集成电路布图设计权

集成电路布图设计权一九四七年二月二十三日，在美国的贝尔实验室，巴丁、布拉顿和肖克莱发明了世界上第一只晶体管。

在当时，谁也不曾料到，这小小晶体管的发明竟然拉开了二十世纪后半叶新技术革命的序幕。

五十年代，人们发明了平面工艺，很快制出了集成电路。

在此后三十多年的时间里，集成电路以令人瞠目的速度迅猛发展，集成规模由小规模发展到中规模，继而又发展为大‘规模、超大规模。

今天，人们已可在一块平方毫米的硅片上集成亿个元件（64MDRAM的集成度）。

技术的进步大大地拓宽了集成电路的应用领域；发挥着巨大的作用，因此，世界各国都投入了大量人力、物力研究和开发集成电路技术。

与此同时，也有一些厂商以各种方式获取他人的技术，利用他人的技术成果牟取暴利。

正是在这样一种情形下，集成电路酌法律保护问题开始受到有关各界以及发的关注，为此，一些工业发达国家相继颁布关保护集成电路保护的法律，保护集成电成为世界的共识。

我国对集成电路知识产，保护一直采取积极的态度，为集成电路同护制度作出了重要的贡献，并已在一九八九年五月通过的世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权条约》文本上签字。

集成电路的知识产权保护问题已摆在了我们面前，有必要文进行认真的研究。

一、集成电路布图设计的概念集成电路的布图设计是指一种体现了集成电路中各种电子元件的配置方式的图形。

集成电路的设计过程通常分为两个部分：版图设计和工艺。

所谓版图设计是将电子线路中的各个元器件及其相互连线转化为一层或多层的平面图形，将这些多层图形按一定的顺序逐次排列构成三维图形结构；这种图形结构即为布图设计。

制造集成电路就是把这种图形结构通过特定的工艺方法，“固化”在硅片之中，使之实现一定的电子功能。

所以，集成电路是根据要实现的功能而设计的。

不同的功能对应不同的布图设计。

从这个意义上说，对布图设计的保护也就实现了对集成电路的保护。

集成电路作为一种工业产品，应当受到专利法的保护。

但是，人们在实践中发现，由于集成电路本身的特性，大部分集成电路产品不能达到专利法所要求的创造性高度，所以得不到专利法的保护。

于是，在一九七九年，美国众议院议员爱德华（Edward）首次提出了以著作权法来保护集成电路的议案。

但由于依照著们法将禁止以任何方式复制他人作品，这样实施反向工程也将成为非法，因此，这一议案在当时被议会否决。

尽管如此，它对后来集成电路保护的立法仍然有着重要意义，因为它提出了以保护布图设计的方式来保护集成电路的思想；在这基础上，美国于1984年颁布了《半导体芯。

片保护法》；世界知识产权组织曾多次召集专家会议和政府间外交会议研究集成电路保护问题，逐渐形成了以保护布图设计方式实现对集成电路保护的一致观点，终于在一九八九年缔结了《关于保护集成电路知识产权条约》。

在此期间，其他一些国家颁布的集成电路保护法都采用了这一方式。

虽然世界各国的立法均通过保护布图设计来保护集成电路，但关于布图设计的名称却各不相同。

美国在它的《半导体芯片保护法，）中称之为“掩模作品”（maskwork）；在日本的《半导体集成电路布局法》中称之为“线路布局”（cir—cuitlayout）；而欧共体及其成员国在其立法中称布图设计为“形貌结构”（topography）；世界知识产权组织在《关于集成电路知识产权条约》中将其定名为布图设计。

笔者以为，在这所有的名称中以“布图设计”一词为最佳。

“掩模作品”一词取意于集成电路生产中的掩模。

“掩模作品”一词已有过时落后之嫌，而“线路布局”一词又难免与电子线路中印刷线路版的布线、设计混淆。

“形貌结构”一词原意为地貌、地形，并非电子学术语。

相比之下，还是世界知识产权组织采用的“布图设计”一词较为妥当。

它不仅避免了其他名词的缺陷，同时这一名词本身已在产业界及有关学术界广泛使用。

《中国大百科全书》中亦有“布图设计”的专门词条‘二、布图设计的特征布图设计有着与其他客体相同的共性，同时也存在着自己所特有的个性。

下面将分别加以论述。

1.集成电路布图设计具有无形性无形性是各种知识产权客体的基本特性，，因此也是布图设计作为知识产权客体的必要条件。

布图设计是集成电路中所有元器件的配置方式，这种“配置方式”本身是抽象的、无形的，它没有具体的形体，是以一种信息状态存在于世的，不象其他有形物体占据一定空间。

布图设计本身是无形的，但是当它附着在一定的载体上时，就可以为人所感知。

前面提到布图设计在集成电路芯片中表现为一定的图形，这种图形是可见的。

同样，在掩模版上布图设计也是以图形方式存在的。

计算机辅助设计技术的发展，使得布图设计可以数据代码的方式存储在磁盘或磁带中。

在计算机控制的离子注入机或者电子束曝光装置中，布图设计也是以一系列的代码方式存在。

人们可通过一定方式感知这些代码信息。

布图设计是无形的，但是其载体，如掩模版、磁带或磁盘等等却可以是有形的。

2.布图设计具有可复制性通常，我们说著作权客体具有可复制性，布图设计同样也具有著作权客体的这一特征。

当载体为掩模版时，布图设计以图形方式存在。

这时，只需对全套掩模版加以翻拍，即可复制出全部的布图设计。

当布图设计以磁盘或磁带为载体时，同样可以用通常的磁带或磁盘拷贝方法复制布图设计。

当布图设计被“固化”到已制成的集成电路产品之中时，复制过程相对复杂一些。

复制者首先需要去除集成电路的外封装；再去掉芯片表面的钝化层；然后采用不同的腐蚀液逐层剥蚀芯片，并随时拍下各层图形的照片，经过一定处理后便可获得这种集成电路的全部布图设计。

这种从集成电路成品着手，利用特殊技术手段了解集成电路功能、设计特点，获得其布图设计的方法被称为“反向工程”。

在集成电路产业中，这种反向工程被世界各国的厂商广泛采用。

集成电路作为现代信息工业的基础产品，已渗透到电子工业的各个领域，其通用性或兼容性对技术的发展有着非常重要的意义。

因此，而反向工程为生产厂商了解其他厂商的产品状况提供了可能。

如果实施反向工程不是单纯地为复制他人布图设计以便仿制他人产品，而是通过反向工程方法了解他人品功能、参数等特性，以便设计出与之兼容的其他电路产品，或者在别人设计的基础上加以改进，制造出更先进的集成电路，都应当认为是合理的。

著作权法中有合理使用的规定，但这种反向工程的特许还不完全等同于合理使用。

比如，合理使用一般只限于复制原作的一部分，而这里的反向工程则可能复制全套布图设计。

改编权是著作权的权能之一，他人未经著作权人同意而擅自修改其作品的行为是侵权行为，但这里对原布图设计的改进则不应视为侵权。

综之，无论何种载体，布图设计是具有可复制性的。

3.布图设计的表观形式具有非任意性著作权客体的表现形式一般是没有限制的。

同一思想，作者可随意采取各种形式来表达，因此著作权法对其表现形式的保护并不会导致对思想的垄断。

布图设计虽然在集成电路芯片中或掩模版上以图形的方式存在，具备著作权客体的外在特性，但是其表现形式因受诸多客观因素的限制，却是有限的或者非任意的。

首先，布图设计图形的形状及其大小受着集成电路参数要求的限制。

如果要求集成电路具有较高的击穿电压，设计人在完成布图设计时就必须将晶体管的基区图形设计为圆形，以克服结面曲率半径较小处电场过于集中的影响。

对于用于功率放大的集成电路，其功放管图形的面积必须较大，使之得以承受大电流的冲击。

其次，布图设计还受着生产工艺水平的限制。

为了提高集成电路的集成度或者追求高频特性，常常需将集成电路中各元件的面积减小。

这样，布图设计的线条宽度也相对较细。

目前国。

外已达到亚微米的数量级。

但如果将线条设计得太细，以致工艺难度太大将会大大地降低集成电路成品率和可靠性，这是极不经济的；同样地，如果一味，地追求功率参数，将芯片面积增大，也会降低集成电路的成品率。

此外，布图设计还受着一些物理定律以及材料类及其特性等多种因素的限制。

比如，晶体管可能因为基区自偏压效应而导致发射极间的电位不等。

为克服基区自偏压效应，则需在加上均压图形。

虽然从理论上讲，突破这些限制条件的图形也可以受到著作权的保护，但由于布图设计的价值仅仅体现在工业生产中，所以对那些完全没有实用价值的、由设计人自由挥洒出来的所谓“布图设计”实施保护是没有任何意义的。

这些图形不是真正意义上的布图设计，称其为一种“抽象作品”或许更为恰当。

布图设计在表现形式的有限性方面，与工业产权客体相似。

三、布图设计权的特性从上面的分析可知，集成电路布图设计有其自身的特征，并同时兼备著作权客体和工业产权客体的特性。

在立法保护布图设计、规定创作人的布图设计权时，应当考虑这一特点。

首先，布图设计权应具备知识产权的共同特性，即专有性；时间性和地域性。

布图设计具有无形性，同一布图设计可能同时为多数人占有或使用。

为保障布图设计创作人的利益，布图设计权应当是一项专有权利。

另一方面，布图设计的价值毕竟是通过其工业应用才得以实现。

仅就一特定的布图设计而言，使用它的人越多，为社会创造的价值就越大。

如果布图设计权在时间上是无限的，则不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路技术的发展。

所以布图设计权应有一定时间期限。

当然，对时间期限的具体规定应当既考虑公共利益，又照顾到创作人的个人权益。

只有找到二者的平衡点，才是利益分配的最佳状态。

地域性作为知识产权的共性之一，同样为布图设计权所具备，在世界知识产权组织的《关于集成电路的知识产权条约》第三条；第四条和第五条的内容都涉地域问题，这实际上肯定了布图设计权的地域性。

其次，布图设计权还具有其独特的个性。

下面将其分别与著作权和工业产权相对照，从而分析其特点。

1.布图设计权的产生方式与著作权不同，只有在履行一定的法律程序后才能产生。

集成电路作为一种工业产品，一旦投放市场将被应用于各个领域，性能优良的集成电路可能会因其商业价值引来一些不法厂商的仿冒。

另一方面，由于集成电路布图设计受到诸多因素的限制，其表现形式是有限的，这就可能存在不同人完全独立地设计出具有相同实质性特点的布图设计的情况。

这就是说，布图设计具有一定的客观自然属性，其人身性远不及普通著作权客体那样强。

所以法律在规定布图设计权的产生时，必须对权利产生方式作出专门规定，否则便无法确认布图设计在原创人和仿冒人之间，以及不同的独立原创人之间的权利归属。

2.布图设计权中的复制权，与著作权中的复制权相比，受到更多的限制。

翻开各国集成电路技术的发展史，反向工程在技术的发展中有着不可取代的作用。

如果照搬著作权法中关于复制权地规定，实施反向工程将被认为是侵权行为。

为了电子工业和集成电路技术的发展，应当对复制权加以一定的限制，允许在一定条件下或合理范围内实施反向工程，美国《半导体芯片保护法》第906条第一款中规定，“仅为了教学、分析或评价掩模作品中的概念或技术，或掩模作品中所采用的电路、逻辑流和图及元件的布局而复制该掩模作品者”；或进行上述的“分析或评价，以便将这些工作的结果用于为销售而制造的具有原创性的掩模作品之中者”均不构成侵犯掩模作品专有权。