线缺陷面缺陷
晶格的缺陷
晶格的缺陷晶格的缺陷是指晶体结构中存在的各种不完美或异常的位置或排列。
这些缺陷对晶体的物理、化学性质以及材料的性能都会产生重要影响。
本文将从点缺陷、线缺陷和面缺陷三个方面，介绍晶格缺陷的种类、产生原因以及对材料性能的影响。
一、点缺陷1. 点缺陷是指晶体中原子或离子的位置发生变化或缺失。
常见的点缺陷有原子间隙、空位、间隙原子、杂质原子等。
2. 原子间隙是指晶体中存在的原子无法占据的空间，通常是由于晶格结构的不完美而形成。
原子间隙的存在会导致晶体的密度降低，同时对电子和热的传导产生影响。
3. 空位是指晶体中原子位置上缺失了一个原子。
空位会导致晶格的局部变形，降低晶体的机械强度和热稳定性。
4. 间隙原子是指晶体中存在的非晶体或空气中的原子进入了晶体中的间隙位置。
间隙原子的存在会改变晶体的电子结构和热导率。
5. 杂质原子是指晶体中存在的与晶格原子不同种类的原子。
杂质原子的加入会改变晶体的导电性、磁性以及光学性质。
二、线缺陷1. 线缺陷是指晶体结构中存在的一维缺陷，通常是晶体中原子排列发生错位或缺失。
2. 赝位错是指晶体中两个晶格面之间的原子排列发生错位，即晶体中的原子位置发生了偏移。
赝位错会导致晶体的机械强度下降，同时也会引起晶体的局部形变。
3. 堆垛错是指晶体中两个晶格面之间的原子排列发生缺失或添加。
堆垛错会导致晶体局部的结构畸变，进而影响晶体的热稳定性和电子传导性能。
4. 螺错是指晶体中原子排列沿晶体的某一方向发生了扭曲，形成了一种螺旋形的缺陷。
螺错会导致晶体的机械强度下降，同时也会引起晶体的局部形变。
三、面缺陷1. 面缺陷是指晶体结构中存在的二维缺陷，通常是晶格面的错位、缺失或添加。
2. 晶界是指晶体中两个晶粒之间的界面。
晶界是晶体中最常见的面缺陷，其形成原因包括晶体生长过程中的结晶不完全以及晶体在变形过程中的再结晶。
晶界会对晶体的力学性能、电学性能以及化学反应产生显著影响。
3. 双晶是指晶体中存在两个晶界的结构。
晶体缺陷和材料性能
晶体缺陷和材料性能晶体缺陷是一种常见的材料学现象，它能够影响材料的力学、电学、热学等性能。
在材料科学中，深入了解晶体缺陷对材料性能的影响是非常重要的。
本文将介绍晶体缺陷的种类和其影响力学、电学、热学性能的机制。
一、晶体缺陷的种类晶体缺陷通常可以分为点缺陷、线缺陷和面缺陷三种：1.点缺陷：最简单的点缺陷是晶格中离子交换，如阴离子被阳离子占据。
空穴和插入的离子也属于点缺陷。
空穴是空出一个或多个原子位置的缺陷，它们造成晶体中电子和磁性的变化。
插入的离子是不同元素的原子，它们插入到晶体中取代其它原子位置。
2.线缺陷：线缺陷是晶格中的一条线，它与晶体中其它原子排列方式不同。
位错是最常见的线缺陷。
每个位错都是从一个或多个失配的原子重叠开始，其结果会改变晶体的物理特性。
3.面缺陷：面缺陷是晶体表面的缺陷，如晶界和小角度晶界。
晶界是两个或多个晶体的边界，它们对材料的物理和化学性质有很大影响。
小角度晶界也是晶界，它是两个晶体在晶界处缓慢旋转而形成的。
由于晶界存在，会导致晶体的力学和电学性质发生改变。
二、晶体缺陷对材料性能的影响晶体缺陷能够影响材料的力学、电学、热学等性能。
下面将介绍晶体缺陷对各种性能的影响机制：1.力学性能：晶体缺陷会影响材料的塑性、强度和韧性等机械性能。
在弹性形变的情况下，位错和其他线缺陷产生的内应力可以改变晶体的力学性质。
当材料受到应力时，点缺陷会导致晶体内部出现位移和形变。
靠近晶体表面的缺陷，比如晶界和表面缺陷，可以作为裂纹的萌芽点，从而引起材料的断裂。
2.电学性能：电学性能是指材料的导电性、电阻率等性质。
晶体缺陷可以对材料的电学性能产生显著影响。
二硫化钼（MoS2）是一种典型的半导体，在晶体中的点缺陷和线缺陷会导致其导电性变得更好或更差。
此外，晶体缺陷还可以影响材料的光谱特性、介电常数和色散等方面的性质。
3.热学性能：晶体缺陷还可以影响材料的热学性能，如热容量、导热性等。
点缺陷和线缺陷可以改变晶体的热传导和物理吸收特性。
线缺陷和面缺陷
线缺陷和面缺陷在材料科学和工程中，缺陷是指材料在制造、加工或使用过程中出现的各种不规则形态。
这些缺陷可能影响材料的性能，如强度、电导率、热导率等。
根据存在的范围，缺陷可以分为线缺陷、面缺陷和体缺陷。
以下是关于线缺陷和面缺陷的详细解释。
一、线缺陷线缺陷是指沿着材料某一特定方向（通常是晶体结构中的某一方向）分布的缺陷。
这种缺陷可以在晶体内任何位置出现，影响材料的力学、电学和热学性能。
常见的线缺陷包括位错和层错。
1.位错位错是指晶体中某处的原子或离子偏离了正常的晶格位置，形成了一个“线状”的缺陷。
位错是金属材料中最常见的一种缺陷，它对材料的强度、硬度、塑性和韧性等力学性能都有重要影响。
根据形成机制，位错可以分为刃型位错、螺型位错和混合位错等。
2.层错层错是指晶体中相邻的两个原子平面之间出现的错位。
它通常发生在两个不同原子面的交界处，对材料的力学和电学性能有很大影响。
层错的形成与材料中的温度、压力和杂质等因素有关。
二、面缺陷面缺陷是指分布在材料表面或近表面的缺陷。
这类缺陷对材料性能的影响主要表现在表面效应和界面效应上。
常见的面缺陷包括晶界、相界和表面粗糙等。
1.晶界晶界是指多晶体材料中相邻晶粒之间的界面。
由于不同晶粒的晶体取向不同，晶界处会产生一定的应力集中。
晶界对材料的力学性能、电学性能和热学性能都有一定影响。
为了提高材料性能，可以通过优化晶粒尺寸和分布来减少晶界数量。
2.相界相界是指多相材料中不同相之间的界面。
相界处的原子结构和化学成分往往与主体材料不同，导致其性能具有各向异性。
相界对材料的力学性能、电学性能和热学性能都有重要影响。
优化相界结构可以提高材料的综合性能。
3.表面粗糙表面粗糙是指材料表面或近表面的微观不平整性。
它可能是由于加工过程中冷却速度不均匀、材料氧化等原因导致的。
表面粗糙会影响材料的表面能、润湿性、涂层附着力和摩擦学性能等。
通过表面处理技术（如抛光、喷砂等）可以改善表面粗糙度，提高材料的性能。
点线面缺陷
密度的变化： 简单地考虑肖脱基空位。 密度的变化： 简单地考虑肖脱基空位。空位的形 使得体积增加，由此而将引起密度的减小。 成，使得体积增加，由此而将引起密度的减小。
过饱和点缺陷（如淬火空位，辐照， 过饱和点缺陷（如淬火空位，辐照，塑性变形产生的大 量间隙原子-空位对）还可以提高金属屈服强度。 量间隙原子-空位第 三 节 原 子 的 不 规 则 排 列
(14)
• •
1.3.2.1 位错的基本类型 (2)螺型位错：左螺型位错、右螺型位错 螺型位错： 螺型位错 左螺型位错、 螺位错具有如下的几何特征： (1)螺位错线与其滑移矢量d平行，故纯螺位错只能是 直线。 (2)根据螺旋面的不同，螺位错可分左和右两种，当 螺旋面为右手螺旋时，为右螺位错，反之为左螺位错。 (3)螺位错没有多余原子面，它周围只引起切应变而 无体应变。
(11)
刃型位错的几何特征： 刃型位错的几何特征： (1)位错线与其滑移矢量 垂直，刃型位错可以为任意形 位错线与其滑移矢量d垂直 位错线与其滑移矢量 垂直，刃型位错可以为任意形 状的曲线。 状的曲线。 (2)有多余半原子面。 有多余半原子面。 有多余半原子面 习惯上， 习惯上，把多余半原子面在滑移面以上的位错称为 正刃型位错，用符号“ 表示，反之为负刃型位错， 正刃型位错，用符号“┻”表示，反之为负刃型位错， 表示。 用“┳”表示。刃型位错周围的点阵畸变关于半原子 面左右对称。 面左右对称。
(19)
P 11 12 13Q
O 8 9 10
76 5
4
P 12 13 Q 11
N 3 2 1 M
§1.3.2 线缺陷
第 三 节 原 子 的 不 规 则 排 列 1.3.2.2 柏氏矢量 （1）确定方法 ） a 在位错周围沿着 点阵结点形成 右螺旋的封闭 回路。（柏氏 回路） 回路） b 在理想晶体中按 同样顺序作同 样大小的 样大小 的 回路 。 c 在理想晶体中从 终点到起点的 矢量即为柏氏 矢量。 矢量。 1 2 3 1 2 3 4 4 3 2 1 2 1 1 1
晶体的结构缺陷精简
形成原因
点缺陷
由于晶体中原子或分子的缺失、多余 或错位，导致局部的原子排列异常。 常见的点缺陷包括空位、间隙原子和 替位式杂质等。
线缺陷
面缺陷
晶体中原子或分子的平面排列异常， 如晶界、相界和表面等。
晶体中由于原子或分子的排列不连续 而形成的线性异常区域，如位错。
对晶体性质的影响
物理性质
晶体结构缺陷可以影响晶体的热 学、光学、电学和磁学等物理性 质。例如，金属导体的电阻率会
03
线缺陷
位错概念
位错
晶体中某处有一列或若干列原子 发生了有规律的错排或缺失，从 而使晶体结构发生畸变，这种畸 变可以延伸到相当远的区域，称
为位错。
位错线
位错延伸的方向称为位错线，其 运动方向与位错线垂直。
柏氏矢量
描述位错特征的矢量，其大小表 示位错的大小，方向表示位错线
的方向。
位错类型
刃型位错
肖脱基缺陷
总结词
肖脱基缺陷是由于晶体表面上的原子 迁移到内部而形成的表面空位。
详细描述
在晶体表面，原子由于热运动或其他 原因迁移到晶体内部，留下表面空位 。这种缺陷通常在高温或高真空条件 下形成。
间隙原子与空位
总结词
间隙原子和空位缺陷是由于原子或分子的位置偏离正常格点 而形成的。
详细描述
间隙原子是指原子进入晶格间隙位置，而空位则是在正常格 点位置上形成的空位。这两种缺陷对晶体的物理和化学性质 产生影响。
表面缺陷在半导体器件、光电 子器件、催化等领域有重要应 用，例如表面改性、表面增强 拉曼散射等。
05
体缺陷
沉淀与固溶体
沉淀
当晶体内部某些组分由于过饱和而析出，形成与基体不同的相，即为沉淀。
晶体缺陷类型
晶体缺陷类型晶体缺陷是指晶体中存在的原子或离子排列不规则或异常的现象。
晶体缺陷可以分为点缺陷、线缺陷和面缺陷三种类型。
一、点缺陷点缺陷是晶体中原子或离子位置的局部不规则，主要包括空位、间隙原子和杂质原子。
1. 空位空位是指晶体中原子或离子在其晶体格点上的位置空缺。
晶体中的空位可以通过热处理、辐射或化学反应形成。
空位的存在会降低晶体的密度和电子迁移率，影响材料的性能。
2. 间隙原子间隙原子是指晶体中原子或离子占据晶体格点之间的空隙位置。
间隙原子的存在会导致晶体的畸变和疏松，影响材料的机械性能和导电性能。
3. 杂质原子杂质原子是指晶体中非本原子或离子替代晶体中的原子或离子。
杂质原子的存在会改变晶体的导电性、光学性质和热稳定性。
常见的杂质原子有掺杂剂、杂质原子和缺陷聚集体。
二、线缺陷线缺陷是晶体中原子或离子排列沿着一条线或曲线出现的不规则现象，主要包括位错和螺旋线缺陷。
1. 位错位错是晶体中原子或离子排列的一种不规则现象，可以看作是晶体中某一面上原子排列与理想晶体的对应面上的原子排列不匹配。
位错的存在会导致晶体的畸变和塑性变形，影响材料的力学性能。
2. 螺旋线缺陷螺旋线缺陷是晶体中原子或离子排列呈螺旋状的一种不规则现象。
螺旋线缺陷的存在会导致晶体的扭曲和磁性变化，影响材料的磁学性能。
三、面缺陷面缺陷是晶体中原子或离子排列在一定平面上不规则的现象，主要包括晶界和堆垛层错。
1. 晶界晶界是晶体中两个晶粒之间的交界面，是晶体中最常见的面缺陷。
晶界的存在会影响晶体的力学性能、导电性能和晶体的稳定性。
2. 堆垛层错堆垛层错是晶体中原子或离子排列在某一平面上的堆垛出现错误的现象。
堆垛层错的存在会导致晶体的畸变和位错密度增加，影响材料的机械性能和热稳定性。
总结：晶体缺陷是晶体中存在的原子或离子排列不规则或异常的现象。
根据缺陷的不同类型，晶体缺陷可以分为点缺陷、线缺陷和面缺陷。
点缺陷主要包括空位、间隙原子和杂质原子，线缺陷主要包括位错和螺旋线缺陷，面缺陷主要包括晶界和堆垛层错。
点缺陷线缺陷面缺陷名词解释
点缺陷线缺陷面缺陷名词解释嘿，你知道吗，点缺陷、线缺陷和面缺陷可真是材料世界里超级重要的概念呢！咱就先来说说点缺陷吧，就好比一个大集体里少了个关键人物，这就是点缺陷啦！比如说在晶体里，某个原子该在那的，结果不在了，或者多了个不应该在那的原子，这就是点缺陷呀！你想想看，一个好好的拼图，突然少了一块或者多了一块，那整个画面不就不完整或者变奇怪了嘛！
再讲讲线缺陷，就像是一条道路上出现了个大裂缝或者多了条不该有的线一样。
在晶体中呢，就是位错啦！这线缺陷可不得了，对材料的性能影响老大了呢！好比一个团队的运行线路出了问题，那整个工作流程不就乱套啦！
然后呢，就是面缺陷啦！这就好像一幅画的表面有个大划痕或者有块颜色不一样的区域。
在晶体中，晶界、相界这些都是面缺陷呀！你想想，如果一面墙有个大裂缝，那能坚固吗？面缺陷也是同样的道理呀，会影响材料好多方面的性能呢！
哎呀，这些点缺陷、线缺陷和面缺陷，不就跟我们生活中的各种小状况一样嘛！少了个关键东西，道路出问题，或者表面有瑕疵，都会带来影响呢！它们在材料科学里可是至关重要的，搞清楚它们，才能更好地研究和利用材料呀！所以说，一定要好好理解它们，才能在材料的世界里畅游无阻呀！我的观点就是，点缺陷、线缺陷和面缺陷是材料学中非常基础且关键的概念，必须要深入了解和掌握呀！。
晶体缺陷
一、概述1、晶体缺陷：晶体中原子（离子、分子）排列的不规则性及不完整性。
种类：点缺陷、线缺陷、面缺陷。
1) 由上图可得随着缺陷数目的增加，金属的强度下降。
原因是缺陷破坏了警惕的完整性，降低了原子间结合力，从宏观上看，即随缺陷数目增加，强度下降。
2) 随着缺陷数目的增加，金属的强度增加。
原因是晶体缺陷相互作用（点缺陷钉扎位错、位错交割缠结等），使位错运动的阻力增加，强度增加。
3) 由此可见，强化金属的方向有两个：一是制备无缺陷的理想晶体，其强度最高，但实际上很难；另一种是制备缺陷数目多的晶体，例如：纳米晶体，非晶态晶体等。
二、点缺陷3、点缺陷：缺陷尺寸在三维方向上都很小且与原子尺寸相当的缺陷（或者在结点上或邻近的微观区域内偏离晶体结构正常排列的一种缺陷），称为点缺陷或零维缺陷。
分类：空位、间隙原子、杂质原子、溶质原子。
4、肖特基空位：原子迁移到晶体表面或内表面正常结点位置使晶体内形成的空位。
5、弗仑克尔空位：原子离开平衡位置挤入点阵间隙形成数目相等的空位和间隙原子，该空位叫做弗仑克尔空位。
6、空位形成能EV：在晶体中取出一个原子放在晶体表面上（不改变晶体表面积和表面能）所需的能量。
间隙原子形成能远大于空位形成能，所以间隙原子浓度远小于空位浓度。
7、点缺陷为热平衡缺陷，淬火、冷变形加工、高能粒子辐照可得到过饱和点缺陷。
8、复合：间隙原子和空位相遇，间隙原子占据空位导致两者同时消失，此过程成为复合。
9、点缺陷对性能的影响：点缺陷使得金属的电阻增加，体积膨胀，密度减小；使离子晶体的导电性改善。
过饱和点缺陷，如淬火空位、辐照缺陷，还可以提高金属的屈服强度。
三、线缺陷10、线缺陷：线缺陷在两个方向上尺寸很小，另外一个方向上延伸较长，也称为一维缺陷。
主要为各类位错。
11、位错：位错是晶体原子排列的一种特殊组态；位错是晶体的一部分沿一定晶面与晶向发生某种有规律的错排现象；位错是已滑移区和未滑移区的分界线；位错是伯氏矢量不为零的晶体缺陷。
单晶硅中可能出现的各种缺陷
单晶硅中可能出现的各种缺陷缺陷，是对于晶体的周期性对称的破坏，使得实际的晶体偏离了理想晶体的晶体结构。
在各种缺陷之中，有着多种分类方式，如果按照缺陷的维度，可以分为以下几种缺陷：点缺陷：在晶体学中，点缺陷是指在三维尺度上都很小的，不超过几个原子直径的缺陷。
其在三维尺寸均很小，只在某些位置发生，只影响邻近几个原子，有被称为零维缺陷。
线缺陷：线缺陷指二维尺度很小而第三维尺度很大的缺陷，也就是位错。
我们可以通过电镜等来对其进行观测。
面缺陷：面缺陷经常发生在两个不同相的界面上，或者同一晶体内部不同晶畴之间。
界面两边都是周期排列点阵结构，而在界面处则出现了格点的错位。
我们可以用光学显微镜观察面缺陷。
体缺陷：所谓体缺陷，是指在晶体中较大的尺寸范围内的晶格排列的不规则，比如包裹体、气泡、空洞等。
一、点缺陷点缺陷包括空位、间隙原子和微缺陷等。
1、空位、间隙原子点缺陷包括热点缺陷（本征点缺陷）和杂质点缺陷（非本征点缺陷）。
1.1热点缺陷其中热点缺陷有两种基本形式：弗仑克尔缺陷和肖特基缺陷。
单晶中空位和间隙原子在热平衡时的浓度与温度有关。
温度愈高，平衡浓度愈大。
高温生长的硅单晶，在冷却过程中过饱和的间隙原子和空位要消失，其消失的途径是：空位和间隙原子相遇使复合消失；扩散到晶体表面消失；或扩散到位错区消失并引起位错攀移。
间隙原子和空位目前尚无法观察。
1.2杂质点缺陷A、替位杂质点缺陷，如硅晶体中的磷、硼、碳等杂质原子B、间隙杂质点缺陷，如硅晶体中的氧等1.3点缺陷之间相互作用一个空位和一个间隙原子结合使空位和间隙原子同时湮灭（复合），两个空位形成双空位或空位团，间隙原子聚成团，热点缺陷和杂质点缺陷相互作用形成复杂的点缺陷复合体等。
2、微缺陷2.1产生原因如果晶体生长过程中冷却速度较快，饱和热点缺陷聚集或者他们与杂质的络合物凝聚而成间隙型位错环、位错环团及层错等。
Cz硅单晶中的微缺陷，多数是各种形态的氧化物沉淀，它们是氧和碳等杂质，在晶体冷却过程中，通过均质成核和异质成核机理形成。
固体物理课件4-1,2
第四章晶体的缺陷晶体缺陷的分类点缺陷线缺陷面缺陷理想晶体理想晶体：：结构基元结构基元严格按照空间点阵作周期性严格按照空间点阵作周期性排列排列。
实际晶体实际晶体：：晶体中的离子或原子总是或多或少的偏离了严格的晶体周期性偏离了严格的晶体周期性，，即存在着各种各样的结构的不完整性构的不完整性。
缺陷的含义缺陷的含义：：通常把晶体点阵结构中周期性势场的畸变称为晶体的结构缺陷畸变称为晶体的结构缺陷。
§4-1 晶体缺陷的基本类型分类方式分类方式：：几何形态几何形态：：点缺陷点缺陷、、线缺陷线缺陷、、面缺陷面缺陷、、体缺陷等形成原因形成原因：：热缺陷热缺陷、、杂质缺陷杂质缺陷、、非化学计量缺陷等一、点缺陷空位 间隙原子 杂质原子 色心基本缺陷形式基本缺陷形式（（热缺陷热缺陷））晶格中的填隙原子晶格中的填隙原子、、空位空位、、俘获电子的空位俘获电子的空位、、杂质原子等子等，，称为点缺陷称为点缺陷．．这些缺陷约占一个原子的尺寸这些缺陷约占一个原子的尺寸，，引起晶格周期性在一到几个原胞范围内发生紊乱引起晶格周期性在一到几个原胞范围内发生紊乱．．点缺陷是对晶体结构的干扰仅限于几个原子间距范围内的晶体缺陷的晶体缺陷，，缺陷尺寸处于原子大小的数量级上缺陷尺寸处于原子大小的数量级上，，即三维方向上缺陷的尺寸都很小维方向上缺陷的尺寸都很小。
空位和间隙原子是晶体中最小也是最基本的缺陷形式的缺陷形式。
热作用下热作用下，，完整晶体中会自发出现空位和间隙原子完整晶体中会自发出现空位和间隙原子，，这种本体性的结构缺陷称为本征结构缺陷。
杂质原子：根据出现位置不同分为替位杂质和填隙杂质。
杂质原子改变了晶体的化学成分杂质原子改变了晶体的化学成分，，称为化学点缺陷。
色心色心：：是一种非化学计量比引起的空位缺陷是一种非化学计量比引起的空位缺陷，，该空位能够吸收可见光使原来透明的晶体出现颜色够吸收可见光使原来透明的晶体出现颜色，，故称它们为色心点缺陷与材料的电学性质点缺陷与材料的电学性质、、光学性质光学性质、、材料的高温动力学过程等有关学过程等有关。
无机材料科学基础第三章晶体结构缺陷
（4）溶质原子（杂质原子）：
LM 表示溶质L占据了M的位置。如：CaNa SX 表示S溶质占据了X位置。 （5）自由电子及电子空穴：
有些情况下，价电子并不一定属于某个特定位置的原子，在光、电、热 的作用下可以在晶体中运动，原固定位置称次自由电子（符号e/ ）。同 样可以出现缺少电子，而出现电子空穴（符号h. ),它也不属于某个特定 的原子位置。
（5）热缺陷与晶体的离子导电性
纯净MX晶体：只有本征缺陷（即热缺陷） 能斯特－爱因斯坦（Nernst-Einstein）方程：
n k 2 e 2 z T [a 2cex k E c p ) T a ( 2a ex k E a p )T ]( n k 2 e 2 z T D
式中 D —— 带电粒子在晶体中的扩散系数； n —— 单位体积的电荷载流子数，即单位体 积的缺陷数。 下标c、a —— 阳离子、阴离子
离子晶体中：CaF2型结构。
从形成缺陷的能量来分析——
Schttky缺陷的形成能量小，Frankel 缺陷的 形成能量大，因此对于大多数晶体来说， Schttky 缺陷是主要的。
（4） 点缺陷对结构和性能的影响
• 点缺陷引起晶格畸变(distortion of lattice),能量升 高，结构不稳定，易发生转变。
晶体的结构晶格与晶体缺陷
晶体的结构晶格与晶体缺陷晶体是由具有规则排列的原子、离子或分子构成的固态物质。
晶体结构的产生与晶格有着密切的关系，晶体缺陷则是晶格中存在的非完美的部分。
本文将依次介绍晶体的结构晶格以及晶体缺陷的相关内容。
一、晶体的结构晶格晶体的结构是由晶格确定的。
晶格是指在空间中规则排列的点阵或周期性结构。
不同的晶体结构有不同的晶格类型，最常见的晶格类型是立方晶格、六方晶格、四方晶格等。
1. 立方晶格立方晶格是最简单的晶格类型之一，它具有等边、等角的特点。
立方晶格可分为面心立方晶格、体心立方晶格和简单立方晶格。
其中，面心立方晶格具有最高的密堆率，每个原子周围都密集地包围着12个相邻的原子。
2. 六方晶格六方晶格是由一个六边形晶胞构成，其顶角分别为120度和60度。
六方晶格是较为常见的晶格类型，许多金属和陶瓷材料都具有这种结构。
3. 四方晶格四方晶格是晶格的一种，具有和立方晶格相似的特征，但其在z轴方向上具有不同的长度。
二、晶体缺陷及其分类晶体缺陷是指晶体中存在的非完美的部分，可以分为点缺陷、线缺陷和面缺陷三种类型。
1. 点缺陷点缺陷是指晶体中由于原子或离子的位置发生变化而产生的缺陷。
常见的点缺陷有原子空位、杂质原子和间隙原子等。
- 原子空位是指晶体中存在不被原子占据的空位，其产生原因可以是晶体生长过程中的缺陷或中子轰击等因素。
- 杂质原子是指进入晶体中的与主要晶体原子不同的原子。
杂质原子的存在可以影响晶体的导电性、光学性能等特性。
- 间隙原子是指位于晶体原子间隙处的原子，其存在可以引起晶格的畸变和物理性质的变化。
2. 线缺陷线缺陷是指沿晶体表面或晶体内部存在的缺陷线。
常见的线缺陷有位错、脆性裂纹和位移等。
- 位错是指晶体中原子排列出现的错位或位移，常见的有边界位错、螺位错和混合位错等。
- 脆性裂纹是晶体中的裂纹缺陷，由于内部应力超过晶体的强度而导致裂纹的产生和扩展。
- 位移是晶体中原子在晶体平面方向上的滑移或背斜，它对晶体材料的塑性形变和变形行为有着重要影响。
线缺陷面缺陷PPT.
点线面缺陷
第 三 节 原 子 的 不 规 则 排 列
(1)
晶体缺陷以一定的形态 存在 产生、 晶体缺陷以 一定的形态存在 ， 按 一定规律 产生 、 发展 、 一定的形态 存在， 一定规律产生 发展、 运动和交互作用。 运动和交互作用。 晶体缺陷： 晶体缺陷 ： 晶体中原子偏离其平衡位置而出现的不完 整性区域。 整性区域。 晶体缺陷分类： 晶体缺陷分类： 点缺陷： 在三维空间各方向上尺寸都很小的缺陷 。 如 点缺陷 ： 在三维空间各方向上尺寸都很小的缺陷。 空位、间隙原子、异类原子等。 空位、间隙原子、异类原子等。 线缺陷： 在两个方向上尺寸很小， 线缺陷 ： 在两个方向上尺寸很小 ， 而另一个方向上尺 寸较大的缺陷。主要是位错。 寸较大的缺陷。主要是位错。 面缺陷： 在一个方向上尺寸很小， 面缺陷 ： 在一个方向上尺寸很小 ， 在另外两个方向上 尺寸较大的缺陷。如晶界、相界、表面等。 尺寸较大的缺陷。如晶界、相界、表面等。
迁移到晶体表面或内表面的正常结点位置上， 迁移到晶体表面或内表面的正常结点位置上，而使晶体内部 留下空位，称为肖脱基 肖脱基(Schottky)空位； 空位； 留下空位，称为肖脱基 空位 二是挤入点阵的间隙位置， 二是挤入点阵的间隙位置，在晶体中同时形成数目相等的空 弗兰克尔(Frenkel)空位； 空位； 位和间隙原子，这种空位叫弗兰克尔 位和间隙原子，这种空位叫弗兰克尔 空位 跑到其它空位中，使空位消失或使空位移位。另外， 跑到其它空位中，使空位消失或使空位移位。另外，在一定 条件下， 条件下，晶体表面上的原子也可能跑到晶体内部的间隙位置 形成间隙原子。 形成间隙原子。
§1.3.1 点缺陷
第 三 节 原 子 的 不 规 则 排 列
(5)
1.3.1.3点缺陷对晶体性质的影响 点缺陷对晶体性质的影响 • • 晶格畸变 性能变化：电阻率增大、密度减小，屈服强度提高。 性能变化：电阻率增大、密度减小，屈服强度提高。
晶体缺陷的基本类型和特征
晶体缺陷的基本类型和特征
晶体缺陷是晶体中原子或离子位置的错误或不规则排列。
基本类型和特征包括以下几种：
1. 点缺陷：点缺陷是晶体中原子或离子缺失、替代或插入所引起的缺陷。
常见的点缺陷包括：空位缺陷（晶体中存在未被占据的空位）、插入缺陷（晶格中多余的原子或离子）、置换缺陷（晶体中某种原子或离子被其他种类的原子或离子替代）。
2. 线缺陷：线缺陷是沿晶体中某一方向的错误排列或不规则缺陷。
常见的线缺陷包括：位错（晶体中原子排列错误引起的错位线）、螺旋位错（沿着晶格某个方向成螺旋形排列的错位线）。
3. 面缺陷：面缺陷是晶体中平面上原子排列错误或不规则的缺陷。
常见的面缺陷包括：晶界（不同晶体颗粒的交界面）、层错（晶体中平行于某一层的错位面）。
4. 体缺陷：体缺陷是三维空间中晶体结构的错误或不规则排列。
常见的体缺陷包括：空间格点缺陷（晶体晶格中存在未被占据的空间）、体间隙（晶体中原子或离子占据不规则的空间位置）。
每种缺陷类型都有其特定的物理和化学性质，对晶体的电学、光学、磁学等性质都有影响。
因此，研究晶体缺陷对于理解晶体的结构和性质至关重要。
晶体结构与晶体缺陷
晶体结构与晶体缺陷晶体是物质的一种固态形态，具有有序的排列结构。
其内部的原子、离子或分子按照一定的规律排列，形成晶体的结构。
晶体结构对于物质的性质和应用具有重要影响。
然而，即使在完美的晶体中，也难免存在一些缺陷。
本文将以晶体结构与晶体缺陷为主题，介绍晶体的基本结构和常见的晶体缺陷，探讨它们对于晶体性质的影响。
一、晶体结构晶体结构是晶体内部原子、离子或分子的有序排列方式。
根据晶体结构的不同，可以分为几种常见的晶体类型，包括立方晶系、四方晶系、六方晶系、正交晶系、单斜晶系和三斜晶系等。
每种晶体类型都有其特定的晶体结构特征和晶胞参数。
晶体结构的基本单位是晶胞，晶胞是由若干个晶体格点组成的最小重复单元。
晶格点是表示晶体结构的点，晶格点的排列规则形成了晶体的结构。
晶体结构中有各种键的存在，包括离子键、共价键、金属键等，这些键的类型和强度直接影响晶体的性质。
二、晶体缺陷即使是在完美的晶体中，也不可避免地存在着各种缺陷。
晶体缺陷可以分为点缺陷、线缺陷和面缺陷三种类型。
1. 点缺陷点缺陷是晶体中原子、离子或分子的位置发生了偏离，形成了缺陷点。
常见的点缺陷包括晶格缺陷和间隙缺陷。
晶格缺陷是晶体中原子、离子或分子替换或缺失造成的缺陷。
替代缺陷发生在晶体中的一个位置被其他原子替换，导致原子数量和类型的改变。
缺失缺陷指的是晶体中的某个位置没有被原子、离子或分子占据。
间隙缺陷是晶体中晶格位置周围存在空隙或异位原子、离子或分子的缺陷。
空位缺陷是指晶格位置周围存在未被占据的空位，而异位缺陷则是指晶体中的某个位置被不同类型的原子、离子或分子占据。
2. 线缺陷线缺陷是晶体中原子、离子或分子排列出现错乱或断裂的缺陷，形成了缺陷线。
常见的线缺陷包括位错和蚀刻缺陷。
位错是晶体中晶面的错位，导致原子排列出现错乱的缺陷。
位错可以分为位错线和位错面，具有重要的力学、电学和光学性质。
蚀刻缺陷是晶体中由于外界因素（如化学蚀刻）导致晶体表面形成凹凸不平、出现凹陷或凸起的缺陷。
晶体缺陷类型
晶体缺陷类型一、点缺陷晶体中的点缺陷是指晶体结构中原子位置的缺失或替代。
常见的点缺陷有空位、间隙原子和杂质原子。
1. 空位空位是指晶体中某个晶格位置上原子缺失的现象。
晶体中的空位通常会导致晶体的物理性质发生变化，如导电性的改变。
空位的产生可以是由于晶体的生长过程中原子的缺失，也可以是由于晶体受到外界因素的影响而产生的。
2. 间隙原子间隙原子是指晶体结构中存在于晶格空隙中的原子。
间隙原子常见的有插入型间隙原子和取代型间隙原子。
插入型间隙原子是指一种原子插入了晶体结构的空隙中，而取代型间隙原子是指一种原子取代了晶体结构中原本占据该位置的其他原子。
3. 杂质原子杂质原子是指晶体结构中掺入的其他元素原子。
当晶体中的杂质原子的尺寸与晶体原子的尺寸相近时，杂质原子可能会占据晶格空隙，形成间隙型杂质。
而当杂质原子的尺寸与晶体原子的尺寸相差较大时，杂质原子可能会取代晶体结构中的原子，形成取代型杂质。
二、线缺陷晶体中的线缺陷是指晶体中某一维方向上存在的缺陷。
常见的线缺陷有位错和脆性裂纹。
1. 位错位错是指晶体中晶格的错位。
位错的存在会导致晶体的形变和力学性质的改变。
位错可以分为位错线、位错环和位错面，具体形态取决于晶体中晶格错位的类型和方向。
2. 脆性裂纹脆性裂纹是指晶体中的裂纹缺陷。
脆性裂纹通常是由于外界应力作用于晶体中产生的。
脆性裂纹的存在会导致晶体的强度降低和断裂现象的发生。
三、面缺陷晶体中的面缺陷是指晶体中某一面或界面的缺陷。
常见的面缺陷有晶界、孪晶和堆垛层错。
1. 晶界晶界是指晶体中不同晶粒之间的界面。
晶界的存在会导致晶体结构的变化以及晶粒的生长和晶体的形变。
2. 孪晶孪晶是指晶体中存在两个或多个晶格取向相近但并不完全相同的晶粒。
孪晶的存在会导致晶体的形变和物理性质的改变。
3. 堆垛层错堆垛层错是指晶体中原子堆垛顺序的错误。
堆垛层错的存在会导致晶体的物理性质发生变化，如磁性和导电性的改变。
总结：晶体中的缺陷类型包括点缺陷、线缺陷和面缺陷。
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2. 相比于刚性滑移，小距离的弹性偏移 容易实现。
1956年，晶体错位被实验观察所证实， 位错理论得到广泛接受。
透射电镜下观察到的位错线
3.3.2 位错的类型及性质
一、位错的类型
根据原子的滑移方向和位错线取向的几何 特征，位错可分为：
刃位错 螺位错 混合位错
悬空键
体相原子
（比）表面能： 晶体表面单位面积能量的增加。
表面能具有各向异性吗？原因？
悬空键
体相原子
表面具有易吸附性
纳米材料 催化… 团聚?
悬空键
体相原子
3.4.2 晶界
晶界两侧晶粒关系: 晶体结构相同 空间取向不同
一.晶界的结构
根据相邻晶粒的位向差，分为
小角度晶界 大角度晶界 共格界面 (特殊)
晶界上的原子同时位于两个晶体点阵的结 点上，为两部分所共有，这种形式的界面 称为共格界面。
铜合金中的孪晶
2. 所需能量不同， 攀移需要更大的能量；
3. 螺型位错没有攀移运动。
3.4 面缺陷
特定表面上晶体的平移对称性终止 或间断。 材料的表面
晶界
相界
3.4.1 晶体的表面
表面悬空键：
表面原子的另一侧无固体
中原子的键合，配位数少
,有空悬的化学键。
石墨烯片层示意图
表面悬空键对晶体的影响：
悬空键的存在，导致表面原子偏离正常位置， 并影响邻近的几层原子，造成点阵畸变，使 其能量高于晶体内部。
O N O
N
Q P M P
Q M
刃型位错柏氏矢量的确定 (a) 有位错的晶体 (b) 完整晶体
O
N
O
N
Q P M P
Q M
刃型位错柏氏矢量的确定 (a) 有位错的晶体 (b) 完整晶体
柏氏矢量
（4）这时终点 和起点不重合，由终点到 起点 引一矢量QM ，即柏氏矢量b。
柏氏矢量
螺型位错柏氏矢量的确定 (a) 有位错的晶体 (b) 完整晶体
1.刃型位错
（edge dislocation）
滑移面：ABCD 半原子面：EFGH 位错线：EF
位错线: EF, 晶体已滑移部分和未滑移部分的交线
刃位错:
EF线犹如砍入晶体的一把刀的刀刃
分类：
（1）正刃型位错 半原子面在滑移面上方. :
用 “ ┴” 表示
（2）负刃型位错: 半个原子面在滑移面下方.
二、位错的性质
1. 形状： 不一定是直线
位错及畸变区是 一条半径为3～4 个 原子间距的管道；
2. 位错不能中断于晶体内部。
在表面露头；终止于晶界和相界； 与其他位错相交；自行封闭成环。
3.3.3 位错的表征
--柏氏矢量 1. 柏氏矢量的物理意义
柏氏矢量， b，反映由位错引起的点阵 畸变大小的物理量。 （b越大，位错周围的点阵畸变越严重）
3. 柏氏矢量b的特征
b与起点的选择无关;与路径也无关。 b具有守恒性。 (一根不可分叉的任何形状的位错 只有一个b) 利用b 与位错线 t 的关系, 可判定位错类型。 b⊥t 刃型位错 螺型位错
b∥t
3.3.4 位错的运动
一、位错的易动性
位错为什么易动？
毛毛虫爬行
二、位错运动的方式
一般金属 理论切变强度：
τm=104~105 MPa 实际金属单晶： 1~10 MPa
实际晶体结构并非理想完整 晶体的滑移也并非刚性同步
切变强度值间的巨大 差异，使人们认识到:
1934年 Taylor、Polanyi、Orowan三人 τ 几乎同时提出晶体中位错的模型。
τ
τ
实测临界切应力低的原因？
大角度晶界示意图
晶界部分的原子排列尽管有其规律，但 排列复杂，暂以相对无序来理解。
共格界面
MgO 中 (310) 挛生面形成 有轻微错配的共格 的取向差为 36.8° 的共 界面上两侧晶体的某晶面具有相同的 界面 格晶界
原子排列，例如同一族的不同晶面。
共格孪晶界与非共格孪晶界
共格孪晶界与非共格孪晶界
2. 柏氏矢量的确定方法
（1）先确定位错的方向， （一般规定位错线垂直纸面
时，由纸面向外为正） 按右手法则做柏氏回路。
（2）在实际晶体中，避开位错附近的严重畸 变区作一闭合回路，回路每一步连结相 邻原子。
O
N
Q P M
刃型位错柏氏矢量的确定 (a) 有位错的晶体
（3）按同样方法在完整晶体中做回路。
2.攀移：
刃型位错在垂直于滑移面方向上的运动。 分类： 正攀移 ——原子面上移，空位加入
空位运动引起的攀移（正攀移）
负攀移 ——原子面下移，原子加入
间隙原子运动引起的攀移（负）
位错攀移的实质：
多余半原子面通过空位（原子）扩散而缩短( 或伸长)。 滑移与攀移的区别： 1. 运动方向不同； （平行/垂直 于滑移面）
1.滑移： 位错沿滑移面的移动。
刃型位错的滑移
位错运动到晶体表面时，整个上半部晶体 相对下半部 移动了一个柏氏矢量。
刃型位错的滑移
特征： 1.刃型位错滑移面唯一；
（螺位错可有多个滑移面）
2.晶体滑移方向与位错运动方向一致。
一. 位错运动与晶体结构的关系？
位错沿原子密排面及密排方向的运动最容 易。原子排列最紧密地平面被认为是滑移 面，最密排方向被认为是滑移方向。
1. 小角度晶界
相邻晶粒位向差θ很 小，一般小于10 。 结构： 小角度晶界基本上由 一系列刃位错组成。 特点： 晶界中位错排列越密， 则位向差愈大。
θ
小角度晶界示意图
2. 大角度晶界
相邻晶粒位向差较大， 一般大于10。 结构及特点： 不能用位错模型，关 于大角度晶界的结构 说法不一。 晶界可视为2—3(5)个 原子的过渡层。
用 “ ┬”
表示。
2. 螺型位错
C D
BC线以右为已滑移区，以左为未滑移区。
BC线两侧的上下 两层原子都偏离了 平衡位置，围绕着 BC连成了一个螺 旋线.
螺形位错 示意图
被BC线所贯穿的平 行晶面变成ຫໍສະໝຸດ BC线 为轴的螺旋面。分类：
左旋 :左手法则 右旋: 右手法则 拇指: 螺旋面前进方向 其余: 螺旋面旋转方向