研究生实验操作基本实验技能
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1、试样的截取 截取部位取决于检验的目的与要求： (a) 观察高温力学试样断裂部位的组织(如高温拉伸、蠕 变或疲劳实验)，应该在断裂处和远离断裂处分别取 样，进行分析对比。 (b) 不同铸造工艺的铸态试样，由于从心部到边部的冷 却速度不同，应该从边部到心部同时取样观察，了 解合金的偏析程度和结晶组织变化。 (c) 轧制组织应同时截取横向及纵向试样。横向试样垂 直轧制方向截取，主要研究表层缺陷(如脱碳折叠等) 及非金属夹杂物的分布；纵向试样平行轧制方向截 取，主要研究非金属夹杂物的形状、种类，以及晶 粒的拉长程度估计变形程度及轧制工艺情况。
切取试样的注意事项： (a) 对于较软的钢材与有色金属应避免受力而造成 压缩、拉伸或扭曲等。 (b) 防止切割生热而造成相变或晶粒长大。 切割工具： 手锯、锯床、砂轮片切割机、显微切片机 (microtome)、线切割机等 试样尺寸： 根据研究目的而定一般为12mm×12mm×12mm 或Ф12mm×12mm
试样的镶嵌：
(a) 热压镶嵌：材料 电木粉、邻苯二甲酸二丙稀和异 丁烯酸甲酯等 电木粉：加热温度135-170℃ 压力 175-295kg/cm2试 样尺寸：Ф25×15mm (b) 浇注镶嵌：适于不能加热、加压的软试样，大的 形状复杂或多孔性试样，可以冷镶，也可热镶， 需要加硬化剂。冷镶树脂有：聚酯树脂，丙烯树 脂和环氧树脂等；固化剂用胺类。混合好的树脂 若存放在零度以下的设备中，可储放几周而不固 化。常用的几种浇注镶嵌塑料的配方见表1
表2 铝及铝合金加工制品低倍浸蚀剂
合金牌号 NaOH溶液浓度 g/L 150-250 150-250 150-250 NaOH溶液温 度 ℃ 室温 室温 室温 浸蚀时 间 min 25-30 25-30 15-25
纯铝 3A21(LF21)、5A05(LF5) 3003、5052 6A02(LD2)、5A03(LF3) 5A05(LF5)、5A06(LF6) 2A50(LD5)、2A80(LD8) 2A02(LY2)、5060(LF5-1) 2A11(LY11)、 2A12(LY12) 2A16(LY16)、 2A17(LY17) 7A04(LC4)、7A09(LC9) 2017、2014 4032、7075
150-250
室温
10-20
低倍晶粒显示
(1) 软铝合金制品及铸轧板进行晶粒度检验时的浸蚀剂为： HF 42mL、HCl 175mL、HNO3 25mL (2) 硬铝合金制品进行晶粒度的浸蚀剂为： (a) 150-250g/L NaOH 水溶液 (b) 高浓度混合酸 HF 10mL、HCl 5mL、HNO3 5mL、H2O 380mL (c) 稀释混合酸，将高浓度混合酸(b)加入2倍水使用
阳极覆膜装臵和电解抛光装臵相同。电压不易过大， 以防止已生成氧化膜击穿破坏覆膜层的完整性。 阳极覆膜时的电解液温度也不易过高，一般应控 制在20-25℃范围内。覆膜时也可采用叠加覆膜法， 即每次覆膜10-60s，共2-4次，累计时间为1-4min， 可提高显示晶粒组织的清晰度，试样经腹膜后应 及时进行偏振光观察，若放臵时间过长会影响清 晰度。
4
5
冰醋酸 10份 15 高氯酸 1份
—
室温 5
电解抛光，阴极为不 锈钢，阴阳极间距为 17-20mm
铝及其合金可分为三组: (1)高纯铝及含有微量合金元素的铝合 金，这组材料很软，特别是在退火状态下；(2)含合金元素较 高，在热处理条件下使用，硬度较高，即使在退火状态下， 也具有中等硬度；(3)含合金元素高，包含有较大体积的金属 间化合物 主要介绍第一组材料金相试样的制备过程： (a)SiC砂纸湿磨到粒度600#； (b)用金刚石研磨膏(粒度：7μm、3 μm和1 3 μm，必要时可用 0.25 μm)在短毛细软呢绒上抛光； (c)用120mL热蒸馏水，20mL5%酒石酸铵水溶液加1克氧化镁制 成悬浮液抛光1-5分钟。悬浮液在使用前应该用棉纱布过滤。 含铜的试样与不含铜的试样不应该在同一抛光织物上抛光， 以避免发生黑色沉淀。 用电解抛光时，最好先用7 μm的金刚石研磨膏粗抛光。
磨光步骤 抛光步骤 浮石 硅藻土 最细抛光 最细抛光或 细抛光 最终抛光 细磨 粗抛光或预 先抛光 细磨或初磨 (<500μm)
SnO2
MgO Fe2O3 Cr2O3 混合刚玉
表2 金相磨光和抛光用磨料应用范围（续表）
磨光步骤 抛光步骤 天然刚玉 人造刚玉 BeO Al2O3 最细抛光 最细抛光或 细抛光 最终抛光 细磨 粗抛光或预 先抛光 细磨或初磨 (<500μm)
表3 铝及铝合金常用电解抛光液成分及工艺参数
序 电解液成分 号 1 高氯酸 25(10)mL 无水乙醇 75(90)mL 正磷酸 817mL 硫酸 134mL 铬酸 40mL 电解抛光或浸蚀工艺参数 电压 电流密度 温度 时间 V (A/cm2) ℃ s 40(25 — -60) 室温 15(6- 适于铸造Al-Cu和Al-Si (<40) 35) 合金外的多种合金电 解抛光 75 20 电解抛光 用途
电解抛光的优点： (1) 无变形层和扰乱层，组织清晰，真实。 (2) 抛光速度快，仅数秒至数分钟即可。 (3) 特别适合铝、铜及其合金等机械抛光较困难的金属试样， 可获得较好的抛光效果，同时能显示组织的电解浸蚀作 用。 (4) 设备简单，一台直流稳压电源即可。 电解抛光前，试样经细磨和粗抛去除磨痕后，再进行电解抛 光，效果较好，可避免蚀坑的产生。 电解抛光液的种类很多，应根据合金类型而定，归纳起来有 冷态和热态两类，但常用的以冷态为多(<50℃)。对于高 硅、化学成分不均匀和偏析的铸造合金，易产生浮雕和 局部浸蚀，可采用乙二醇、甘油等缓释剂莱改善腐蚀条 件。
组织的显示
分为化学浸蚀法、电化学浸蚀法、恒电位深腐蚀法和薄膜干涉 显示法等。其中，最常用的是化学浸蚀法。 化学浸蚀法 显示铝及其合金组织的常用浸蚀剂，除了稀释的氢氟酸或氢氧 化钠水溶液外，还有盐酸、硝酸和硫酸等溶液。浸蚀剂的浓 度和浸蚀时间对相的浸蚀程度和色泽有很大影响。 阳极覆膜法 是指将抛光后的金相试样进行阳极氧化处理，使试样表面覆盖 一层氧化膜，由于晶粒位向不同，所以在晶粒表面形成的氧 化膜的厚度也不一样，而且其结构与位向对应于基体晶粒位 向。因此，利用氧化膜各向异性特点，在显微镜偏振光下观 察，不同厚度氧化膜的经历位向对偏振光反射的程度不一致， 就能观察到许多色彩不同的晶粒区域。
混合酸水溶液浸蚀
电解抛光并阳极覆膜偏 振光下组织
低倍组织试样制备与显示方法
试样选取
园铸锭试样应先切除头尾规定长度后，沿两端横向截取25mm 左右厚 (a) 检查铸锭氧化膜应在铸锭尾部截取50×50×150mm，并 将其墩成厚度为30mm的试样 (b) 挤压制品试样在挤压尾部沿横向截取30mm厚 (c) 检查粗晶环的低倍试样是淬火态 (d) 检查板材分层，在板材后端沿横向剪切30mm宽的条状试 样，然后沿纵向切成几段检查
SiC
B4C 金刚石
机械抛光
(a) 抛光织物 较硬的材料如钢铁一般粗抛用帆布、呢纶或无毛呢 绒等，细抛用短毛细软呢绒或毡呢等 软的金属和合金用短毛呢绒粗抛；用丝绒细抛；最 终精抛采用麂皮手抛 新的抛光织物在使用前放入水中煮沸10-30min使之 脱脂软化，再用肥皂洗净。每次使用前要清洗 干净。精抛时试片压力要小，并不断传动试样， 以避免曳尾。 氧化镁粉在湿空气和水中会缓慢发生化学反应，生 成氢氧化镁和碳酸镁而失去抛光作用，所以使 用时采用蒸馏水或去离子水临时配制呈糊状。 抛光结束后，抛光织物应进入在1%HCl水溶液 中1min，然后漂洗干净待用。
表1 铝及铝合金铸锭低倍浸蚀剂
合金牌号 NaOH溶液浓度 g/L 80-120 NaOH溶液温 度 ℃ 室温 浸蚀时 间 min 20-30
5A02(LF2)、 5A02(LF2) 5083(LF4)、 5A05(LF5) 5A06(LF6)、 5B05(LF10) 5A12(LF12)、5052 3003、 3A21(LF21) 6A02(LD2)、 5056(LF5-1) 2217、 2A01(LY1) 2A02(LY2)、 2A04(LY4) 2A06(LY6)、 2B11(LY8) 2B12(LY9)、2017 2024、 2A10(LY10)
观察面的磨平： 对于硬质合金可以采用砂轮或锉刀磨平。 (a)对于较软的金属材料用细锉刀锉平，不得用 砂轮磨平；对于硬度小于HV150的金属材料采 用带有硬质合金或金刚石刀片的纤维切片机 切割。 (b)对于金属材料表面层(如表面镀层、氮化层) 组织的观察，由于表面层极薄(几个微米)， 采用斜面磨削法莱扩大表层观察范围。
80-120
室温
3-8
续表1 铝及铝合金铸锭低倍低倍浸蚀剂
合金牌号 NaOH溶液浓度 g/L 80-120 NaOH溶液温 度 ℃ 室温 浸蚀时 间 min 3-8
2A11(LY11)、 2A12(LY12) 2A13(LY13)、 2A14(LY14) 2A16(LY16)、 2A17(LY17) 7A03(LC3)、7A04(LC4) 7A05(曾用705)、7075 7A09(LC9)、 7A10(LC10) 2A80(LD8)、4032 6061(LD30)、6063(LD31)
电解抛光
图1 典型的电解抛光曲线
(1)AB段 电流随电压增加而上 升，电压较低，不足以形成一 层稳定的薄膜，只有电解浸蚀 现象。 (2)BC段 试样表面形成一层反 应产物的薄膜 (3)CD段 电压升高，薄膜变厚， 相应的电阻增加，电流保持不 变，正常的电解抛光范围。 (4)DE段 放出氧气，由于氧气 的形成，导致试样表面点蚀。 CD越宽越有利于电解抛光，DE 段大多用于工业生产(阳极光 亮法)
10
100 15 12-14 室温：24h 120℃：10h 150℃：4-6h 室温：24h 80℃：6-8h 固化温度较高，收 缩小，适宜镶嵌形 状复杂的小孔和裂 纹试样 镶嵌硬度高的式样 或氮化层试样。填 充料的微粉可根据 需要调整比例
2
3
100 15 15 适量
表2 金相磨光和抛光用磨料应用范围
试样浸蚀
1）碱蚀 a) 铝及铝合金铸锭的低倍试样浸蚀方法见表1 b) 铝及铝合金加工制品低倍组织碱蚀方法见表2 检查焊缝及氧化膜的试样可用表2中的浸蚀剂，但浸蚀 时间相应增加1到2倍 2）酸洗 试样经碱液浸蚀后，应迅速用自来水冲洗，然后放入 20-30%的HNO3水溶液中进行光洗，除去黑色的碱 蚀产物，随后用自来水冲洗干净。
表1 常用的浇注镶嵌塑料配方
序 号 1 原料名称 618环氧树脂 邻苯二甲酸二酊脂 二乙烯三胺(或乙 二胺) 618环氧树脂 邻苯二甲酸二酊脂 二乙醇胺 6101环氧树脂 邻苯二甲酸二酊脂 间苯二胺 碳化硅粉或氧化铝 粉(粒度40μ) 用量(g) 固化时间(h) 100 15 室温：24h 60℃：4-6h 备注 镶嵌较软或中等硬 度的金属
影响电解抛光的因素有电解液成分、电流密度、电压 和抛光时间等。当试样已知，电解液选定后，电 解抛光的效果主要取决于电流密度、电解液温度 和抛光时间三个因素，尤其电流密度最关键。若 电流密度小，则抛光速度慢，同时产生浸蚀现象， 当电流密度过高时，将产生小气泡聚集在抛光面 上，导致蚀坑的出现。由于材料差异，根据有关 手册中给出的电解液成分及电解规范进行抛光效 果不稳定，这时最好在所选择的电解液中测定电 压-电流密度曲线，确定最佳的抛光电压和电流密 度。 电解抛光的阴极材料常用的有不锈钢板和铅板，实验 前观察阴极表面，若表面沉积过多，应进行打磨 去掉表面沉积层。
2
20
—
10
—
75
12Biblioteka Baidu
电解浸蚀
续表3
序 电解液成分 号 3 电解抛光或浸蚀工艺参数 用途 电压 电流密度 温度 时间 V (A/cm2) ℃ s 42- 4-6 磷酸 60mL 50-60 0.35 适于Al-Mg合金电解抛 45 酒精 380mL 光 水 250mL 氟硼酸 4-5mL 水 200mL 20 0.2 室温 40-80 电解浸蚀，偏光观察
切取试样的注意事项： (a) 对于较软的钢材与有色金属应避免受力而造成 压缩、拉伸或扭曲等。 (b) 防止切割生热而造成相变或晶粒长大。 切割工具： 手锯、锯床、砂轮片切割机、显微切片机 (microtome)、线切割机等 试样尺寸： 根据研究目的而定一般为12mm×12mm×12mm 或Ф12mm×12mm
试样的镶嵌：
(a) 热压镶嵌：材料 电木粉、邻苯二甲酸二丙稀和异 丁烯酸甲酯等 电木粉：加热温度135-170℃ 压力 175-295kg/cm2试 样尺寸：Ф25×15mm (b) 浇注镶嵌：适于不能加热、加压的软试样，大的 形状复杂或多孔性试样，可以冷镶，也可热镶， 需要加硬化剂。冷镶树脂有：聚酯树脂，丙烯树 脂和环氧树脂等；固化剂用胺类。混合好的树脂 若存放在零度以下的设备中，可储放几周而不固 化。常用的几种浇注镶嵌塑料的配方见表1
表2 铝及铝合金加工制品低倍浸蚀剂
合金牌号 NaOH溶液浓度 g/L 150-250 150-250 150-250 NaOH溶液温 度 ℃ 室温 室温 室温 浸蚀时 间 min 25-30 25-30 15-25
纯铝 3A21(LF21)、5A05(LF5) 3003、5052 6A02(LD2)、5A03(LF3) 5A05(LF5)、5A06(LF6) 2A50(LD5)、2A80(LD8) 2A02(LY2)、5060(LF5-1) 2A11(LY11)、 2A12(LY12) 2A16(LY16)、 2A17(LY17) 7A04(LC4)、7A09(LC9) 2017、2014 4032、7075
150-250
室温
10-20
低倍晶粒显示
(1) 软铝合金制品及铸轧板进行晶粒度检验时的浸蚀剂为： HF 42mL、HCl 175mL、HNO3 25mL (2) 硬铝合金制品进行晶粒度的浸蚀剂为： (a) 150-250g/L NaOH 水溶液 (b) 高浓度混合酸 HF 10mL、HCl 5mL、HNO3 5mL、H2O 380mL (c) 稀释混合酸，将高浓度混合酸(b)加入2倍水使用
阳极覆膜装臵和电解抛光装臵相同。电压不易过大， 以防止已生成氧化膜击穿破坏覆膜层的完整性。 阳极覆膜时的电解液温度也不易过高，一般应控 制在20-25℃范围内。覆膜时也可采用叠加覆膜法， 即每次覆膜10-60s，共2-4次，累计时间为1-4min， 可提高显示晶粒组织的清晰度，试样经腹膜后应 及时进行偏振光观察，若放臵时间过长会影响清 晰度。
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冰醋酸 10份 15 高氯酸 1份
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室温 5
电解抛光，阴极为不 锈钢，阴阳极间距为 17-20mm
铝及其合金可分为三组: (1)高纯铝及含有微量合金元素的铝合 金，这组材料很软，特别是在退火状态下；(2)含合金元素较 高，在热处理条件下使用，硬度较高，即使在退火状态下， 也具有中等硬度；(3)含合金元素高，包含有较大体积的金属 间化合物 主要介绍第一组材料金相试样的制备过程： (a)SiC砂纸湿磨到粒度600#； (b)用金刚石研磨膏(粒度：7μm、3 μm和1 3 μm，必要时可用 0.25 μm)在短毛细软呢绒上抛光； (c)用120mL热蒸馏水，20mL5%酒石酸铵水溶液加1克氧化镁制 成悬浮液抛光1-5分钟。悬浮液在使用前应该用棉纱布过滤。 含铜的试样与不含铜的试样不应该在同一抛光织物上抛光， 以避免发生黑色沉淀。 用电解抛光时，最好先用7 μm的金刚石研磨膏粗抛光。
磨光步骤 抛光步骤 浮石 硅藻土 最细抛光 最细抛光或 细抛光 最终抛光 细磨 粗抛光或预 先抛光 细磨或初磨 (<500μm)
SnO2
MgO Fe2O3 Cr2O3 混合刚玉
表2 金相磨光和抛光用磨料应用范围（续表）
磨光步骤 抛光步骤 天然刚玉 人造刚玉 BeO Al2O3 最细抛光 最细抛光或 细抛光 最终抛光 细磨 粗抛光或预 先抛光 细磨或初磨 (<500μm)
表3 铝及铝合金常用电解抛光液成分及工艺参数
序 电解液成分 号 1 高氯酸 25(10)mL 无水乙醇 75(90)mL 正磷酸 817mL 硫酸 134mL 铬酸 40mL 电解抛光或浸蚀工艺参数 电压 电流密度 温度 时间 V (A/cm2) ℃ s 40(25 — -60) 室温 15(6- 适于铸造Al-Cu和Al-Si (<40) 35) 合金外的多种合金电 解抛光 75 20 电解抛光 用途
电解抛光的优点： (1) 无变形层和扰乱层，组织清晰，真实。 (2) 抛光速度快，仅数秒至数分钟即可。 (3) 特别适合铝、铜及其合金等机械抛光较困难的金属试样， 可获得较好的抛光效果，同时能显示组织的电解浸蚀作 用。 (4) 设备简单，一台直流稳压电源即可。 电解抛光前，试样经细磨和粗抛去除磨痕后，再进行电解抛 光，效果较好，可避免蚀坑的产生。 电解抛光液的种类很多，应根据合金类型而定，归纳起来有 冷态和热态两类，但常用的以冷态为多(<50℃)。对于高 硅、化学成分不均匀和偏析的铸造合金，易产生浮雕和 局部浸蚀，可采用乙二醇、甘油等缓释剂莱改善腐蚀条 件。
组织的显示
分为化学浸蚀法、电化学浸蚀法、恒电位深腐蚀法和薄膜干涉 显示法等。其中，最常用的是化学浸蚀法。 化学浸蚀法 显示铝及其合金组织的常用浸蚀剂，除了稀释的氢氟酸或氢氧 化钠水溶液外，还有盐酸、硝酸和硫酸等溶液。浸蚀剂的浓 度和浸蚀时间对相的浸蚀程度和色泽有很大影响。 阳极覆膜法 是指将抛光后的金相试样进行阳极氧化处理，使试样表面覆盖 一层氧化膜，由于晶粒位向不同，所以在晶粒表面形成的氧 化膜的厚度也不一样，而且其结构与位向对应于基体晶粒位 向。因此，利用氧化膜各向异性特点，在显微镜偏振光下观 察，不同厚度氧化膜的经历位向对偏振光反射的程度不一致， 就能观察到许多色彩不同的晶粒区域。
混合酸水溶液浸蚀
电解抛光并阳极覆膜偏 振光下组织
低倍组织试样制备与显示方法
试样选取
园铸锭试样应先切除头尾规定长度后，沿两端横向截取25mm 左右厚 (a) 检查铸锭氧化膜应在铸锭尾部截取50×50×150mm，并 将其墩成厚度为30mm的试样 (b) 挤压制品试样在挤压尾部沿横向截取30mm厚 (c) 检查粗晶环的低倍试样是淬火态 (d) 检查板材分层，在板材后端沿横向剪切30mm宽的条状试 样，然后沿纵向切成几段检查
SiC
B4C 金刚石
机械抛光
(a) 抛光织物 较硬的材料如钢铁一般粗抛用帆布、呢纶或无毛呢 绒等，细抛用短毛细软呢绒或毡呢等 软的金属和合金用短毛呢绒粗抛；用丝绒细抛；最 终精抛采用麂皮手抛 新的抛光织物在使用前放入水中煮沸10-30min使之 脱脂软化，再用肥皂洗净。每次使用前要清洗 干净。精抛时试片压力要小，并不断传动试样， 以避免曳尾。 氧化镁粉在湿空气和水中会缓慢发生化学反应，生 成氢氧化镁和碳酸镁而失去抛光作用，所以使 用时采用蒸馏水或去离子水临时配制呈糊状。 抛光结束后，抛光织物应进入在1%HCl水溶液 中1min，然后漂洗干净待用。
表1 铝及铝合金铸锭低倍浸蚀剂
合金牌号 NaOH溶液浓度 g/L 80-120 NaOH溶液温 度 ℃ 室温 浸蚀时 间 min 20-30
5A02(LF2)、 5A02(LF2) 5083(LF4)、 5A05(LF5) 5A06(LF6)、 5B05(LF10) 5A12(LF12)、5052 3003、 3A21(LF21) 6A02(LD2)、 5056(LF5-1) 2217、 2A01(LY1) 2A02(LY2)、 2A04(LY4) 2A06(LY6)、 2B11(LY8) 2B12(LY9)、2017 2024、 2A10(LY10)
观察面的磨平： 对于硬质合金可以采用砂轮或锉刀磨平。 (a)对于较软的金属材料用细锉刀锉平，不得用 砂轮磨平；对于硬度小于HV150的金属材料采 用带有硬质合金或金刚石刀片的纤维切片机 切割。 (b)对于金属材料表面层(如表面镀层、氮化层) 组织的观察，由于表面层极薄(几个微米)， 采用斜面磨削法莱扩大表层观察范围。
80-120
室温
3-8
续表1 铝及铝合金铸锭低倍低倍浸蚀剂
合金牌号 NaOH溶液浓度 g/L 80-120 NaOH溶液温 度 ℃ 室温 浸蚀时 间 min 3-8
2A11(LY11)、 2A12(LY12) 2A13(LY13)、 2A14(LY14) 2A16(LY16)、 2A17(LY17) 7A03(LC3)、7A04(LC4) 7A05(曾用705)、7075 7A09(LC9)、 7A10(LC10) 2A80(LD8)、4032 6061(LD30)、6063(LD31)
电解抛光
图1 典型的电解抛光曲线
(1)AB段 电流随电压增加而上 升，电压较低，不足以形成一 层稳定的薄膜，只有电解浸蚀 现象。 (2)BC段 试样表面形成一层反 应产物的薄膜 (3)CD段 电压升高，薄膜变厚， 相应的电阻增加，电流保持不 变，正常的电解抛光范围。 (4)DE段 放出氧气，由于氧气 的形成，导致试样表面点蚀。 CD越宽越有利于电解抛光，DE 段大多用于工业生产(阳极光 亮法)
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100 15 12-14 室温：24h 120℃：10h 150℃：4-6h 室温：24h 80℃：6-8h 固化温度较高，收 缩小，适宜镶嵌形 状复杂的小孔和裂 纹试样 镶嵌硬度高的式样 或氮化层试样。填 充料的微粉可根据 需要调整比例
2
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100 15 15 适量
表2 金相磨光和抛光用磨料应用范围
试样浸蚀
1）碱蚀 a) 铝及铝合金铸锭的低倍试样浸蚀方法见表1 b) 铝及铝合金加工制品低倍组织碱蚀方法见表2 检查焊缝及氧化膜的试样可用表2中的浸蚀剂，但浸蚀 时间相应增加1到2倍 2）酸洗 试样经碱液浸蚀后，应迅速用自来水冲洗，然后放入 20-30%的HNO3水溶液中进行光洗，除去黑色的碱 蚀产物，随后用自来水冲洗干净。
表1 常用的浇注镶嵌塑料配方
序 号 1 原料名称 618环氧树脂 邻苯二甲酸二酊脂 二乙烯三胺(或乙 二胺) 618环氧树脂 邻苯二甲酸二酊脂 二乙醇胺 6101环氧树脂 邻苯二甲酸二酊脂 间苯二胺 碳化硅粉或氧化铝 粉(粒度40μ) 用量(g) 固化时间(h) 100 15 室温：24h 60℃：4-6h 备注 镶嵌较软或中等硬 度的金属
影响电解抛光的因素有电解液成分、电流密度、电压 和抛光时间等。当试样已知，电解液选定后，电 解抛光的效果主要取决于电流密度、电解液温度 和抛光时间三个因素，尤其电流密度最关键。若 电流密度小，则抛光速度慢，同时产生浸蚀现象， 当电流密度过高时，将产生小气泡聚集在抛光面 上，导致蚀坑的出现。由于材料差异，根据有关 手册中给出的电解液成分及电解规范进行抛光效 果不稳定，这时最好在所选择的电解液中测定电 压-电流密度曲线，确定最佳的抛光电压和电流密 度。 电解抛光的阴极材料常用的有不锈钢板和铅板，实验 前观察阴极表面，若表面沉积过多，应进行打磨 去掉表面沉积层。
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电解浸蚀
续表3
序 电解液成分 号 3 电解抛光或浸蚀工艺参数 用途 电压 电流密度 温度 时间 V (A/cm2) ℃ s 42- 4-6 磷酸 60mL 50-60 0.35 适于Al-Mg合金电解抛 45 酒精 380mL 光 水 250mL 氟硼酸 4-5mL 水 200mL 20 0.2 室温 40-80 电解浸蚀，偏光观察