第四章 衍衬成像

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《材料研究与测试方法》透射电镜样品制备及衍衬成像

《材料研究与测试方法》透射电镜样品制备及衍衬成像

实验中的两个先决条件
• 结合晶体薄膜样品的透射电子显微分析的具体情 况,我们可以通过以下两条途径近似地满足运动 学理论基本假设所要求的实验条件:
• (1)采用足够薄的样品,使入射电子受到多次散 射的机会减少到可以忽略的程度。同时由于参与 散射作用的原子不多,衍射波强度也较弱;
• (2)或者让衍射晶面处于足够偏离布喇格条件的 位向,即存在较大的偏离参量S,此时衍射波强度 较弱。正是由于我们采用较薄的样品,由非弹性 散射引起吸收效应一般也不必在运动学理论中加 以认真的考虑。
➢ 粉末或颗粒样品制备的关 键取决于能否使其均匀分 散到支持膜上。
纳米粉末样品的制备过程
★用超声波分散器将需要观察的粉末在分散介质 〈不与粉末发生作用〉中分散成悬浮液。
★用滴管滴几滴在覆盖有支持膜的电镜铜网上, 待其干燥(或用滤纸吸干)后, 即成为电镜观察 用的粉末样品。
分散均匀的NaY分子筛的TEM图像
分散不均匀的NaY分子筛的TEM图像
1.3 块状材料制备为薄膜样品方法
✓ 离子轰击减薄法 ✓ 电解抛光法 ✓ 复型技术
1.3.1 离子轰击减薄法
★离子轰击减薄法多用于矿物、陶瓷、半导体及多 相合金等。
Fischione 1010 型离子减薄仪
1.3.1 离子轰击减薄法
✓ 将待观察的试样按预定取向切割成薄片,再经 机械减薄抛光等过程预减薄至30~40μm的薄膜。
已知单晶体结构:尝试-核算(校核)法
✓ (1)测量距离中心斑点最近的三个衍射斑点到中心斑点的 距离;
✓ (2)测量所选衍射斑点之间的夹角 ; ✓ (3)将测得的距离换算成面间距(Rd=L ); ✓ (4)将求得的d值与具体物质的面间距表中的d值相对照
(如PDF卡片),得出每个斑点的{HKL} 指数; ✓ (5)决定离中心斑点最近衍射斑点的指数。若R1最短,则

衍射衬度成像原理及应用

衍射衬度成像原理及应用

衍射衬度成像原理及应用
嘿,朋友!咱今天来聊聊衍射衬度成像这神奇的玩意儿。

你知道吗?衍射衬度成像就像是给微观世界拍了一组超级特写照片。

它能让我们看到那些肉眼根本看不见的微小结构,就好像给微观世界
开了一盏超级亮的灯。

那衍射衬度成像的原理到底是啥呢?简单来说,它就像是一场光的
奇妙舞蹈。

当一束光照射到样品上时,光会发生衍射,就像调皮的孩
子到处乱跑。

而不同的结构对光的衍射方式是不一样的,这就产生了
所谓的衍射衬度。

这是不是有点像一群孩子在跳舞,有的跳得高,有的跳得低,我们
通过观察他们跳舞的姿态差异,就能分辨出谁是谁?
在实际应用中,衍射衬度成像可是大显身手啊!比如说在材料科学
领域,它能帮助我们看清材料内部的晶体结构,看看是不是有缺陷,
是不是足够坚固。

这就好比是给材料做了一次全面的体检,让我们能
提前发现问题,避免出现大麻烦。

再比如在生物学中,它能让我们看到细胞里面的细微结构,搞清楚
细胞是怎么工作的。

这难道不像给细胞拍了一部高清纪录片吗?
还有在地质学中,衍射衬度成像能帮我们分析岩石的微观结构,了
解地质变化的秘密。

这是不是跟破解大自然的密码一样神奇?
想象一下,如果没有衍射衬度成像,我们对微观世界的了解就像在黑暗中摸索,啥都看不清。

但有了它,就像是打开了一扇通往微观世界的大门,让我们能看到无数精彩的细节。

所以说,衍射衬度成像可真是个了不起的工具,为我们探索未知的微观世界提供了一双超级锐利的眼睛!它的价值和意义,简直无法估量!。

材料分析测试技术习题及答案

材料分析测试技术习题及答案

第一章一、选择题1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是()A.X射线透射学;B.X射线衍射学;C.X射线光谱学;D.其它2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称()A.Kα;B. Kβ;C. Kγ;D. Lα。

3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选()A.C u;B. Fe;C. Ni;D. Mo。

4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称()A.短波限λ0;B. 激发限λk;C. 吸收限;D. 特征X射线5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题)A.光电子;B. 二次荧光;C. 俄歇电子;D. (A+C)二、正误题1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之减小。

()2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。

()3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。

()4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。

()5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。

()三、填空题1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。

2. X射线与物质相互作用可以产生、、、、、、、。

3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。

4. X射线的本质既是也是,具有性。

5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称,常用于。

习题1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象是什么?2.分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么?(1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射;(2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。

3.什么叫"相干散射”、"非相干散射”、"荧光辐射”、"吸收限”、"俄歇效应”、"发射谱”、"吸收谱”?4.X射线的本质是什么?它与可见光、紫外线等电磁波的主要区别何在?用哪些物理量描述它?5.产生X射线需具备什么条件?6.Ⅹ射线具有波粒二象性,其微粒性和波动性分别表现在哪些现象中?7.计算当管电压为50 kv时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能。

材料现代分析方法试题(1-10)有答案

材料现代分析方法试题(1-10)有答案
直接比较法通过将待测相与试样中存在的另一个相的衍射峰进行对比,求得 其含量的。直接法好处在于它不要纯物质作标准曲线,也不要标准物质,它适合 于金属样品的定量测量。 以上四种方法都可能存在因择优取向造成强度问题。
Rietveld 全谱拟合定量分析方法。通过计算机对试样图谱每个衍射峰的形状 和宽度,进行函数模拟。全谱拟合定量分析方法,可避免择优取向,获得高分辨 高准确的数字粉末衍射图谱,是目前 X射线衍射定量分析精度最高的方法。
范围会出现吸收峰?
10.一种化合物含有两个基团与各含一个基团的两种化合物的混合物,其红外谱图有大
的差别吗?为什么?一种化合物含有两个基团与各含一个基团的两种化合物的混合物,其红 外谱图有大的差别吗?为什么?
二、综合及分析题(共 5题,每题 10分)
1.决定 X 射线强度的关系式是
, 试说明式中各参数的物理意义? 2.比较物相定量分析的外标法、内标法、K 值法、直接比较法和全谱拟合法 的优缺点? 3.请导出电子衍射的基本公式,解释其物理意义,并阐述倒易点阵与电子衍 射图之间有何对应关系? 解释为何对称入射(B//[uvw])时,即只有倒易点阵原点 在爱瓦尔德球面上,也能得到除中心斑点以外的一系列衍射斑点? 4.单晶电子衍射花样的标定有哪几种方法?图 1 是某低碳钢基体铁素体相的 电子衍射花样,请以尝试—校核法为例,说明进行该电子衍射花样标定的过程 与步骤。
μl 和试样圆柱体的半径有关;平板状试样吸收因子与μ有关, 而与θ角无关。
表示温度因子。
2.比较物相定量分析的外标法、内标法、K 值法、直接比较法和全谱拟合法 的优缺点?
答:外标法就是待测物相的纯物质作为标样以不同的质量比例另外进行标定, 并作曲线图。外标法适合于特定两相混合物的定量分析,尤其是同质多相(同素 异构体)混合物的定量分析。

052衍衬成像分析共42页

052衍衬成像分析共42页

IA≈I0
a)明场像
b) 中心暗场衍射成像
第三节 消光距离
a)布拉格位向下的衍射
b)振幅变化 c)强度变化
几种晶体的消光距离/nm (加速电压为100kV时)
晶体 Al Ag Au Fe
(110) (111) (200) (211)
56
68
24
27
18
20
28
40
50
第四节 衍衬运动学
两个基本假设:
球形粒子造成 应变场衬度的 原因示意图
ZrO2-Y2O3陶瓷中析出相的无衬度线
时效后期t-ZrO2析出相的明场像 a) 及其衍射斑点 b)
时效后期t-ZrO2析出相的暗场像
Nano-Batteries: Electrolyte-Filled Pores
Filled
Empty
“Air" Pockets?
不考虑衍射束和入射束之间的互相作用
不考虑电子束通过晶体样品时引起的
多次反射和吸收
两个近似:
双光束近似 柱体近似
I0IT Ig 1
Ig1 Ig2 Ig3
柱体近似:成像单元尺寸——一个晶胞相当
Ig
gg
2 g2
si2n(st) (s)2
衍射强度 I 随晶体 厚度 t 的变化
200 kV, Mag.= 8,000,000X, Spot Size = 0.2 nm
Si (110) Filtered Image of red square area
Image of the atomic structure of BaTiO3 [011]
Jia, C.L. and Urban, K. Science, 303, 2019 (2019)

电子显微分析5-衍衬成像

电子显微分析5-衍衬成像

i.Ig随s变化的关系曲线如下图所示,反映了倒易空间中衍 射强度的变化规律。
∵ 时,Ig很小 因此,±1/t的范围作为偏离Bragg条件后产生衍射 强度的界限,即为倒易杆的长度
Ig随s的变化类似于将薄晶体稍加弯曲发生弹性变形的情况, 因此,也叫弯曲消光条纹,或等倾条纹,见下图
4.5.4 缺陷晶体的衍射强度 晶体中存在缺陷时,会使缺陷附近的某个区域内的点阵产 生畸变,这种畸变的大小和方向可用位移矢量 R 表示,见图。
式中 ——为无量纲数,表示在动力学条件下,晶体偏离布拉格条件 的程度。 4.6.3 非完整晶体的动力学方程 与运动学理论一样,在方程中引入了一个位相因子(即位移矢 量R)
ξ0 类似于消光距离 ξg的一个参量 F0—为单位晶胞对电子波沿原传播方向散射时的结构振幅 V0 —单胞体积,θ—布拉格角,λ—电子波长 。
可知,当S→0,
如果样品比较厚,以致于 将导致 即衍射束的强度超过入射束的强度,这个结论显然是错误的。 2) 满足运动学理论样品的厚度要求很小 但是,运动学理论要求 表明样品厚度应满足
假定 是合理的,则应有 而ξg一般在300~1000Å,因此要满足运动学理论样品的厚度至 少应在100~300Å以下,要得到这样薄的样品是非常困难的。也 就是说,运动学理论只适用于极薄的样品。
4.5.2 完整晶体的衍射强度 • 设入射波振幅 或I0=1 • 样品晶厚度为t • 如右图选取小柱体和厚度元,且厚度元位置矢量为r • 偏移参数量为s,且取s>0,其爱互尔德球作图如图(b)所示
下面计算厚度为t的晶柱OA所产生的衍射强度。首先需要计算 晶柱OA下表面处的衍射波振幅Φg,由此可求得衍射强度。 若设最大振幅为1,平行于表面的平面间距为d,则厚度元dz内 有dz/d层原子。 根据Fresnel分带法可求出每层点阵面的散射振幅为

《衍衬成像》课件

《衍衬成像》课件

数据处理与分析
数据预处理
对采集到的数据进行噪声去除、对比度调整 等处理,以提高图像质量。
图像分析
利用专业软件对衍衬图像进行分析,提取晶 格常数、晶体取向等信息。
结果解释
根据分析结果,解释样品的晶体结构和物理 性质。
结果验证
通过与其他实验方法或已知数据对比,验证 衍衬成像实验结果的准确性。
04
衍衬成像的未来发展
A
B
C
D
缺点
对样品的要求较高,且设备成本和维护成 本较高。
优点
高穿透力和高分辨率,能够揭示物体内部 的晶体结构和形貌。
电子衍衬技术
原理
利用电子束与物质相互作用产生的衍 射效应,测量衍射强度和角度信息, 重构物体表面的形貌和结构。
应用
在微电子学、纳米科技等领域广泛应 用,如半导体器件检测、纳米结构成 像等。
结论
衍衬成像的重要性和意义
揭示微观结构
衍衬成像技术能够揭示样品的微观结构,对于材料科学、生物学 等领域的研究具有重要意义。
无损检测
衍衬成像是一种无损检测技术,可以在不破坏样品的情况下获取其 内部结构信息。
广泛应用
衍衬成像技术广泛应用于医学、生物学、材料科学、地质学等领域 ,为科学研究和技术创新提供了有力支持。
衍衬成像的原理
当光波遇到物体表面或内部结构时,会发生衍射和干涉现象。这些现象会导致光波的振幅、相位和传 播方向发生变化。
通过测量这些变化,可以反推出物体的结构和形貌信息。衍衬成像技术利用了光的波动性和干涉性, 通过精确测量光波的衍射和干涉模式,可以获得高分辨率和高灵敏度的图像。
衍衬成像的应用领域
材料科学领域
衍衬成像在材料科学领域可用于研究材料的微观结构和性能,为新材料的研发提供有力支 持。

透射电子显微镜的结构、原理和衍衬成像观察

透射电子显微镜的结构、原理和衍衬成像观察

资料范本本资料为word版本,可以直接编辑和打印,感谢您的下载透射电子显微镜的结构、原理和衍衬成像观察地点:__________________时间:__________________说明:本资料适用于约定双方经过谈判,协商而共同承认,共同遵守的责任与义务,仅供参考,文档可直接下载或修改,不需要的部分可直接删除,使用时请详细阅读内容透射电子显微镜的结构、原理和衍衬成像观察实验报告实验目的1、了解透射电子显微电镜的基本结构;2、熟悉透射电子显微镜的成像原理;3、了解基本操作步骤。

二、实验内容1、了解透射电子显微镜的结构;2、了解电子显微镜面板上各个按钮的位置与作用;3、无试样时检测像散,如存在则进行消像散处理;4、加装试样,分别进行衍射操作、成像操作,观察衍射花样和图像;5、进行明场、暗场和中心暗场操作,分别观察明场像、暗场像和中心暗场像。

三、实验设备和器材JEM-2100F型TEM透射电子显微镜四、实验原理(一)、透射电镜的基本结构透射电镜主要由电子光学系统、电源控制系统和真空系统三大部分组成,其中电子光学系统为电镜的核心部分,它包括照明系统、成像系统和观察记录系统组成。

(1)照明系统照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。

电子枪就是产生稳定的电子束流的装置,电子枪发射电子形成照明光源,根据产生电子束的原理的不同,可分为热发射型和场发射型两种。

图1 热发射电子枪图2 场发射电子枪聚光镜是将电子枪发射的电子会聚成亮度高、相干性好、束流稳定的电子束照射样品。

电镜一般都采用双聚光镜系统。

图3 双聚光镜的原理图(2)成像系统成像系统由物镜、中间镜和投影镜组成。

物镜是成像系统中第一个电磁透镜,强励磁短焦距(f=1~3mm),放大倍数Mo一般为100~300倍,分辨率高的可达0.1nm左右。

物镜的质量好坏直接影响到整过系统的成像质量。

物镜未能分辨的结构细节,中间镜和投影镜同样不能分辨,它们只是将物镜的成像进一步放大而已。

《衍衬成像分析》PPT课件

《衍衬成像分析》PPT课件

Si (110) Filtered Image of red square area
Image of the atomic structure of BaTiO3 [011]
Jia, C.L. and Urban, K. Science, 303, 2001 (2004)
Atomic structure of ferroelectric PZT
结束
IA≈I0
a)明场像
b) 中心暗场衍射成像
第三节 消光距离
a)布拉格位向下的衍射
b)振幅变化 c)强度变化
几种晶体的消光距离/nm (加速电压为100kV时)
晶体 Al Ag Au Fe
(110) (111) (200) (211)
56
68
24
27
18
20
28
40
50
第四节 衍衬运动学
两个基本假设:
不考虑衍射束和入射束之间的互相作用
不考虑电子束通过晶体样品时引起的
多次反射和吸收
两个近似:
双光束近似 柱体近似
I0IT Ig 1
Ig1 Ig2 Ig3
柱体近似:成像单元尺寸——一个晶胞相当
Ig
gg
2 g2
si2n(st) (s)2
衍射强度 I 随晶体 厚度 t 的变化
等厚条纹形成原理示意图
倾斜界面示意图
成像单元尺寸一个晶胞相当g31718衍射强度i随晶体厚度t的变化19等厚条纹形成原理示意图20倾斜界面示意图21立方zro倾斜晶界条纹22衍射强度i随偏离矢量s的变化2324252627钛合金中的层错单斜中的孪晶2829刃型位错衬度的产生及其特征30陶瓷中的网状位错暗场31nial合金中的位错32不锈钢中析出相周围的位错缠结33球形粒子造成应变场衬度的原因示意图34zro陶瓷中析出相的无衬度线35时效后期tzro及其衍射斑点b36时效后期tzro析出相的暗场像37nanobatteries

第四章晶体薄膜衍射衬度成像分析

第四章晶体薄膜衍射衬度成像分析

第四章晶体薄膜衍射衬度成像分析【教学内容】1.薄膜样品的制备2.衍衬成像原理3.消光距离4.衍衬运动学理论5.晶体缺陷分析【重点掌握内容】1.衍衬成像原理2.衍衬运动学理论和晶体缺陷分析【教学难点】衍衬运动学理论4.1 概述透射电镜的样品是电镜观察的基础。

前一章讲述了电子衍射的基础内容,主要针对相结构分析。

但透射电子显微镜的主要功能是进行微观结构形貌分析,要求电子束能够透过所观察的样品,常规的透射电镜电子束能透过样品的厚度极其有限,约数百纳米。

透射电镜早期在材料研究中的应用—复型样品。

将透射电镜应用于材料科学研究领域的早期,受到样品制备技术的限制,利用复型技术获取间接样品实现对微观组织的观察,较光学显微镜的分辨率提高约2个数量级,达到几百纳米左右。

这主要是由于复型材料颗粒较大,不能把样品中小的细微结构复制出来。

要指出的是,复型仅仅得到的是样品的表面形貌,无法对样品的内部组织结构(晶体缺陷、界面等)进行观察分析。

薄膜样品的直接观察分析。

制样技术的进步,能够获得使电子束直接透过的薄膜样品,从而实现对样品的直接观察分析,揭示样品内部的精细结构,使电镜的分辨率大大提高。

同时应用衍射技术,就能够在一台仪器上同时进行微观组织与结构分析。

4.2 样品的制备方法样品的要求:样品必须对电子束是透明的,观察区厚度一般在100-200nm范围具代表性,能真实反映所分析材料的实际特征。

样品制备方法:制备方法很多,取决于材料类型和所要获取的信息,透射电镜样品可分为间接样品和直接样品,制样方法包括:复型样品——间接样品薄膜样品(电解双喷、离子薄化)——直接样品粉末样品4.2.1 复型(间接)样品的制备透射电镜的出现,为金相分析技术的发展开辟了新的前景。

但要用这种技术分析材料的显微组织,需要制备的样品对电子束“透明”。

在透射电镜发展的早期,将其用于观察材料组织分析,首先遇到的问题是样品制备问题。

因此,在20世纪40年代出现了“复型技术复型是指将样品表面的浮凸复制于某种薄膜,可间接反映原样品的表面形貌特征的间接样品。

祁旋--晶体薄膜衍衬成像分析

祁旋--晶体薄膜衍衬成像分析

B晶粒某(hkl)晶面位 向精确满足布拉格θB 角,其余晶面均与衍 射条件存在较大的偏 差,(hkl)晶面的衍 射束最强,强度为 I hkl ,则强度为I0的入
射电子束在B晶粒 内经过散射后成为 强度为I hkl的衍射束
和I0-I hkl 的透射束。
A晶粒所有晶面组与B晶 粒位向不同,均与布 拉格条件存在较大的 偏差,在A晶粒的选区 衍射花样中将不会出现 任何衍射斑点而只有中 心透射斑点,其透射束 强度近似等于入射束强
i 2i ( K K )r 厚度元引起的 dg e dz 衍射波振幅变化: g
衍射波叠加总和:
g
e i g 柱体 dz
i
g
i
g
e
0
t
2isz
dz
衍射波的振幅:
i sin(st ) ist g e g s
2 sin 2 (ts) I g g * 2 g (s) 2 g
等倾条纹,衍射强度随偏离矢量s变化,同一条纹 对应的样品位置的.1 等厚条纹
如果晶体保持在确定的位向,则衍射晶面 偏离矢量s 保持恒定,则 随晶体厚度t 变化,衍射强度公式可改写为:
Ig
1 ( s g )
sin 2 (ts) 2
把透射强度I随晶体厚度t的变化画成曲线,如下图所示
4.3.2 等倾条纹
当厚度 t 不变 ,如果把没有缺陷的薄晶体稍加
弯曲,薄晶体上各点具有不同的偏离矢量s (晶体位向发生连续变化),此时强度随s 变化,则在衍衬图像上可以出现等倾条纹。
在衍射强度随偏离矢量s变化而厚度t固定,衍射强 度公式可改写为:
(t ) 2 sin 2 (ts) Ig 2 g (ts) 2

衍衬成像原理

衍衬成像原理

暗场像衬度
I hkl 0 I 1 I hkl I A
所以暗场像衬度好于明场像
明暗场像比较

由于可能有弱衍射斑点 的电子进入光阑成像 (即不严格满足双光束 条件),导致明场像和 暗场像的衬度不是绝对 相反、互补的。
明暗场像比较
衍衬成像应用

衍射衬度对晶体结构和取向十分敏感。 当试样中某处含有晶体缺陷时,意味着该处相 对于周围完整晶体发生了微小的取向变化,导 致了缺陷处和周围完整晶体具有不同的衍射条 件,将缺陷显示出来。可见,这种衬度对缺陷 也是敏感的。基于这一点,衍衬技术被广泛应 用于研究晶体缺陷。
晶体缺陷TEM照片
晶界的等厚条纹 层错的等倾条纹 位错
晶粒2
孪晶
第二相粒子
晶粒1
晶粒2
I hkl I A IB I IA I0 I B
像平面
IA=I0
IB=I0-Ihkl
一般暗场像



若把光阑的位置移动一下, 使光阑孔套住hkl斑点, 而把透射束挡掉,可以得 到暗场像(DF)。 但是,此时用于成像的是 离轴光线,所得图像质量 不高,有严重的像差。 实际操作上常使用中心暗 场成像法。
A
双光束条件


如忽略吸收强度和其它 较弱的衍射束,则强度 为I0的入射束在B晶粒区 域内将分成强度为Ihkl的 衍射束和强度为I0-Ihkl的 透射束。 A晶粒区域内只有透射 束,没有衍射束,同样 ,忽略吸收强度,透射 束的强度约为I0。
入射束强度I0
B 2θB
A
Ihkl
I0-Ihkl
000 hkl
入射束强度I0
B
A
2θB

《衍衬成像分析》课件

《衍衬成像分析》课件

02
微观结构分析
衍衬成像技术可用于分析材料的微观结构,如晶体结构、织构、相变等
。通过对微观结构的分析,可以了解材料的物理和化学性质,为材料科
学研究和应用提供有力支持。
03
光学检测
衍衬成像技术可用于光学检测领域,如光学元件表面质量检测、光学系
统调试等。通过对光学元件表面质量的检测和分析,可以保证光学系统
进行实验操作
按照设定的实验步骤和参数进行衍衬 成像实验,记录实验过程中的详细操 作和观察结果。
数据收集与整理
收集实验数据,整理成表格或图形, 便于后续分析。
实验结果分析
数据解读
结果比较与验证
对收集到的实验数据进行解读,分析样品 的结构、形貌和性质等信息。
将实验结果与理论值或已知数据进行比较 ,验证实验结果的准确性和可靠性。
的稳定性和可靠性。
02 衍衬成像实验设备
实验设备介绍
衍衬成像实验设备是一种用于观察和分析物质内部结构的精密仪器。它利用衍射原理,将物质内部的结构信息以图像的形式 呈现出来,为科学研究和技术开发提供重要的数据支持。
衍衬成像实验设备主要由光源、样品台、光路系统、探测器和计算机控制系统等部分组成。其中,光源是提供实验所需的光 能量,样品台用于放置待测样品,光路系统负责将光线传输到样品上,探测器用于接收衍射信号,而计算机控制系统则对整 个实验过程进行控制和数据处理。
在操作过程中,需要注意安全问题,避免直接接触高 能光源和高温部件。同时,需要保持实验环境的清洁 和干燥,以免影响实验结果。
实验设备维护与保养
为了确保衍衬成像实验设备的正常运行和使用寿命, 需要进行定期的维护和保养。首先,需要定期检查设 备的各个部件是否正常工作,如光源、光路系统、探 测器和计算机控制系统等。其次,需要定期清洁和维 护实验设备的表面和内部部件,保持设备的清洁和干 燥。此外,还需要定期更新和升级设备的软件和硬件 系统,以确保设备的性能和稳定性。

电子显微分析试题级答案(中南大学)

电子显微分析试题级答案(中南大学)

材料结构分析一、名词解释:1、球差:球差是由于电子透镜的中心区域和边沿区域对电子的会聚能力不同而造成的。

电子通过透镜时的折射近轴电子要厉害的多,以致两者不交在一点上,结果在象平面成了一个满散圆斑。

色差:是电子能量不同,从而波长不一造成的2、景深:保持象清晰的条件下,试样在物平面上下沿镜轴可移动的距离或试样超越物平面元件的距离。

焦深:在保持像清晰的前提下,象平面沿镜轴可移动的距离或者说观察屏或照相底板沿镜轴所允许的移动距离3、分辨率:所能分辨开来的物平面上两点间的最小距离,称为分辨距离4、明场像:采用物镜光阑将衍射束挡掉,只让透射束通过获得图像衬度得到的图像。

5、暗场像:用物镜光阑挡住透射束及其余衍射束,而只让一束强衍射束通过光阑所的图像。

中心暗场像:入射电子束相对衍射晶面倾斜角,此时衍射斑将移到透镜的中心位置,该衍射束通过物镜光栏形成的衍衬像称为中心暗场成像。

衬度:试样不同部位由于对入射电子作用不同,经成像放大系统后,在显示装置上显示的强度差异。

6、消光距离:衍射束的强度从0逐渐增加到最大,接着又变为0时在晶体中经过的距离。

7、菊池花样:由入射电子经非弹性不相干散射,失去很少能量,随即入射到一定晶面时,满足布拉格定律,产生布拉格衍射,衍射圆锥与厄瓦尔德球相交,其交线放大后在底片投影出的由亮暗平行线对组成的花样。

8、衍射衬度:由于晶体试样满足布拉格反射条件程度差异以及结构振幅不同而形成的电子图像反差,它仅属于晶体结构物质。

9、双光束条件:假设电子束穿过样品后,除了透射束以外,只存在一束较强的衍射束精确地符合布拉格条件,其它的衍射束都大大偏离布拉格条件。

作为结果,衍射花样中除了透射斑以外,只有一个衍射斑的强度较大,其它的衍射斑强度基本上可以忽略,这种情况就是所谓的双光束条件。

10、电子背散射衍射:当入射电子束在晶体样品中产生散射时,在晶体内向空间所有方向发射散射电子波。

如果这些散射电子波河晶体中某一晶面之间恰好符合布拉格衍射条件将发生衍射,这就是电子背散射衍射。

《材料现代分析方法》练习与答案

《材料现代分析方法》练习与答案

《材料现代分析方法》练习与答案1. 在粉末多晶衍射的照相法中包括、和。

2. 德拜相机有两种,直径分别是和Φ mm。

测量θ角时,底片上每毫米对应o和o。

3. 衍射仪的核心是测角仪圆,它由、和共同组成。

4. 可以用作X射线探测器的有、和等。

5. 影响衍射仪实验结果的参数有、和等。

八、名词解释 1. 偏装法—— 2. 光栏—— 3. 测角仪——4. 聚焦圆—— 5. 正比计数器—— 6. 光电倍增管——习题:1. CuKα辐射(λ=0.154 nm)照射Ag(f.c.c)样品,测得第一衍射峰位置2θ=38°,试求Ag的点阵常数。

2. 试总结德拜法衍射花样的背底来源,并提出一些防止和减少背底的措施。

3. 粉末样品颗粒过大或过小对德拜花样影响如何?为什么?板状多晶体样品晶粒过大或过小对衍射峰形影响又如何?4. 试从入射光束、样品形状、成相原理(厄瓦尔德图解)、衍射线记录、衍射花样、样品吸收与衍射强度(公式)、衍射装备及应用等方面比较衍射仪法与德拜法的异同点。

5. 衍射仪与聚焦相机相比,聚焦几何有何异同?6. 从一张简单立方点阵物的德拜相上,已求出四根高角度线条的θ角(系由CuKα所产生)及对应的干涉指数,试用“a-cos2θ”的图解外推法求出四位有效数字的点阵参数。

HKL 532 620 443 541 611 540 621θ.角72.08 77.93 81.11 87.44 7. 根据上题所给数据用柯亨法计算点阵参数至四位有效数字。

8. 用背射平板相机测定某种钨粉的点阵参数。

从底片上量得钨的400衍射环直径2Lw=51.20毫米,用氮化钠为标准样,其640衍射环直径2LNaCl =36.40毫米。

若此二衍射环均系由CuKαl辐射引起,试求精确到四位数字的钨粉的点阵参数值。

9. 试用厄瓦尔德图解来说明德拜衍射花样的形成。

10. 同一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来其θ较高还是较低?相应的d较大还是较小?既然多晶粉末的晶体取向是混乱的,为何有此必然的规律11. 衍射仪测量在人射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同?12. 测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成30°角,则计数管与人射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面呈何种几何关系?13. Cu Kα辐射(λ=0.154 nm)照射Ag(f.c.c)样品,测得第一衍射峰位置2θ=38°,试求Ag的点阵常数。

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小结

理想晶体的衍衬像其等厚消光轮廓受消光距离ξg的 影响,等倾消光轮廓受s的影响。薄晶体试样在电子 束较长时间作用下,试样易受热变形,使得s值发生 连续不断的变化,等倾消光轮廓极易观察到,而等 厚干涉条纹则当试样不动时无甚变化。综上所述, 理想晶体衬度效应有: s恒定,t改变产生等厚干涉条纹; t恒定,s改变产生等倾干涉条纹;
B
A
2. 晶体样品的衍射衬度及形成原理 品各处满足布拉格条件程度的差异造成的。

各处衍射束强度的差异形成的衬度称为衍射衬度。
由样品各处衍射束强度的差异或是由样品各处满足布 拉格条件程度的差异形成的衬度, 称为衍射衬度。 度成像原理如下图所
满足“双光束条件”
A和B晶粒的光 强度或亮度不同, 分别为 IA I0 IB I0 - Ihkl


忽略电子束在晶内的多次反射和吸收
双光束近似:
I0 I g IT 1

柱体近似: 试样下表面某点所产生的衍射束强度近似为以 该点为中心的一个小柱体衍射束的强度,柱体 与柱体间互不干扰。
柱体近似

可将试样看作许多晶柱平行排列组成的散射体,如 下图所示。
晶柱底面上的强度只代 表一个晶柱内晶体结构 的情况。 这种把薄晶体下表面上 每点的衬度和晶柱结构 对应起来的处理方法称 为柱体近似



4.6 衍衬动力学简介

衍衬动力学与衍衬运动学的根本区别是前者 考虑了透射束与衍射束之间的交互作用。在 运动学理论适用的范围内,由动力学可以导 出运动学的结果,因此,运动学理论实际上 是动力学在一定条件下的近似值。
4.7 晶体缺陷分析
主要讨论三种晶体缺陷: 层错 位错 第二相粒子在基体上造成的畸变
2
等厚条纹形成原理的示意图
用Ig随t周期性振荡这一运 一个一端为楔形斜面的薄晶体, 斜面上晶体的厚度t是连续变化 动学结果,定性解释以下两 的,故可把斜面部分的晶体分 种衍衬现象。 割成一系列厚度各不相等的晶 柱。当电子束通过各晶柱时, 晶体样品契形边缘处出现 柱体底部的衍射强度因厚度不 的厚度消光条纹,也叫等 同而发生连续变化。在衍射图 厚消光条纹。 像上将得到几列亮暗相间的条 纹,每一亮暗周期代表一个消 光距离的大小,此时tg=ξg=1/s.
4.2.3 双光束衍射条件
4.2.4 明、暗场衬度的互补性

在衍射条件接近理想的双光束条件下,即 除了透射束以外,只有一支强衍射束,而 其它的衍射束强度近似为0,设入射束强度 为I0,则有 I0 = ID + IT

这时,明、暗场衬度互补,但在非双光束 条件下明、暗场像不完全互补。
4.3 消光距离

4.5.4 缺陷晶体的衍射强度
非理想晶体
实际晶体并非完全理想的,或多或少存在着不完整性,主要 包括: 由于取向关系改变(例如晶界、孪晶界、沉淀物与基体界 面)引起的不完整性; 晶体缺陷(例如点缺陷、线缺陷、面缺陷及体缺陷)引起 的弹性位移; 相变引起的晶体不完整性。它又有以下几种情况:
成分改变而组织不变(如Spinodals);
组织改变而成分不变(如马氏体相变); 相界面(共格、半共格、非共格)。



具有以上不完整性的晶体,称为非理想晶体。

分析思路 晶体中存在缺陷时,会使缺陷附近的某个区域内的 点阵产生畸变,这种畸变的大小和方向可用位移矢 量表示,
缺陷晶体柱体底部衍射波的合成振幅
g
i exp( 2 isz ) exp( 2 i g R ) d z
实际晶体内部的 晶界、亚晶界、 孪晶界和层错等 都属于倾斜界面。 图示为这类界面 的示意图。若晶 粒Ⅱ偏离Bragg条 件甚远,则可认 为电子束穿过该 晶体时无衍射产 生,而晶粒Ⅰ在 一定的偏差条件 (s=常数)下可 产生等厚条纹。
t n g 3 68 204 nm
等倾干涉条纹
4.4 衍衬运动学

由前面的知识可知,透射电镜的衍射衬度是由样品 底表面不同部位的衍射束强度存在差异而造成的。

以晶体内入射束与衍射束、衍射束之间的相互作用 为依据,分为运动学理论和动力学理论。
运动学理论作为动力学理论的简化,不考虑电子衍 射的动力学效应。

4.4.1基本假设

入射束与衍射束之间没有能量交换作用 衍射束的强度相对于入射束强度是非常小的


刃型位错与柏氏矢量互相垂直,而螺型位错与柏氏矢量互相 平行。单纯刃型或螺型位错都是直线型的,实际中多为混合 型位错,形态为曲线型。 在电子显微观察中,b是判断位错组态的重要依据。
•同一条纹上晶体的厚度是相同的,所以这种条纹叫做等厚条纹。 •可以通过计算消光条纹的数目来估算薄晶体的厚度。

晶体中倾斜晶界的晶界条纹
倾斜界面示意图


例子:设为铝样品,当使用操作反射200 进行衍射衬度成像时,得到的等厚消光条纹 有3根,估测样品厚度
g 200 对应的消光距离为
200 68 nm
4.2 衍射衬度成像原理

4.2.1 像衬度的概念及成像原理 衬度是指在荧光屏或照相底片上,眼睛能观察到的光 强度或感光度的差别。


透射电镜的像衬度来源于样品对入射电子束的散射。
分两种基本类型:
质厚衬度
衍射衬度
1. 非晶样品质厚衬度成像

非晶(复型)样 品电子显微图像 衬度是由于样品 不同微区间存在 原子序数或厚度 的差异而形成的, 即质厚衬度。它 是建立在非晶样 品中原子对电子 的散射和透射电 子显微镜小孔径 成像的基础上的。 A ˊ


晶体样品楔形边缘处出现的厚度消光条纹,也叫 等厚消光条纹。 等倾干涉条纹
同一条纹对应的样品位臵的衍射晶面取向相同, 故称等倾条纹。

1. 等厚条纹

当 S ≡ C时 强度公式可改写为
显然, 当t = n/s(n为整数)时, Ig = 0 当 t = (n + 1/2)/s 时,
I g I g max 1 ( s g )
的某
变的
g

t
0
,见图
完整晶体的衍射振幅
g
i
生位
g

t
0
exp( 2 isz ) d z
射的情
2 g R 2 N
称为附加位相角
缺陷位
N g R
N g R


g
i
g

t
0
exp( 2 isz ) exp( 2 i g R ) d z
i
t
g
g

0
exp( 2 isz ) d z
讨论:
N为整数时,缺陷引起附加位相角α是2π的整数倍,缺陷 对衍射强度的贡献为0,此时,缺陷不显示衍射衬度(不可 见) 当N为分数时,缺陷的存在将引起衍射强度的变化,此时, 缺陷显示衬度(可见) 当N=0时,,晶体缺陷的位移矢量R位于操作反射所对应的 晶面内,即使有点阵位移,对衍射强度也没有贡献,此时 缺陷不可见。 所以通常把N作为缺陷是否可见的重要判据。
•B晶粒相对A晶粒 的像衬度为
4.2.2 透射电镜的基本成像操作

晶体样品成像操作有明场、暗场和中心暗场三种方式。
4.3.3 双光束衍射条件
倾转样品,使晶体中只有一个晶面满足Bragg条件,从而 倾转样品,使晶体中只有一个晶面满足Bragg条件, 生强衍射,其它晶面均远离Bragg位臵,衍射花样中几乎只 从而产生强衍射,其它晶面均远离Bragg位臵,衍射 存在大的透射斑点和一个强衍射斑点。 花样中几乎只存在大的透射斑点和一个强衍射斑点。

入射电子受原子强烈的散射作用,因而必须考虑透射波和衍 射波的相互作用。 下面分析简单双光束条件下,入射波只被激发成为透射波和 的散射作用,因而必须考虑透射波和 衍射波的情况下,两支波之间的相互作用。 由于透射波和衍射波强烈的动 力学相互作用结果,使I0和Ig 在晶体深度方向上发生周期性 的振荡,此振荡的深度周期叫 消光距离,记作g。 “消光”的意义指的是,尽 管满足衍射条件,但由于动力 学相互作用而在晶体一定深度 处衍射波的实际强度为0。

如果把没有缺陷的薄晶体稍加弯曲,则在衍射图像上出现等 倾条纹。
此时薄晶体的厚度可视为常数,而晶体内处在不同部位的衍 Ig随s的变化类似于将薄晶体稍加弯曲发生弹性变形的情 射晶面因弯曲使它们和入射束之间存在不同程度的偏离,即 况,因此,也叫弯曲消光条纹,或等倾条纹,见下图 薄晶体上各点具有不同的偏离矢量 s 。

衍射强度Ig随偏离矢量s值的变化
因为 t=常数,故Ig随s而变,其变化规律如图示。 当 s=0,±3/2 t,±5/2 t,…时,Ig有极大值,其中 s=0时, 衍射强度最大, 当 s=±1/ t,±2/ t,±3/ t…时,Ig=0。 Ig随s的变化类似于将薄晶体稍加弯曲发生弹性变形的情 该图反映了倒易空间中衍射强度的变化规律 况,因此,也叫弯曲消光条纹,或等倾条纹,见下图 由于s=±3/2 t时的二次衍射强度峰已经很 小,所以可以把 ±1/ t 的范围 看作是偏离Bragg 条件后能产生衍射 强度的界限。该界 限就是前面论及的 倒易杆 的长度, 即 2s=2/ t。
4.4.2 完整晶体的衍射强度

sin( st )
晶柱OA的衍射强度(S>0 )
g
s
e
ist
ξg — 消光距离 S — 偏离参量 t — 样品厚度
4.4.3 完整晶体衍衬运动学基本方程的应用

用Ig随t或s周期性振荡这一运动学结果,定性解释 以下两种衍衬现象。 等厚干涉条纹(衍射强度随样品厚度变化) 同一条纹上晶体的厚度是相同的,故称等厚条纹。
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