提供其他佐证手段。外购杂质的结构确认一般是要提供完整的结构鉴定谱图。

b)说明各杂质在最终质量标准中是否进行控制以及控制的限度，并提供充分的

依据。