俄歇电子能谱
俄歇电子能谱法
定性分析的一般步骤: a.利用“主要俄歇电子能量谱”,确定实测谱中最 强峰可能对应的几种元素; b.实测谱与可能的几种元素的标准谱对照,确定最 强峰对应元素,并表明属于此元素的所有峰; c.反复重复上述步骤识别实测谱中尚未标识的其余 峰。
2.定量分析 因为影响俄歇信号强弱的因素很多,俄歇能 谱的定量分析比较复杂,因此,俄歇能谱分析精 度较低,基本是半定量的水平。
俄歇电子计数率(IA)与单位体积中原子数(N)的关系可用 下述简化式表示 IA=G(1+r)IpNλe(1-ωW)φ(Ep/EW) G—与实验装置有关的仪器因子 r—被散射因子 Ip—入射电子束流强度 λe—俄歇电子在固体中的非弹性散射平均自由程 ω w--W空穴的荧光X射线产额 φ(Ep/EW)—能量为Ep的入射电子对EW能级的电离几率
二 俄歇电子能谱仪
俄歇电子能谱仪包括以下几个主要部分: 电子枪 能量分析器(RFA, CMA) 二次电子探测器 (样品)分析室 溅射离子枪 信号处理与记录系统 返回
三 俄歇电子能谱分析
1.定性分析 定性分析的任务是根据实测的直接谱(俄歇 峰)或微分谱上的负峰的位置识别元素,方法是 与标准谱进行对比。
5· 化学位移与伴峰 原子化学环境变化,不仅可能引起俄歇峰的 位移(称化学位移),也可能引起其强度的变化, 这两种变化的交叠,则将引起俄歇谱(图)形状 的变化。 除化学环境变化引起俄歇谱(图)变化外, 由于俄歇电子逸出固体表面时,有可能产生不连 续的能量损失,从而造成在主峰的低能端产生伴 峰的现象。 返回
相对灵敏度法 分析依据为
Gx=(Ix/Sx)/(∑Ia/Sa)
Gx—待测元素(x)的原子质量分数 Ia—元素(a)的俄歇电子(主峰)强度,a代表样品 中各种元素 Sa—元素(a)的相对灵敏度因子,即Ia与银元素俄歇 信号(主峰)强度(IAg)的相对比值 返回
7-4 俄歇电子能谱(AES)
§7.4 俄歇电子能谱(AES)俄歇电子能谱的基本机理是:入射电子束使原子内层能级电子电离,产生无辐射俄歇跃迁,用电子能谱仪在真空中对它们进行探测。
虽然早在1925年法国的物理学家俄歇(P.Auger )在用X 射线研究光电效应时就已发现俄歇电子,并对这种电子的产生给予了正确的解释。
但直到1968年哈里斯(L.A.Harris )采用微分电子线路,首创了微分形式俄歇电子能量分布曲线测定法后,解决了如何从强大的本底和噪声中把俄歇信号检测出来的问题,俄歇电子能谱开始进入实用化阶段。
1969年,帕尔姆堡(Palmberg )等引进了筒镜能量分析器,进一步提高了信噪比,使AES 达到很高的灵敏度和分析速度,而一年后出现的扫描俄歇显微探针系统(SAM )使AES 从定点分析发展为二维表面分析。
目前,俄歇电子能谱是表面科学领域中最广泛使用的表面化学成分分析仪器之一。
7.4.1 俄歇过程和俄歇电子能量当原子内层W 能级的一个电子被具有足够能量的光子或入射电子电离时,在W 能级产生一个空穴,该空穴立即就被较高能级的另一电子通过W X →跃迁所填充,多余的能量交给Y 能级上的电子,使之成为俄歇电子发射出去。
这种跃迁过程称为俄歇过程或俄歇效应(图7.4.1)。
一般用原子中出现空穴的能级次序来表示相应的俄歇过程。
上述过程用符号表示就是WXY ,表明W 空穴被X电子填充使Y电子成为俄歇电子。
通常把来自1s 壳层的电子标记为K ,来自2s 的电子标记为1L ,来自2p 的电子标记为2L 、3L 等;把来自价壳层的电子标记为V 。
一般最明显的俄歇跃迁都是X、Y主量子数相等,同时X、Y主量子数比W大一的过程,如KLL 、LMM 、MNN 和NOO 俄歇跃迁。
由WXY 跃迁产生的俄歇电子的动能,可近似地用经验公式估算,即: φ-∆+--=)()()(Z E Z E Z E E Y X W WXY (7.4.1) 其中φ为功函数,Z 是原子序数)3(≥Z 。
俄歇电子能谱
1920
1987
2006
俄歇电子能谱(AES)
一、方法原理 二、仪器结构 三、数据分析与表征 CO N TA N T S
四、AES的应用
历史与现状
1925年,法国科学家俄歇在威尔逊云室中首次观察到了俄歇电子的轨
迹,并且他正确的解释了俄歇电子产生的过程,为了纪念他,就用他的
名字命名了这种物理现象。 1953年,兰德从二次电子能量分布曲线中第一次辨识出这种电子的电
2.激发源
样品原子的激发可以用不同的方式完成。作为常规分析 用的激发源都为具有一定能量的电子束,其原因是电子 束易实现聚焦和偏转,另外它不破坏真空度。 某些特殊场合也可使用光子束作为激发源。其优点是二 次电子背景可大大减少,辐射损伤小于电子束。 另外,离子轰击也可以激发俄歇电子。
(1)电子源
电子源目前有两种:热电子发射源和场发射电子源。 热电子发射源,是通过对发射体(阴极)加热,使垫子 获得足够能量以克服表面势垒(称功函数或逸出功)而 逸出,电子流密度与发射体的功函数和温度有关。 场发射电子源,其原理是发射体外施加一强电场,是发 射体的表面势垒降低,宽度变窄,从而电子得以逸出。
俄歇电子从入口位置进入两圆 筒夹层,因外筒加有偏转电压 ,最后使电子从出口进入检测 器。若连续的改变外筒上的偏 转电压,就可在检测器上依次 接收到具有不同能量的俄歇电 子。 从能量分析器输出的电子经电 子倍增器、前置放大器后进入 脉冲计数器,最后由x-y记录 仪或荧光屏显示俄歇谱。
不同能量的电子通过分析器后最大限度的被分离,以便 选出某种能量的电子(色散特性——获得高分辨率) 具有相同能量、不同发射角的电子尽可能会聚于一点( 聚焦特性——获得高灵敏度) 上述两方面要求相互矛盾,应根据具体问题,做折中选 择。
俄歇电子能谱仪(AES)
由图可知,随着原子序数Z的增加,X射线荧光产额增加, 而俄歇电子的产额下降。Z<33时,俄歇发射占优势。
2.俄歇过程的命名 2.俄歇过程的命名
每一俄歇电子的发射都涉及3个电子能级,故常以三壳层 符号并列表示俄歇跃迁和俄歇电子。若W表示最初空穴能级, X表示填充空穴的 电子能级,Y表示俄歇电子发射能级,则该 过程称为WXY俄歇跃迁。
KL1L1 L1M1M1 L2, 3VV
3.俄歇电子的能量 3.俄歇电子的能量
俄歇电子发射涉及三个电子能级WXY, 对于基态原子,俄歇电子能量为:
俄歇电子
EWXY (Z)=EW(Z)-EX(Z)-EY(Z)
事实上,原子发射俄歇电子时已处于激发态,此时需 要在公式中引入能级修正项。经验公式为: EWXY(Z)=EW(Z)-EX(Z)-EY(Z)-[EX(Z+1)-EX(Z)+EY(Z+1)-EY(Z)]/2 由于束缚能强烈依赖于原子序数,所以,用确定能量 的俄歇电子来鉴别元素是明确而不易混淆的。通过经验公式 及各元素不同能级的束缚能,可以绘制出俄歇电子能量图。
二、AES的结构
三、AES应用举例
1.AES的定性分析——元素组成 1.AES的定性分析——元素组成 的定性分析—— ★ 特定的元素具有特定的俄歇跃迁过程,其俄歇 电子的能量是特征的。 ★ 特定元素在俄歇电子能谱上的多组俄歇峰的峰 位、峰数、各峰相对强度大小由特定元素原子结构 确定。 因此可以通过AES实测的直接谱或微分谱与 “俄歇电子能量图”及“俄歇电子标准谱”进行对 比,从而识别元素。
4.AES的深度剖析——元素的深度分布 4.AES的深度剖析——元素的深度分布 的深度剖析—— 先用Ar离子把表面一定厚度的表面层溅射掉, 然后再用AES分析剥离后的表面元素含量,这样就可 以获得元素在样品中沿深度方向的分布。
材料科学研究方法-俄歇电子能谱
断口表层
(《材料电子显微分析》P176图5-15)
距断口表层4.5nm深度处
(采用氩离子喷溅技术逐层剥离)
俄歇能谱分析结果表明:
磷在晶界处显著富集,含量高达4.72%,较基体磷高235倍,而在晶界 两侧急剧下降,在距晶界约4.5nm处已下降到基体水平。 所以,磷元素主要集中在晶界2nm的范围内,这不是其它微区分析技 术所能测出来的。(如:普通EPMA的空间分辨率约为1微米左右)
3)能量损失机理导致的变化将改变俄歇峰 低能侧的拖尾峰。
由于俄歇电子位移机理比较复杂,涉及到 三个能级,不象X射线光电子能谱那样容易识别和 分析,并且通常使用的俄歇谱仪分辨率较低,这方 面的应用受到了很大的限制。
俄歇电子能谱法的应用
优点: ①作为固体表面分析法,其信息深度取决于俄歇电子逸 出深度(电子平均自由程)。对于能量为50eV~2keV范围内 的俄歇电子,逸出深度为0.4~2nm。深度分辨率约为1nm, 横向分辨率取决于入射束斑大小。 ②可分析除H、He以外的各种元素。 ③对于轻元素C、O、N、S、P等有较高的分析灵敏度。 ④可进行成分的深度剖析或薄膜及界面分析。
100 Si 80 SiO2 界面层
原子摩尔百分数浓度
60 O
O
40 Si 20 PZT O 0 0 0.5 1 1.5 2 2.5 3 溅射时间 / min 3.5 4
PZT/Si薄膜界面反应后的俄歇深度分析谱
微区分析
微区分析也是俄歇电子能谱分析的一个 重要功能,可以分为选点分析,线扫描 分析和面扫描分析三个方面。 这种功能是俄歇电子能谱在微电子器件 研究中最常用的方法,也是纳米材料研 究的主要手段。
WXY俄歇过程示意图
俄歇电子能谱
溅射离子枪和信号处理与记录系统等
5
9
AES应用
AES具有五个有用的特征量:特征能量、强度、峰位移、谱线宽 和线型。 由AES的这五方面特征可获如下:表面特征化学组成、覆盖度键 中的电荷转移、电子态密度和表面键中的电子能级等。
采用俄歇电子能谱可得到的信号种类和知识
13
AES应用---表面元素的化学价态分析
表面元素化学价态分析是AES分析的一种重要功能。俄歇电子能谱的化学位
移分析在薄膜材料的研究上获得了重要的应用,取得了很好的效果。但是,由于我们很 难找到俄歇化学位移的标准数据,要判断其价态,必须用自制的标样进行对比,这是利 用俄歇电子能谱研究化学价态的不利之处。此外,俄歇电子能谱不仅有化学位移的变化, 还有线形的变化。俄歇电子能谱的线形分析也是进行元素化学价态分析的重要方法。
15
AES应用---微区分析
微区分析也是俄歇电子能谱分析的一个重要功能,可以分为选点分析, 线扫描分析和面扫描分析三个方面。这种功能是俄歇电子能谱在微电子 器件研究中最常用的方法,也是纳米材料研究的主要手段。 俄歇电子能谱的线扫描分析常应用于表面扩散研究,界面分析研究等方 面
Ag-Au合金超薄膜在Si(111)面单晶硅上的电迁移后的样品表面的Ag和Au元素的线扫描。横坐标为线扫描宽度,纵坐标为元素的信号强 度。从图上可见,虽然Ag和Au元素的分布结构大致相同,但可见Au已向左端进行了较大规模的扩散。这表明Ag和Au在电场作用下的 扩散过程是不一样的。
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AES应用的优缺点
优点
①作为固体表面分析法,其信息深度取决于俄歇电子逸出深度(电子平均自由程)。 对于能量为50eV~2keV范围内的俄歇电子,逸出深度为0.4~2nm。深度分辨率 约为1nm,横向分辨率取决于入射束斑大小。 ②可分析除H、He以外的各种元素。 ③对于轻元素C、O、N、S、P等有较高的分析灵敏度。 ④可进行成分的深度剖析或薄膜及界面分析。
俄歇电子能谱
100 Si 80 SiO2 界面层
原子摩尔百分数浓度
60 O
O
40 Si 20 PZT O 0 0 0.5 1 1.5 2 2.5 3 溅射时间 / min 3.5 4
PZT/Si薄膜界面反应后的俄歇深度分析谱
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微区分析也是俄歇电子能谱分析的一个重要功能, 可以分为选点分析,线扫描分析和面扫描分析三个 方面。 这种功能是俄歇电子能谱在微电子器件研究中最常 用的方法,也是纳米材料研究的主要手段。
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Ag -Au/Si(111)
计数 / 任意单位
Ag
Au
0
100
200
300
400
500
600
700
距离 / m
Ag-Au合金超薄膜在Si(111)面单晶硅上的电迁移后的 样品表面的Ag和Au元素的线扫描分布图
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俄歇电子能谱的面分布分析也可称为俄歇电子 能谱的元素分布的图像分析。它可以把某个元素在 某一区域内的分布以图像的方式表示出来,就象电 镜照片一样。只不过电镜照片提供的是样品表面的 形貌像,而俄歇电子能谱提供的是元素的分布像。 结合俄歇化学位移分析,还可以获得特定化学 价态元素的化学分布像。俄歇电子能谱的面分布分 析适合于微型材料和技术的研究,也适合表面扩散 等领域的研究。在常规分析中,由于该分析方法耗 时非常长,一般很少使用。
4
积分谱根据能量分辨率的不同设置方式,也有两 种形式,即NE(E)~E和N(E)~E。积分谱的信噪比 优于微分谱,但信背比却低于微分谱。
5
1、表面元素定性鉴定 2、表面元素的半定量分析 3、表面元素的化学价态分析 4、元素沿深度方向的分布分析 5、微区分析 6、选点分析、线扫描分析、元素面分布分析
俄歇电子能谱
俄歇电子能谱俄歇电子能谱(RydbergElectronSpectroscopy,RES)是一种测量极离子系统的光谱分析方法,可以将气态离子激发到高能状态,从而测量离子系统中激发光谱的强度和波长。
俄歇电子能谱可以用来测量和研究由多个电子组成的极离子系统的物理性质,是物理化学研究中经常使用的必要技术。
俄歇电子能谱技术是一种光谱分析技术,它可以用来测量极离子系统中激发状态的性质,如激发态的能量、振荡强度以及激发光谱的波长及波长分布。
此外,它还可以用来调查极离子系统中的局域化电子结构。
俄歇电子能谱可以用光学或电离谱的方法来测量极离子系统的光谱,并通过特征的谱线特征来分析信号,从而获取极离子系统的物理性质。
俄歇电子能谱试验常用到的发射管正是由极离子系统组成,在发射管中,离子被激发到极离子状态,然后释放出不同波长和强度的激发态,最终形成发射管中的总体激发光谱。
俄歇电子能谱技术可以用来测量极离子系统中各种物理量,如极离子能级的能量、激发态的密度和电子轨道的结构,以及极离子的结构、物理化学反应以及电子结构的研究。
同时,它也可以用于研究由极离子组成的分子的特性,包括分子结构、动力学研究以及超高真空和室温条件下分子的特性。
俄歇电子能谱技术具有较高的精确度,可以用来测量极离子系统中的激发态的能量和强度、激发态的密度和电子轨道的结构等,因此在科学研究中得到了广泛应用。
例如,在研究分子结构和性质以及电子激发能量的转移过程、分子的活化和物理化学反应等方面,都可以使用俄歇电子能谱技术。
俄歇电子能谱技术一直以来都是物理化学研究领域中重要的分析工具,它可以用来测量极离子系统中激发状态的性质,为物理化学研究和应用提供重要信息和参考,为解决科学问题和技术问题提供重要帮助。
随着科学技术的进步,俄歇电子能谱技术将会得到进一步的改进,并将在更多的研究领域中得到广泛应用。
俄歇电子能谱AES
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Inelastic Mean Free Path (nm)
4 Al Cu 2 Au
0 0
500
1000 1500 2000 Electron Energy (eV)
2500
在三种材料中理论计算的非弹性平均自由程与电子能量的关系
表面分析技术
25
平均自由程
一般来说,当z达到3时,能逃逸到表面的电子数仅占5% ,这时的深度称为平均逃逸深度。平均自由程并不是一个 常数,它与俄歇电子的能量有关。 图7 表示了平均自由程与俄歇电子能量的关系。从图上 可见,在75-100 eV处,存在一个最小值。俄歇电子能
表面分析技术
21
俄歇跃迁几率
KLL
1
LMM
MNN
1
K 0 0 10 20
L 30 40 50 60 70
M 80 0 90
Atomic Number
1. 根据半经验计算,K能 级激发的PA与PX的关 系可以用图5表示。 2. 从图上可见,当元素 的原子序数小于19时 (即轻元素), 俄歇 跃迁几率(PA)在90% 以上。 3. 直到原子序数增加到 33时,荧光几率才与 俄歇几率相等
量在100 - 2000 eV之间,与E1/2成正比关系。这一能量
范围正是进行俄歇电子能谱分析的范围
表面分析技术
26
表面分析技术
27
平均自由程
平均自由程不仅与俄歇电子的能量有关,还与元素材 料有关。M.P.Seah等综合了大量实验数据,总结出了 以下经验公式; 对于纯元素: = 538E-2 + 0.41(aE)1/2 对于无机化合物: = 2170E-2 + 0.72(aE) 对于有机化合物: = 49E-2 + 0.11(aE)1/2 式中 E -- 以费米能级为零点的俄歇电子能量,eV; a -- 单原子层厚度,nm;
俄歇电子能谱仪(AES)分析方法介绍
俄歇电子能谱仪(AES)分析方法介绍1.俄歇电子能谱仪(AES)俄歇电子能谱仪(Auger Electron Spectroscopy,AES),作为一种最广泛使用的表面分析方法而显露头角,通过检测俄歇电子信号进行分析样品表面,是一种极表面(0-3nm)分析设备。
这种方法的优点是:在靠近表面5-20埃范围内化学分析的灵敏度高,很高的空间分辨率,最小可达到6nm;能探测周期表上He以后的所有元素及元素分布;通过成分变化测量超薄膜厚。
它可以用于许多领域,如半导体技术、冶金、催化、矿物加工和晶体生长等方面。
2.俄歇电子能谱仪(AES)工作原理(1)原子内某一内层电子被激发电离从而形成空位,(2)一个较高能级的电子跃迁到该空位上,(3)再接着另一个电子被激发发射,形成无辐射跃迁过程,这一过程被称为Auger效应,被发射的电子称为Auger电子。
(4)俄歇电子能谱仪通过分析Auger电子的能量和数量,信号转化为元素种类和元素含量。
3.俄歇电子能谱仪(AES)可获取的参数(1)定性分析:定性除H和He以外的所有元素及化合态。
(2)元素分布:元素表面分布和深度分布,能获极小区域(表面最小6nm,深度最小0.5nm)的元素分布图。
(3)半定量分析:定量除H和He以外的所有元素,浓度极限为10-3。
(4)超薄膜厚:通过成分变化能测量最薄0.5nm薄膜的膜厚。
4.案例分析案例背景:样品为客户端送检LED碎片,客户端反映LED碎片上Pad表面存在污染物,要求分析污染物的类型。
失效样品确认:将LED碎片放在金相显微镜下观察,寻找被污染的Pad,通过观察,发现Pad表面较多小黑点,黑点直径3μm左右,考虑分析区域大小后选择分析区域最小AES进行分析,能准确分析污染物位置。
俄歇电子能谱仪(AES)分析:对被污染的Pad表面进行分析,结果如下图,位置1为污染位置,位置2为未污染位置。
结论:通过未污染位置和污染位置对比分析可知,发现污染位置主要为含K(20.6%)和S(13.6%)类物质,在未污染位置S含量为3.7%未发现K元素,推断污染位置存在K离子污染,并与S共同作用形成黑色污染物。
俄歇电子能谱(AES)
(2)背散射电子引起的电离部分
若单位强度入射电子产生n个散射电子,产生的电离部分为
令
称为基体散射因子,则
(3)总电离几率
@
2.平均自由程和逃逸深度Z
(1)将电子在固体中连续发生两次非弹性碰撞之间所经过的距离 的平均值称为非弹性撞平均自由程,对于E>200eV
(1) e束能量高,对绝热材料易致损伤;
(2) e束带电荷,对绝缘材料有荷电现象,影响分析。 @
二、俄歇效应
俄歇电子
X 射 线
C
B
A
电子激发引起的X-射线和俄歇电子发射
俄歇过程如图:当原子受外来高能e轰击(Ep5EK)时,内 壳层e电离,原子内层轨道出现空穴而处于激发态,电离原子 通过发射X-ray或发射Auger e去而去激发。
3.终态效应
仅在X射线激发,且在高分辨率谱仪下才能观察到。 @
六、俄歇信号强度
讨论Auger e 强度的目的是为了进行元素定量分析,影响 强 度 的 因 素 主 要 为 (1) 元 素 电 离 几 率 ; (2)Auger 跃 迁 几 率 ; (3)Auger的逃逸深度。 1.原子内能级的电离几率(截面) AX AX定义为入射e与元素A作用时,从X能级激发出 Auger e 的几率。Ax是入射 e 能量EP、元素种类和原子壳层的函数。 (1)入射电子本身引起的电离部分 =F(EP,电离能EAX,壳层电子数…) 对于A原子X壳层 @
二次电子 弹性散射峰
Auger 电子峰
从图可以看出:
(1)峰位 (能量) ,由特定元素原子结构确定;
(2)元素的峰数,…………………………. .,(可由量子力学估计); (3)各峰相对强度大小也是该元素特征; 以上三条是俄歇能谱定性分析的依据,这些数据均有手册可查。 @
第五篇 能谱分析 51 俄歇电子能谱分析(AES) 511 俄歇电
5.1.5 俄歇电子能谱仪的装置
主要讲电子探针束系统和能量分析系统。
(1) 电子探针束系统
俄歇电子能谱的探针电子要将结合能 Eth<2000eV能级上的电子电离。因此探针的射线能 量应高于此值。可供选择的能源有:X射线、高能 电子束和离子束。但三者相比,电子束的优点较多, 一般会采用其为电子探针系统。原因如下:
第五章 能谱分析
1. 俄歇电子能谱分析(AES) 1. 俄歇电子能谱概述
俄歇电子能谱(AES)采用受照射原子弛豫过程中 产生的俄歇电子为测试信号。它与光分析、X射线分 析不同的是,俄歇电子测试的是真正的电子及其能量。 光分析的对象是光波或电磁波。仅是能量。
俄歇电子能谱法有三个基本特征:
a) 俄歇电子能谱分析属于元素分析范畴;
子产额αk确定的情况下,产生的俄歇电子数将
越多,俄歇电子信号将可能越强(X射线荧光也 可能越强)。
若有Ii个能量为Ei的探针电子以入射角θ
照射到固体表面时,能够逸出到样品表面外的 单位立体角内的俄歇电子数的微分方程为:
dIa/dω = αx/4π∫f(Z,Ei,θ,Ii)exp(-μZ/cosθ)dZ
L = 6.13r1 E0/V = 1.3/ ln(r2/r1)
狭缝有一是宽度,相当于入射角θ有一个微小变化 (θ+Δθ) 。信号电子的能量也会有一个小变化,即为 (E0+ΔE0) 。经过静电场的电子运动轨迹和中心轴的 交点与理论交点F不是同一点,它们之间的距离为ΔL。 ΔL是Δθ和ΔE0的函数。其中ΔL与Δθ的关系式可由泰
a) 当探针电子能量(级)<4Eth(Eth为碳原 子中K电子的结合能,为284eV)时,在距离 表面10nm厚度内,离子的密度大。随着纵 向的深入,离子的密度迅速下降。
俄歇电子能谱分析
杨鹏飞 100904091
2
1.俄歇电子能谱仪基本原理
2.俄歇谱仪(AES)及扫描俄歇探针(SAM) 3.俄歇电子谱 4.俄歇电子能谱技术的应用
1.俄歇电子能谱仪基本原理
(1)基本原理 用一定量的电子束轰击样品,使样品原子的内层电子电离, 产生俄歇电子,俄歇电子从样品表面逸出进入真空,被收集 和进行分析。 (2)特点 a.分析层薄 b.分析元素广 c.分析区域小 d.有提供元素化学态的能力 e.具有测定深度—成分分布的能力 f.检测的灵敏度高
PZT/Si薄膜界面反应后的俄歇深度分析谱
17
(6)样品表面的处理
在表面分析时,由于样品在空气中极易吸附气体分子 (包括元素O、C等),这种现象不可避免。而许多样品在 分析时又需要对氧、碳等元素进行分析,因此需要在分析前 对样品进行离子束溅射,去除污染物。
4.俄歇电子能谱技术的应用
(1)研究金属及合金脆化的本质
2.俄歇谱仪(AES)及扫描俄歇探针 (SAM)
俄歇谱仪包括以下几个部分:
样品台,电子枪,扫描电源,溅射离子枪 分析器及放大器,记录系统。 配备有二次电子及吸收电子检测器以及X射线能谱探头,使 这种仪器兼有扫描电镜和电子探针的功能,故称扫描俄歇微 探针。
3.俄歇电子谱
直接谱与微分谱 直接谱即俄歇电子强度 (密度或电子数)N(E) 对其能量E的分布 N(E)—E. 微分谱即 dN(E)/dE-E.
(4)定量分析
根据测得的俄歇电子信号的强度来确定产生俄歇电子的元 素在样品表面的浓度。
分类:标准样品法,相对灵敏度因子法。
a.标准样品法
标准样品法有纯元素标样法和多元素标样法。 纯元素标样法是在相同条件下,测量样品中元素X和纯元 素X标样的同一俄歇峰,俄歇电子信号的强度分别为Lx和 Ixstd,样品中元素X的原子分数为 Cx= Lx/ Ixstd
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&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.1 定性分析
俄歇电子能谱的定性分析是一种最常规的分析方法 定性分析的任务是根据测得的微分谱上负峰位置识别 元素,方法是与标准谱图对比,工具是有标准谱图的 手册,如PE公司的“俄歇电子谱手册”(L. E. Davis 等编),在这本手册里,有每一种元素的标准谱图及 主要俄歇电子能量图。
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.3 化学态分析
2、峰形分析也可以用于元素化学价态分析
当俄歇跃迁涉及到价电子能带时,不 仅峰的位置会变化,而且由于新化学 键形成时原子外层电子重排,谱峰的 形状也会变化。
氧化程度不同,不仅使俄歇电子峰 位移了几个电子伏,而且在 40 eV 处还发生了峰的分裂
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.1 定性分析
一般定性分析步骤如下: 1 、首先把注意力集中在最强的俄歇峰上。利用“主要俄歇电子能量图”, 把对应于此峰的可能元素降低到 2~3种。然后用这几种可能元素的标准谱 进行对比分析,确定元素种类。考虑到元素化学状态不同所产生的化学位 移,测得的峰的能量与标准谱上的峰的能量相差几个电子伏特是很正常的。 2、在确定主峰元素后,利用标准谱图,在俄歇电子能谱图上标注所有属于 此元素的峰。 3、重复1和2的过程,去标识更弱的峰。
3.5.3.4 元素深度剖析
从图上可以清晰地看到各元 素在薄膜中的分布情况。 在经过界面反应后,在 PZT 薄膜与硅基底间形成了稳定 的SiO2界面层。这界面层是 通过从样品表面扩散进的氧 与从基底上扩散出的硅反应 而形成的
100 Si 80 SiO2 界面层
原子摩尔百分数浓度
60 O
O
40 Si 20 PZT O
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.2半定量分析
目前,俄歇电子图谱的实用定量分析方法中应用较多的是相对 灵敏度因子法。 相对灵敏度因子法是将各元素产生的俄歇电子信号换算成Ag当 量来进行比较计算的。测量纯元素A与纯Ag的主要俄歇峰的强 度IA和IAg,则元素A的相对灵敏度因子为:SA I A /I Ag
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.3 化学态分析
1、用化学位移来鉴别不同化学环境中的同种原子
氧化铝的Al俄歇峰相对于金属 Al的化学位移。在低能的LVV 跃迁 (68 eV) 和高能的 KLL 跃 迁(1396 eV),位移都很明显, 达到17~18 eV。
EZ :原子序数为Z的原子所发射的俄歇电子的能量;
Ez, Ez , Ez 都代表原子中的电子束缚能; Ez— Ez — Ez 表示、、 层的束缚能之差,是主要的部分; 括号的项是较小的修正,代表当 电子不在时 电子束缚能的增加和 电子不 在时 电子束缚能的增加二者的平均值。 各元素的俄歇电子的动能可以从有关手册上查到
Mg1s1/2
KL1L1
L1M1M1
L2,3VV
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3.5.2.3 俄歇电子命名
氢原子(1s1)和氦原子(1s2)
只有K层电子,不能产生俄歇电子。
孤立的锂原子(1s22s1)
也不可能产生俄歇电子,因为锂原子只有一个L1电子,
但金属锂可以有LiKVV(V表示价带),因为价带中有许多价电 子。
KX
PKX PKX PKA
K层Auger电子几率产额:
KA=1-KX
Z <19, 俄歇电子产额大于90%; 俄歇电子能谱法更适用于轻元素( Z < 33)的分析
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.2.3 俄歇电子命名
俄歇电子的发射牵涉到三个电子的能级,因此,常常将三个 壳层的符号并列来命名俄歇电子
Auger 于十九世纪二十年代独立发现,其中首先由Meitner于1923 年在期刊Zeitschrift fűr Physik对该发现进行了报道,但英语科学
团体依然用俄歇的名字来命名它。
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.2 俄歇电子能谱基本原理 3.5.2.1 俄歇电子发射
X射线/电子束 激发电子
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.1 概述 3.5.2 俄歇电子能谱基本原理
3.5.2.1 3.5.2.2 3.5.2.3 3.5.2.4 俄歇电子发射 俄歇电子产率 俄歇电子命名 俄歇电子能量
3.5.3 俄歇电子能谱 3.5.4 俄歇电子能谱分析法的应用 3.5.5 俄歇电子能谱的特点和应用领域
CA I A /S A
(I
j A
N
j
/S j )
C Fe=
10.1/0.20
10.1/0.20 + 4.7/0.29 + 1.5/0.27
= 70%
C Cr = 22% C Ni= 8%
复习
XPS 电子发射 电子产率 命名 能量 电子能谱 激发光源 定性分析 应 用 定量分析 化学价态分析 A + h → A+* + e(X光电子) / 1s1/2,2p1/2, 2p3/2 , 3d3/2 , 3d5/2 … … 射线 /电子束 EkX = h-E b-sp 纵坐标是光电子数或光电子 强度横坐标是Ek或Eb X射线 强 半定量1% 强 Auger 电子 AES A+* → A2+* + e (Auger电子)
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.2 半定量分析
• 从样品表面出射的俄歇电子的强度与样品中该原子的浓 度有线性关系,因此可以利用这一特征进行元素的半定 量分析,但AES不是一种很好定量分析方法。 • 因为俄歇电子的强度不仅与原子的多少有关,还与俄歇 电子的逃逸深度、样品的表面光洁度,元素存在的化 学状态以及仪器的状态有关。
如果测得俄歇谱中所有存在元素(A, B, C, …N)的峰幅值,则
A元素的原子百分浓度可由下式计算:
CA
I A /S A
( I /S
j A j
N
j
)
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3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.2 定量分析例题
某同学对304不锈钢新鲜塑性断裂表面进行了AES分析,其微分 谱图如下,其中Ep=3KeV,各元素在Ep=3KeV时的相对灵敏度 因子为:SCr=0.29;SFe=0.20;SNi=0.27,图中标*的峰峰高分别 为:Cr:4.7; Fe:10.1; Ni:1.5,试帮助他计算出各元素含量。
A+* → A+* + h (荧光X射线)
A+* → A2+* + e
两个过程竞争; 双电离态;
(Auger电子)
荧光X射线
Auger 电子
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3.5.2.1 俄歇电子产率
用几率来衡量两个竞争过程,发射X射线荧光的几率PKX;发射K系 Auger电子 的几率PKA,则K层X射线荧光产额:
一般的说,电负性差别愈大,移动愈大。但是,氧化的价数也会影 响位移量。
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.3 化学态分析
2、峰形分析也可以用于元素化学价态分析
例 如 , Al 的 KLL 俄歇 电 子 从 金属逸出时激发很强的等离子 激元而损失能量 ( 量子化的 ) , 形成许多次峰,而氧化铝则没 有
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3.5.2.4 俄歇电子能量
俄歇电子的动能只与牵扯到的电子在物质中所处的能级 及仪器的功函数SP有关,与激发源能量无关。
常用的一个经验公式为
1 Z 1 Z 1 Z E E E E E EZ E E 2
Z Z Z Z
用能量为1 keV的一次电子束所 激发的纯银样品的电子能谱
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱仪
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
在俄歇电子能谱仪中,一束电子照射到样品表面会得到哪些信息?
根据从样品表面发射的俄歇电子能量,可以确定表面存在什 么元素——定性分析 根据发射俄歇电子的数量,可以确定元素在表面的含量—— 定量分析(不能准确定量) 不同的化学环境,会使俄歇峰位置移动,峰形发生变化,所以 俄歇峰包含丰富的化学信息——化学态分析 如果用离子束溅射,逐渐剥离表面,还可以得到元素在深度方 向的分布——元素深度剖析 电子束可以聚的非常细,偏转、扫描也容易,让一束聚的很细 的电子在样品表面扫描,就可以测得元素在表面上的分布 —— 微区分析
KA=1-KX
KL1L1、L1M1M1、L2,3VV … … 光电子 与三个电子所在能级的Eb 及sp相关 dN(E)/dE~E 电子束
荧光X射线
强 比XPS还差 可以分析,比XPS差
深度剖析
微区分析
可以分析,分辨率低
可以分析,分辨率低
分辨率高
分辨率高
Hale Waihona Puke &3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
&3.5 俄歇电子能谱(AES)
3.5.3 俄歇电子能谱分析法的应用
3.5.3.3 化学态分析
几点关于俄歇化学位移的经验:
元素组成离子键化合物时,化学位移可达几个电子伏特; 合金中金属组元的成分变化不会产生明显的化学位移; 清洁金属表面上吸附哪怕不到一个单原子层的氧,也会使金属元素 的俄歇峰出现可观测到的位移,并且氧覆盖愈多位移愈大。对于多 数金属,此类位移小于或等于1eV; 在表面形成体相的硫化物、碳化物或氧化物,位移将超过1eV,如 Ta2O5中的Ta就位移了6eV。