HA-硬铬电镀工艺

HA -Ⅱ硬铬电镀工艺

一

特点

1、高阴极电流效率，可达22~27%。

2、高沉积速度，一般是传统镀铬的2~3倍。

3、不会腐蚀阴极低电流密度区的底材。

4、镀层平滑，细致青亮。

5、高镀层硬度达HV900~1200。

6、高微裂纹数达1000条/寸。

7、镀层厚度均匀，有良好的分散能力。 8、镀液维护容易，控制简单。

9、无固体添加之铬尘和溅水现象。 10、无阳极腐败蚀，勿须使用特殊阳极。 11、一次可镀1000微米超厚镀层。

二、镀液配方和操作条件

三、镀液的配制

1、按上表所需的HA

—ⅡQ 加入镀槽中。 2、添加去离子水，至所需之液位高度。 3、加热至55~60℃。

4、分析硫酸浓度，并调整至工艺规范。

5、电解4~6小时。

6、开始作业。 四、沉积速率（参考） 注：沉积速率会随温度降低而稍微上升，但是光亮范围会相对变窄。

五、转缸与前处理

由一般传统的硬铬镀液转为HA—Ⅱ的程序非常简单，只须将镀液送交本公司化验，经确定无机杂质不超过7.5克/升，同时不含氟化物、稀土，则本公司将协助客户将镀液转成HA－Ⅱ之工艺。

HA—Ⅱ之前处理与一般传统硬铬电镀相同，无需经过特殊程序的处理。

六、设备

镀槽（缸）：铁槽内衬软式PVC槽衬或其他认可材料如Koroseal均可。

阳极：含7%锡的铅阳极，其他如铅锡、铅锑阳极亦可使用。

整流器：输出功率须可达到9~15伏特较为适当，同时输出电流之波纹应在5%以下。

温度控制：热交换器或冷却盘管，建议使用钛管或金属管披覆铁弗龙（Teflon）或碳氟化物（PVDF）为佳。

循环搅拌：良好的镀液循环，可促进镀液中化学成分和热分布均匀，循环过滤机材料建议使用不锈钢或适当的防腐蚀塑料。

七、添加剂的作用与补给

HA—Ⅱ（补）以每1000安培小时8~10毫升补加，溶液蒸发量大，带出量大补加偏高，反之偏低。

铬酸以每1000安培小时添加120~150克.。