离子镀膜 (PVD ) 技术和设备常见问题解答
pvd镀膜设备原理
pvd镀膜设备原理PVD镀膜设备，全称是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition）镀膜设备，是一种常用的薄膜制备技术。
它利用高能离子束或高温蒸发源将材料原子或分子蒸发，然后沉积在基底表面，形成均匀的薄膜。
PVD镀膜设备主要包括蒸发源、真空系统和基底台三个组成部分。
蒸发源是主要设备，通过加热材料使其蒸发，并产生高能离子束。
真空系统则能够提供高真空环境，以确保薄膜沉积的质量。
基底台则是放置待镀膜基底的位置。
PVD镀膜设备主要有以下几种工作原理：蒸发、溅射和离子镀。
蒸发是最常见的PVD镀膜技术之一。
蒸发源内的材料通过加热，使其蒸发并沉积在基底上。
蒸发源的加热方式有电阻加热、电子束加热和感应加热等。
蒸发源内的材料蒸发后形成蒸汽，蒸汽经过运输管道进入真空室，在高真空环境下，蒸汽与基底表面相遇，凝结成薄膜。
溅射是另一种常见的PVD镀膜技术。
在溅射过程中，材料源被离子束轰击，使其离子化并溅射出来，然后沉积在基底上。
溅射镀膜可以通过直流溅射、射频溅射、磁控溅射等方式进行。
溅射镀膜的薄膜均匀性更好，适用于复杂形状的基底。
离子镀是一种利用离子束轰击基底表面的技术。
在离子镀过程中，材料被加热并离子化，然后通过高能离子束轰击基底表面，使薄膜原子或分子沉积在基底上。
离子镀技术可用于提高薄膜的致密性和附着力。
PVD镀膜设备在各个领域有着广泛的应用。
在电子行业中，PVD技术可用于制备导电薄膜、光学薄膜和防腐蚀薄膜等。
在光学行业中，PVD技术可用于制备反射镜、透镜和滤光片等。
在装饰行业中，PVD 技术可用于制备金属涂层，增加产品的质感和美观度。
此外，PVD 技术还可用于制备硬质涂层、陶瓷涂层和生物医学涂层等。
总结起来，PVD镀膜设备是一种基于物理气相沉积原理的薄膜制备技术。
通过蒸发、溅射和离子镀等工作原理，能够在基底表面形成均匀致密的薄膜。
该技术在电子、光学、装饰等领域有着广泛应用，为产品的性能和外观提供了强大支持。
pvd真空等离子电镀
pvd真空等离子电镀好嘞，今天给大家聊一聊什么叫PVD真空等离子电镀。
别担心，听上去很高大上，其实一点也不复杂，咱们从头到尾通俗易懂的聊一聊，大家一定能听明白。
要是有点晕，放心，咱们慢慢来，轻松一点就能搞懂。
什么是PVD？这其实是“物理气相沉积”这四个字的缩写，听名字就有点意思对吧？你可以把它想象成是把金属薄薄的一层“喷”到另一种材料的表面。
怎么喷呢？通过真空环境，这样能保证过程中的各种杂质不干扰咱们的操作，完美保留原材料的特性。
是不是很像给手机贴膜那种感觉？只是咱们的“膜”是金属、合金啥的，这样东西就能看起来更闪亮、耐用，而且根本不容易被刮花。
想象一下，你的车子、手机，甚至一些厨具、医疗器械，也可能就用到了这种技术，让它们看起来既有高级感，又不容易磨损。
大家也许会想，“这真空等离子电镀到底能带来啥好处呢？”嗯，问题问得好。
真空电镀最大的好处，就是可以大大增强表面材料的硬度和耐磨性。
比如说，普通的金属表面可能不经用，稍微一碰就留个痕。
可用上PVD技术后，那表面就像穿上了坚不可摧的铠甲。
耐磨性提高了，抗腐蚀性也更强。
说白了，不管是高温、湿气、酸碱，PVD涂层都能有效抵挡。
这一手操作，简直让你想打个“火箭般”的钩子，衣服永远保持干净，玩儿得开心又不怕磕碰。
除此之外，PVD技术还有一个超级厉害的地方，就是它的环保性。
很多传统的电镀工艺，比如那种电解镀金、镀银啥的，不仅费时费力，还会产生不少的有害物质，污染环境。
可PVD不一样，它是在真空中操作的，基本不会产生废气废水，整个过程既节能又环保，可以说是现代工艺里的“绿色先锋”了。
用它做出来的产品，不仅质量好，而且还能省去很多麻烦，真是一次性解决问题。
但说到这里，不得不提，PVD电镀这项技术其实也有点“挑剔”。
它对设备的要求特别高，你想想它是在真空环境下工作，这就需要高精密的设备来支撑。
操作过程中对于温度、气压、气体成分等控制都得非常精准。
要是操作失误，搞不好涂层的质量就会大打折扣。
PVD喷涂及镀膜常见不良
9
PVD Defect Analysis and Action_v1.0
10.少漆/少油 Misses
定义：与标准规格相比有些区域喷油不够。 产生的原因：---素材前处理不充分，表面有尘点、毛丝等杂质颗 粒； ---喷涂参数有误或没有按照喷涂SOP执行； ---素材上有尖角或锐边； ---治具设计不合理。
改善措施：---减少涂料喷出量，严格控制膜厚； ---调整喷涂时产品与喷枪的距离，打磨被涂物表面使其变粗糙； ---调整喷枪与被涂物的垂直程度，改善素材边缘结构（将直角改为圆弧过渡）； ---调整涂料粘度和挥发速度。
3
PVD Defect Analysis and Action_v1.0
4.彩虹纹 Rainbow
4
PVD Defect Analysis and Action_v1.0
5.咬底/烧焦 Gnawing/Burning Marks
定义：底漆表面喷面漆时出现发黑、发皱、溶胀、起泡甚至脱落的现象。 产生的原因：---面漆溶解力太强，底漆耐溶剂性差； ---面漆喷涂太厚干燥慢，增强对底漆的腐蚀强度； ---底漆没有充分干透； ---面漆烘烤温度过高，产生酸性气体增强对底漆的腐蚀强度。
改善措施： ---选择适当溶剂和稀释剂，控制其挥发速度，防止漆膜表面温度过低导致聚合物析出； ---降低环境湿度或给涂料添加防白水； ---加强油水分离器分离空气中的水分； ---严格控制涂料检验，底材喷涂前进行烘烤，确保其表面充分干燥。
12 PVD Defect Analysis and Action_v1.0
14.油点/肿块 Dip/Dump
定义：产品表面上的油漆整体的变形。
产生的原因：---素材表面有机械应力（在喷涂前不可见）； ---素材表面有污染物。 改善措施：---选择适当的涂料干燥方法和升温程序，减少干燥过程中产生应力； ---涂装前对塑料制品进行退火处理，消除塑料加工中产生的残余应力。 ---在上线之前确保素材表面清洁，无尘点、毛丝等杂质颗粒。
PVD真空镀膜简介
PVD真空镀膜简介PVD真空镀膜（Physical Vapor Deposition）是一种通过高真空条件下，将固态材料蒸发、溅射或离子束照射等方式沉积到基材表面形成功能薄膜的工艺技术。
PVD镀膜技术具有优异的性能和广泛的应用领域，被广泛应用于光学薄膜、装饰薄膜、耐磨薄膜、防腐蚀薄膜和导电薄膜等领域。
PVD真空镀膜技术主要分为蒸发镀膜、溅射镀膜和离子束沉积等几种方式。
蒸发镀膜是将固态材料加热到一定温度，使其蒸发成气体，然后沉积在基材表面形成薄膜。
溅射镀膜是将固态目标材料置于高真空室中，利用离子束轰击目标表面，使其材料释放出来，并沉积在基材上。
离子束沉积则是利用离子束轰击固态材料，产生的离子和中性粒子在基材上形成薄膜。
PVD镀膜技术具有许多重要优势。
首先，PVD薄膜具有极高的附着力，因为在真空环境下，薄膜材料可以直接与基材表面发生物理化学反应，形成致密的结构。
其次，PVD技术可以在低温下进行，减少了对基材的热损伤，特别适用于易受热的塑料和有机材料。
此外，PVD薄膜具有良好的化学稳定性、机械硬度和耐磨性，能够有效提高基材的耐腐蚀性、硬度和耐磨性。
另外，PVD镀膜技术还可以控制膜层的成分和结构，可以产生金属薄膜、合金薄膜、氮化物薄膜、硼化物薄膜等多种高性能薄膜。
PVD真空镀膜技术在许多领域中得到广泛应用。
在光学领域，它可以用于制备高反射膜、透明导电膜、滤光膜等。
在电子领域，PVD技术可以制备导电薄膜用于集成电路、光伏电池和显示器件等。
在汽车和航空航天领域，PVD薄膜可以用于制备具有高耐磨性和耐腐蚀性的装饰膜。
在工具领域，PVD技术可以制备高硬度、高耐磨的刀具涂层和模具涂层等。
在材料领域，PVD薄膜可以制备各种功能性薄膜，如防刮伤膜、防指纹膜、防眩光膜等。
然而，PVD镀膜技术也存在一些问题。
首先，设备和工艺的成本相对较高，需要投入较大的资金和技术支持。
其次，PVD薄膜的厚度较薄，通常在几纳米到几十微米之间，因此只能应用于薄层镀膜。
PVDC涂布过程常见质量缺陷的原因及对策
PVDC涂布过程常见质量缺陷的原因及对策PVDC作为包装材料具有非常全面的保护性能，它具有杰出的水汽阻透性、有显著的气体阻隔性和香味保持、保护性，PVDC包装材料这种优越的性能越来越被大家所接受。
由于PVDC涂布过程是一技术含量高、技术难度大的新产品，涂布过程易出现一些质量缺陷，这些缺陷解决不好将会影响产品外观及其使用性能，解决好这些质量缺陷也是衡量企业技术水平、设备状况主要标志。
在PVDC涂布过程易出现的质量缺陷有：收卷过紧、涂布雾度、涂布线条、涂布漏涂等。
一、收卷过紧收卷过紧将直接导致薄膜的透明性、光泽性下降，这主要是过紧的收卷使每层薄膜之间几乎无空气存留而发生“不平坦”的涂层产生机械嵌合——也是一种粘连形式——放卷时这种嵌合被分离，从而破坏了表面的平滑、光洁性，因而产生光泽度下降、雾度增加。
收卷过紧的直接表现为膜卷内部发黄，甚至膜卷端面呈油黄色。
原因：①收卷张力过大，这是因为刚完成涂布的涂层较软，还有一点微粘，若张力过大，可能造成薄膜粘连；②收卷张力衰减过小，张力衰减是指张力在收卷过程中由大变小；③收卷压辊压力较大；④烘箱干燥温度过高，使基材变形严重，在固化时产生较大量的回缩而使膜卷变紧；⑤烘箱段基膜承受的张力过大而产生明显拉长固化时又产生较大量的收缩，而使膜卷变紧；⑥基膜宽度、厚度已发生较大的变窄变薄而烘干段张力和收卷张力未作相应调节。
⑦涂布量已较大幅度调整，而烘干温度未作相应改变。
⑧固化室温度过高如＞45℃，造成涂层粘连。
采取对策一般为：①调收卷张力值至合理区域。
②适当加大张力的衰减。
③适当减小压辊压力。
④降低烘干温度使涂薄膜表面温度达85－90℃，但必须保证干燥充分，这可从考察薄膜雾度的光泽度优劣得到判断。
⑤降低烘箱段薄膜张力，其张力在50N／m左右，但必须避免产生漏涂。
⑥调整相应的控制张力。
⑦涂布量改变，必须改变相应的干燥温度。
⑧注意固化室温度的变化，温度控制在35－40℃，切勿将蒸汽间开启度调至极限。
电镀PVD简介
1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。
近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。
6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
生产常见问题--PVD
PDF 文件使用 "pdfFactory Pro" 试用版本创建 ÿ昀Ì
5、作业员须佩带口罩防止说话时唾液飞溅到电池 薄膜上； 6、不得轻易按急停按钮，按下急停时为所有门 阀、真空泵、阀门关闭； 7、系统维护不得轻易开启，如开启则应在完成相 应操作后立即关闭； 8、每次更换靶材后将相应被更换靶材的靶消耗清 零，电池片累计清零后才能开始生产，其余时间不 得将靶消耗、电池片累计清零；
n
n
左图则代表溅镀后被溅射出的原子、分子等的运 动情形；即当被加速的离子与表面撞击后，通过 能量与动量转移过程 （右图）低能离子碰撞靶时，不能从固体表面直 接溅射出原子，而是把动量转移给被碰撞的原子 ，引起晶格点阵上原子的链锁式碰撞。
气体 固体
Sputter溅镀后原子分子运动模型
溅射原子弹性碰撞模型
顾客导向、科技领航、全面管理、精益求精
PDF 文件使用 "pdfFactory Pro" 试用版本创建 ÿ昀Ì
n
n
n
n
7、依次打开隔离室1、溅射室2、溅射室3、隔离 室2前面的机械泵、罗茨泵； 8、等待腔室真空度小于5Pa时，关闭中间四个门 阀，依次打开隔离室1、缓冲室1、溅射室1、溅射 室2、溅射室3、溅射室4、缓冲室2、隔离室2的 前级阀、分子泵，分子泵图标由灰色变为黄色，开 始加速； 9、等待分子泵转速达到630转时，维持此状态10 分钟以上，使得靶室与缓冲室维持在高真空状态； 10、关闭Ar气与腔室之间的气动阀然后抽真空， 若真空度高于9.9 E-3 Pa则继续，若抽了两小时 真空还无法达到要求则通知设备处理；
顾客导向、科技领航、全面管理、精益求精
PDF 文件使用 "pdfFactory Pro" 试用版本创建 ÿ昀Ì
pvd设备镀出的膜层出现异样,是什么原因
pvd设备镀出的膜层出现异样,是什么原因之前有少数客户会咨询我们，为什么PVD设备镀出来的膜，偶尔会出现异样的情况，问具体是什么原因。
经过我们技术⼈员上门检查排查，原因各有不同，下⾯汇成真空⼩编为⼤家讲解真空镀膜不良解析。
随着消费⽔平的提升，⼈们对产品外观要求也越来越更⾼，PVD镀膜的应⽤也越来越⼴泛。
PVD镀膜设备也获得越来越多的制造业⼚家认可和喜爱，它的优势也是显⽽易见的。
⼤家都知道机器，真空镀膜是把⾦属或者⾦属氧化物变成⽓态的分⼦或原⼦使其沉积在镀件表⾯形成镀层的⼀种技术。
和传统的电镀技术相⽐污染更⼩、能耗更低，所需的成本较低，装饰效果和⾦属感都⽐较强。
但是⼤家也都知道它的缺点，PVD电镀⼯艺不良率⾼、⽣产效率低、膜后不稳定以使颜⾊稳定性差等，这是整个⾏业的痛点。
随着后期技术不断的发展，环保要求门槛不断提⾼，传统电镀逐渐将被替代及消费者对产品外观的提⾼，真空镀膜技术在未来会有更⼴阔的发展前景。
那么在镀膜的过程中，出现异样具体该真么处理呢？⼤家在镀膜的过程中，可能有时候会发现，膜层上有时会出现⽩点的异样发⽣，经过技术⼈员的检测和排查，⼤部分都是因为产品周转运输或在炉内⽣产时素材受到污染，产品表⾯有尘点、⽑丝等，PVD出炉后灰尘脱落露出底材颜⾊。
所以⼤家在使⽤PVD设备镀膜过程中缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控，减少异物掉落在产品表⾯。
有时膜层也会出现掉膜（点状掉膜、局部掉膜、边缘掉膜）情况，不知道⼤家有没有碰到过。
它主要产⽣的原因是产品表⾯脏污，膜层⽆法在产品上沉积或结合⼒差，在⾃然或⼈为的因素下产品表⾯漏出底材，所以⼤家在镀膜前，⼀定要把产品清洗⼲净，避免污染产品，确保表⾯洁净度。
还有⼀种经常出现的情况，就是出现彩虹纹（产品发彩，出现这种情况主要原因是彩虹纹主要体现在颜⾊较深的产品上，因⽣产过程中形成⼀定⾓度遮挡，膜层⽆法均匀、有效的覆盖在产品表⾯。
因此镀膜的时候，要更改更改装夹⽅式，或者提⾼成膜能量。
pvd离子镀膜
PVD离子镀膜一、什么是PVD离子镀膜？1.1 PVD的定义物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，简称PVD）是一种常用的薄膜制备技术，通过将固体材料蒸发或溅射成蒸汽或离子，然后沉积在基底表面上形成薄膜。
1.2 离子镀膜的概念离子镀膜是PVD技术的一种应用，它利用离子束轰击基底表面，使蒸发或溅射的材料以离子形式沉积在基底上，从而形成一层均匀、致密、具有优异性能的薄膜。
二、PVD离子镀膜的工艺过程2.1 蒸发法蒸发法是PVD离子镀膜的一种常用工艺，它通过将固体材料加热至蒸发温度，使其转变为蒸汽，然后沉积在基底表面上。
蒸发法可以分为热蒸发和电子束蒸发两种方式。
2.1.1 热蒸发热蒸发是利用电阻加热或电子束加热的方法将固体材料加热至蒸发温度，使其蒸发成蒸汽。
蒸汽经过减压系统传输到基底表面，并在表面形成薄膜。
2.1.2 电子束蒸发电子束蒸发是利用电子束轰击固体材料，将其加热至蒸发温度，使其蒸发成蒸汽。
蒸汽经过减压系统传输到基底表面，并在表面形成薄膜。
电子束蒸发具有高能量密度、高蒸发速率等优点。
2.2 溅射法溅射法是PVD离子镀膜的另一种常用工艺，它通过将固体材料置于溅射靶材的位置，然后利用离子束轰击靶材，使其溅射成蒸汽或离子，最后沉积在基底表面上。
2.2.1 直流溅射直流溅射是利用直流电源，通过离子轰击靶材，使其溅射成蒸汽或离子。
直流溅射具有操作简单、成本低等优点，但膜层质量较低。
2.2.2 射频溅射射频溅射是利用射频电源，通过离子轰击靶材，使其溅射成蒸汽或离子。
射频溅射具有溅射效率高、膜层质量好等优点，但设备成本较高。
三、PVD离子镀膜的应用领域3.1 光学领域PVD离子镀膜在光学领域有广泛的应用，如镀膜玻璃、反射镜、透镜等。
离子镀膜可以提高光学元件的透过率、反射率和耐磨性，提高光学元件的性能。
3.2 电子领域PVD离子镀膜在电子领域的应用也非常广泛，如集成电路、显示器、光伏电池等。
镀膜技术十个主要问题及答案-深圳大学薄膜物理与应用研究所
镀膜技术十个主要问题及答案问题：一、镀膜技术可区分为那几类?可区分为：(1)真空蒸镀(2)电镀(3)化学反应(4)热处理(5)物理或机械处理二、常用的真空泵浦有那几种?适用的抽气范围为何?真空泵浦可分：(1)机械帮浦(2)扩散泵浦(3)涡轮泵浦(4)吸附泵浦(5)吸着泵浦真空泵浦抽气范围：泵浦抽气范围机械泵浦10-1 ~ 10-4 毫巴扩散泵浦10-3 ~ 10-6 毫巴涡轮泵浦10-3 ~ 10-9 毫巴吸附泵浦10-3 ~ 10-4 毫巴吸着泵浦10-4 ~ 10-10 毫巴三、电浆技术在表面技术上的应用有那些?1)溅浆沉积：溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材，使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜，溅射离子的起始动能约在100eV。
常用的电浆气体为氩气，质量适当而且没有化学反应。
(2)电浆辅助化沉积：气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行，如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。
(3)电浆聚合：聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中，然后涂布于基板上。
电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆，经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上，由于基材受到电浆的撞击，其附着性也很强。
(4)电浆蚀刻：湿式碱性蚀刻，这是最简单而且便宜的方法，它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性，而且会产生下蚀的问题。
(5)电浆喷覆：在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆，以防止高温腐蚀的发生。
四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为：(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热各具有的特点：(1)电阻加热：这是一种最简单的加热方法，设备便宜、操作容易是其优点。
(2)感应加热：加热效率佳，升温快速，并可加热大容量。
(3)电子束加热：这种加热方法是把数千eV之高能量电子，经磁场聚焦，直接撞击蒸发物加热，温度可以高达30000C。
而它的电子的来源有二：高温金属产生的热电子，另一种电子的来源为中空阴极放电。
PVD 镀膜
PVD 镀膜Q1:请问什么是PVD,A1:PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
Q2:请问什么是PVD镀膜,什么是PVD镀膜机,A2:PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。
相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。
近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
Q3:请问PVD镀膜的具体原理是什么,A3:离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
Q4:请问PVD镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何优点,A4:PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
两者的不同点是:PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定;PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
Q5:请问PVD镀膜能否代替化学电镀,A5:在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料(如锌合金、铜、铁等)的工件上进行PVD镀膜前，都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。
PVD镀膜主要应用在一些比较高档的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
Q6:请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点,A6:采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
pvd离子镀膜原理
pvd离子镀膜原理PVD离子镀膜原理离子镀膜技术是一种常用的表面处理方法，广泛应用于电子、光学、航空航天等领域。
其中，PVD (Physical Vapor Deposition) 离子镀膜技术是一种通过物理方法将固态材料转化为离子态并沉积到基材表面的技术。
本文将详细介绍PVD离子镀膜的原理及其应用。
一、PVD离子镀膜原理PVD离子镀膜技术是通过将材料加热至高温，使其处于气体、液体或固态的离子态，并利用真空条件下的物理过程将离子沉积到基材表面，形成一层薄膜。
主要包括蒸发、溅射和离子镀三种主要工艺。
1. 蒸发法蒸发法是通过加热材料使其升华，然后蒸发在基材上。
在真空情况下，将固态材料加热至其熔点以上，使其升华为气体。
升华后的气体通过控制温度和压力，使其在基材表面沉积，形成薄膜。
2. 溅射法溅射法是利用高能粒子轰击材料表面，使材料从固态转变为气态，然后沉积在基材表面。
在溅射过程中，通过在真空室中加入一定气体压力，利用离子轰击和反应气体，可以得到所需的薄膜。
3. 离子镀法离子镀法是通过电场将离子加速，然后撞击基材表面，将离子沉积在基材上。
在真空室中加入一定的气体，使其电离成离子，然后通过电场加速离子，并控制其在基材表面的沉积。
二、PVD离子镀膜的应用1. 电子行业PVD离子镀膜技术在电子行业中广泛应用于集成电路、显示屏、光学薄膜等领域。
通过在基材表面沉积金属薄膜或氧化物薄膜，可以提高电子元器件的导电性、抗氧化性和光学性能。
2. 光学行业PVD离子镀膜技术在光学行业中用于制备反射镜、透镜、光学滤波器等光学元件。
通过在基材表面沉积特定的金属薄膜或多层膜，可以改善光学元件的反射率、透过率和抗反射性能。
3. 航空航天行业PVD离子镀膜技术在航空航天行业中常用于制备航空发动机叶片、航天器表面保护层等。
通过在基材表面沉积陶瓷薄膜或合金薄膜，可以提高材料的耐磨性、耐腐蚀性和高温性能。
4. 医疗行业PVD离子镀膜技术在医疗行业中应用广泛，常用于制备人工关节、牙科种植体等。
Physical Vapor Deposition
PVD简介1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。
近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。
6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3µm ～5µm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3µm ～1µm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
电镀PVD简介说课讲解
电镀P V D简介PVD简介1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。
近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。
6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
镀膜机常见故障教(学)案分析解决预防措施方案
镀膜机常见故障及分析解决预防措施一.常见故障,问题及解决方法下表对一些镀膜时常见的故障、真空度问题、及掉膜和膜质问题做了一些简单分析,并给予解决方案及预防措施.12346二.一些基础知识及注意事项和应急措施1. 膜厚控制仪1.1.控制参数Soak power1----预熔功率1 约为蒸发功率的一半Soak power2----预熔功率2 也称预蒸镀功率略小于最大功率Maxpower ----最大功率Dep Rate ----蒸发速率Final Thk ----膜厚〔波长Soak time----预熔时间Rise time ----功率上升时间Density ----材料密度1.2.检测膜厚原理通过改变探头上晶片的频率〔由于膜的蒸发改变了其重量,所以其震动频率发生变化来计算膜厚,而探头所处的位置和工具因数的设置都影响到测试精度,探头的位置和测试膜厚的关系如小：<1>.探头高了,测试得到的厚度<实际得到的膜厚<玻片上厚度><2>.探头低了,测试得到的厚度>实际得到的膜厚<玻片上厚度><3>.工具因数调高,相当于探头位置降低,所以膜厚要增加2. 膜和材料间的关系2.1.U5吸收杂光,影响膜质和亮度.镀的过多,膜会发银;镀的过少,膜发黑,不亮泽,有银色;没镀上,则为银白2.2.U3脱膜剂,影响膜质.镀的过多,膜质稀烂,易脱落;镀的过少,膜会打卷,发硬2.3.SiO2决定颜色2.4.U6基层,影响膜的鲜艳度和亮度3. 均匀性3.1.径向均匀性:同一玻片上部与下部的不均匀,与光斑的调节、材料的料面、坩埚转速和转向、玻片的曲率有关3.2.重复均匀性:同一锅膜的每一套间的不均匀,与真空度的高低、操作者看颜色有关3.3.整体均匀性:同一套膜四块玻片上的均匀性,与光斑的稳定性、工转的转速和蒸发速率的匹配、真空度的高低、径向均匀性有关4. 灯丝问题4.1.放气时要记住关灯丝电源,以免氧化灯丝4.2.初次使用或更换新灯丝,应进行灯丝预热定型处理,以防灯丝加热过快变形.预热时,高压关闭,直接加热灯丝,缓慢加灯丝电流,由几安培加至15A时,维持3-5分钟4.3.灯丝安装a.灯丝不宜太高或太低:太高会造成光斑不可调,容易打烂栅极和阳极片;太低会造成光斑能量太散,不易蒸发b.栅极片应略低于阳极片c.各个压块、引线的接触面应清洗干净避免造成接触不良d.打紧螺钉时应松紧适当,太松会接触不良,太紧会造成"滑丝"5. 轰击条件：真空度4.0Pa到8.0Pa之间时间:20到30分钟轰击棒应用240#砂纸砂干净再用酒精擦一遍再装入真空室轰击完后关闭轰击开关,取轰击棒时应带手套或用包住轰击棒以免被烫伤6. 换机械泵油将油放干净,把出气口的盖板取下,然后取下挡油板,用布将机械泵油腔内擦干净<特别注意死角地方>,擦干净后倒点新油盖住出气口开机械泵运行20秒将油放出,这样反复做两到三次,洗干净后即可加油.加油应加到观察油窗伤两条红线之间<油加少了会造成机械泵的抽气性能下降,油加多了会造成抽气时油喷出来>.油加好后将挡油板,盖板依次装好.7. 应急措施7.1. 突然停电首先将设备总电源开关关闭<防止突然恢复电力所有用电设备工作造成电流冲击过大>,然后将所有开关复位,处在关的状态<开关弹起为关的状态>,等待电力恢复如果长时间电力无法恢复应将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使其冷却.设备循环水关小,防止停电时间过长导致循环水无法循环使水流失7.2.停水首先应关闭扩散泵,将扩散泵电炉盘取下,用湿布放在扩散泵四周使扩散泵冷却关闭各阀门及机械泵,不能让其长时间在无冷却水的状态下工作导致设备损坏7.3.停气气压低于0.43Mpa时阀门会自动关闭,此时应将各阀门开关复位处在关的状态<开关弹起为关>.如果长时间无法恢复供气,则将扩散泵,机械泵等运作的设备关闭,关扩散泵15分钟后打开扩散泵快冷冷却扩散泵。
电镀PVD简介之欧阳家百创编
PVD简介欧阳家百（2021.03.07）1. PVD的含义—PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
2. PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。
对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。
近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
3. PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
4. PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
5. PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。
6. PVD镀膜膜层的厚度—PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.3μm ～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm ～1μm ，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，镀后不须再加工。
7. PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色种类—PVD镀膜目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
- 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性，平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
- 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
- 3、如文档侵犯您的权益，请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间：9:00-18:30)。
离子镀膜(PVD ) 技术和设备常见问题解答
Q1: 请问什么是PVD？
A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
Q2: 请问什么是PVD镀膜？什么是PVD镀膜机？
A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。
相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。
近十多年来，真空离子镀技术的发展是最快的，它已经成为了当代最先进的表面处理方法之一。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
Q3: 请问PVD镀膜的具体原理是什么？
A3: 离子镀膜（PVD镀膜）技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
Q4: 请问PVD镀膜与传统的化学电镀（水电镀）相比有何优点？
A4: PVD镀膜与传统的化学电镀的相同点是，两者都属于表面处理的范畴，都是通过一定的方式使一种材料覆盖在另一种材料的表面。
两者的不同点是：PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大，膜层的硬度更高，耐磨性和耐腐蚀性更好，膜层的性能也更稳定；PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛，可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮；PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。
Q5: 请问PVD镀膜能否代替化学电镀？
A5: 在现阶段，PVD镀膜是不能取代化学电镀的，并且除了在不锈钢材料表面可直接进行PVD镀膜外，在很多其他材料（如锌合金、铜、铁等）的工件上进行PVD镀膜前，都需要先对它们进行化学电镀Cr(铬)。
PVD镀膜主要应用在一些比较高档的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。
Q6: 请问采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么特点？
A6: 采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
Q7: 请问PVD能在镀在什么基材上？
A7: PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。
Q8: 请问PVD镀膜能够镀出的膜层种类有那些？
A8: PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够
制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。
Q9: 请问PVD镀膜膜层的厚度是多少？
A9: PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。
Q10: 请问PVD镀膜能够镀出的膜层的颜色有哪些？
A10: 我们目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。
通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色；镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量，使颜色得以量化，以确定所镀出的颜色是否满足要求。
Q11: 请问目前PVD镀膜技术主要应用在哪些行业？
A11: PVD镀膜技术的应用主要分为两大类：装饰镀和工具镀。
装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命；这方面主要应用五金行业的各个领域，如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。
工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命；这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具（如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等）等产品中。
Q12: 请问PVD镀膜的成本是不是很高？
A12: 虽然使用PVD镀膜技术能够镀出高品质的膜层，但是PVD镀膜过程的成本其实并不高，它是一种性价比非常高的表面处理方式，所以近年来PVD镀膜技术发展得非常快。
PVD 镀膜已经成为五金行业表面处理的发展方向。