电容屏ITO黄光制程工艺
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第九步：坚膜
参数规格：
让显影留下的光刻胶经高温处理，让光刻胶完全固化。
温度：120-150度，时间：20-30.
第十步：蚀刻
参数规格：
酸度：3.5-6.5MOL，温度：45±5度，压力：1-2KG，速度：0.8-1.5M/MIN。
碱度：0.5-0.8MOL，温度：35±5度，压力：1-2KG，速度：1.5-3.5M/MIN。
第三步：清洗源自文库
参数规格：
1.将GLASS表面的脏污，油污，杂质等去除并干燥。
2.将素玻璃表面的脏污，油污，杂质等去除并干燥，然后过镀膜线镀ITO层形成GLASS。
第四步：背保丝印
参数规格：
膜厚：10-20μM，250-420目聚酯网，此背保要求高，不能有一点脏污，
油污，杂质等，要不回影响到在这面处理ITO图案和银浆走线的附着
经纯水清洗，干燥。
第十一步：银浆线丝印
参数规格：
膜厚：5-15μM，400-500目钢丝网，18-16线径，乳剂膜厚：6-12μM，
银浆：日本朝日，丰阳等，热固型。
感光胶：田菱H-815，（具有高解像性，高精密等特性。）
第十二步：镀钼铝钼银浆线
参数规格：
需有镀膜线厂家才可以完成，如：南玻，新济达等用工艺。
力等。日本朝日，丰阳等，热固型。
第五步：光刻胶整版丝印
参数规格：
膜厚：5-10μM，300-420目聚酯网.需在温度20度-25度的范围和黄灯
的环境下进行。
光刻胶：田菱THC-29（耐酸曝光显影型光刻胶）等。
第六步：前烘
参数规格：
让印有光刻胶的材料在一定的温度，时间下固化。温度：80-90度。时
间15-20分钟。
先镀一层钼，（起保护，绝缘作用。）
再度一层铝，（起导电作用。）
最后再镀一层钼，（两层钼作用一样。）
第十三步：反面处理
参数规格：
因考虑到ITO GLASS厚度等问题等，需在反面在同上处理一次或
以其他方式处理。
第十四步：组合
参数规格：
上下线组合胶：口字胶：透光率底。
OCA光学胶：汽包多，但透光率高。
液态光学胶：技术要求高。
第七步：曝光
参数规格：
通过紫外线和菲林的垂直照射，让光刻胶形成反应。光能量：
60-120MJ/C㎡，时间：6-9s
第八步：显影
参数规格：
用弱KOH溶解液去除材料上被曝光过的光刻胶，留下没有曝光的光刻胶。
弱碱：0.05-0.2 MOL.
温度：20±3度，压力：0.02-0.05KG，速度：5.5±2.5M/MIN。
百度文库 - 让每个人平等地提升自我第十四步：切割
参数规格
大片半成品切割处理成小片半成品。
第十五步：压合
参数规格：
小片半成品与FPC及IC绑定形成功能片
第十六步：测试
参数规格：
功能片的功能测试。如：线性测试，寿命测试，精度测试等。
第十七步：终检
参数规格：
最终的一个外观检查。
第十八步：包装
参数规格：
包装处理出货。
电容屏ITO黄光制程工艺
流程
第一步：ITO GLASS
参数规格：
长宽：14*16厚度：0.55，0.7，1.1
规格：普通，钢化等，
特性：AR(抗反射)，AG（防眩光），AS（防水防污），AF（防指纹）等
电容玻璃：安可，冠华，正达，正太等。
第二步：素玻璃
参数规格：
素玻璃：康宁，旭硝子等。500*500规格
参数规格：
让显影留下的光刻胶经高温处理，让光刻胶完全固化。
温度：120-150度，时间：20-30.
第十步：蚀刻
参数规格：
酸度：3.5-6.5MOL，温度：45±5度，压力：1-2KG，速度：0.8-1.5M/MIN。
碱度：0.5-0.8MOL，温度：35±5度，压力：1-2KG，速度：1.5-3.5M/MIN。
第三步：清洗源自文库
参数规格：
1.将GLASS表面的脏污，油污，杂质等去除并干燥。
2.将素玻璃表面的脏污，油污，杂质等去除并干燥，然后过镀膜线镀ITO层形成GLASS。
第四步：背保丝印
参数规格：
膜厚：10-20μM，250-420目聚酯网，此背保要求高，不能有一点脏污，
油污，杂质等，要不回影响到在这面处理ITO图案和银浆走线的附着
经纯水清洗，干燥。
第十一步：银浆线丝印
参数规格：
膜厚：5-15μM，400-500目钢丝网，18-16线径，乳剂膜厚：6-12μM，
银浆：日本朝日，丰阳等，热固型。
感光胶：田菱H-815，（具有高解像性，高精密等特性。）
第十二步：镀钼铝钼银浆线
参数规格：
需有镀膜线厂家才可以完成，如：南玻，新济达等用工艺。
力等。日本朝日，丰阳等，热固型。
第五步：光刻胶整版丝印
参数规格：
膜厚：5-10μM，300-420目聚酯网.需在温度20度-25度的范围和黄灯
的环境下进行。
光刻胶：田菱THC-29（耐酸曝光显影型光刻胶）等。
第六步：前烘
参数规格：
让印有光刻胶的材料在一定的温度，时间下固化。温度：80-90度。时
间15-20分钟。
先镀一层钼，（起保护，绝缘作用。）
再度一层铝，（起导电作用。）
最后再镀一层钼，（两层钼作用一样。）
第十三步：反面处理
参数规格：
因考虑到ITO GLASS厚度等问题等，需在反面在同上处理一次或
以其他方式处理。
第十四步：组合
参数规格：
上下线组合胶：口字胶：透光率底。
OCA光学胶：汽包多，但透光率高。
液态光学胶：技术要求高。
第七步：曝光
参数规格：
通过紫外线和菲林的垂直照射，让光刻胶形成反应。光能量：
60-120MJ/C㎡，时间：6-9s
第八步：显影
参数规格：
用弱KOH溶解液去除材料上被曝光过的光刻胶，留下没有曝光的光刻胶。
弱碱：0.05-0.2 MOL.
温度：20±3度，压力：0.02-0.05KG，速度：5.5±2.5M/MIN。
百度文库 - 让每个人平等地提升自我第十四步：切割
参数规格
大片半成品切割处理成小片半成品。
第十五步：压合
参数规格：
小片半成品与FPC及IC绑定形成功能片
第十六步：测试
参数规格：
功能片的功能测试。如：线性测试，寿命测试，精度测试等。
第十七步：终检
参数规格：
最终的一个外观检查。
第十八步：包装
参数规格：
包装处理出货。
电容屏ITO黄光制程工艺
流程
第一步：ITO GLASS
参数规格：
长宽：14*16厚度：0.55，0.7，1.1
规格：普通，钢化等，
特性：AR(抗反射)，AG（防眩光），AS（防水防污），AF（防指纹）等
电容玻璃：安可，冠华，正达，正太等。
第二步：素玻璃
参数规格：
素玻璃：康宁，旭硝子等。500*500规格