高精度光学元件面形干涉检测技术进展
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6
自上而下
毛细血管
DNA大小 分子 原子大小
制造与检测密不可分
“If you can measure it, you can make it.”
Kenneth Goldberg, Center for X-Ray Optics, Lawrence Berkeley National Laboratory, CA, USA.
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
旋转角度误 差 猫眼位置中 心点误差 共焦位置中 心点误差 参考面 Zernike项 被测面 Zernike项
三 位 置 与 五 位 置 法 被 测 面 残 差 PV对 比 9 8 7 0.25 6 5 4 3 0.1 2 1 0 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 0.05 0 0.2 0.15 0.35 0.3
三 位 置 与 五 位 置 法 被 测 面 残 差 rms对 比
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
100次仿真分析统计结果显示多数参考面和被测面面形残余误 差<0.2nm rms。
29
双球面法绝对测量实验验证
猫眼测量结果
WC (r, ) TR (r, ) WR (r, ) WR (r, 180) TR (r, 180)
ICF
大
现代光学工程向”一大一小” 两个方向发展。 “大”:大口径 大相对口径 拼接 离轴非球面 轻质量 高精度 “小”:亚纳米级高精度面形 低中高频粗糙度 大型地基望远镜、空间望远镜、惯性约束聚变装臵、深紫外 和极紫外投影曝光系统已经成为现代光学工程的典型代表。
~1nm rms
小
DUV光刻机
没有检测,就没有控制,更没有确定性加工
检测到多高加工到多高 光学制造精度受到相应检测精度的限制
7
高精度光学元件制造与检测相辅相成
“自上而下”
用不同的放大 倍率以覆盖整 个中频波段
Rms
1mm
表面误差
基础加工
0.1mm
10um 1um 0.1um 10nm
精度提升 最终成形
1nm 0.1nm
高 精 度 干 涉 仪
19
光学面形高精度检测技术发展趋势分析 从源头上进行原理创新 从单元技术到系统性技术集成 从干涉仪主机到高端干涉仪系统 从相对检测到绝对检测 从通用检测配臵和专用检测配臵 从几纳米到亚纳米甚至几十pm级重复性 从十纳米到纳米甚至亚纳米级精度
20
三、高精度面形干涉检测技术进展
21
重复精度、复位精度和精度基本概念示意图
被测球面 标准镜
被测球面
旋转轴
光轴 参考面 平移中心 X
平移旋转法原理示意图
Z
Y
17
国内外球面绝对检测技术研究现状（四）
2008年，R. Schreiner 等人提出了一种基于半屏的奇偶分解法，可以 标定出参考面面形误差。随后，澳大利亚Jan Burke等人提出了基于半 屏的双通道自标定方法，可以快速标定出参考面的偶误差。
11
国外面形干涉检测技术及仪器发展态势
20世纪70年代中后期 激光技术、电子技术、计算机技术 相移干涉技术 相位精度将PV 1/10波长提高一个量级
分 辨 率 重 复 性
20世纪90年代中后期 -----21世纪初
光学系统、电子系统 相干噪声抑制和成像系统优化改进 分辨率[亚毫米级] 仪器重复性[亚纳米级]
当前状态
工程应用 优化和精度提升
2.随机球法
•会聚镜头 参考面
工程应用 优化和精度提升
3.平移旋转法
通用性 好
•会聚镜头: 被测面/参考面 •发散镜头: 被测面/参考面 •平面
工程应用 优化和精度提升
4. 三平板法
•平面镜头 •被测平面
•重力变形[立式状态]
工程应用 优化和精度提升 27
3.1 双球面法
用不同的 扫描范围 以覆盖整 个高频段 非球面补偿检测
偏心、厚度、曲率半径、表面疵病、次表面破坏检测
制造与检测的集成模型及软件
8
核心关键技术：高精度面形检测技术
5-10nm
<1nm
<0.1nm rms
挑战极限
Taking Optical Precision to the Extreme,
Mark Bigelow& Noreen Harned,2004,ASML OPTICS
20世纪90年代中后期 -----至今
精 高性能干涉仪主机与隔震系统 温度控制系统和绝对测量系统进行集成 度 高重复性[亚纳米甚至几十pm] 高精度[亚纳米级]
12
高端干涉仪系统[亚纳米级精度]
策略一：产生高精度的参考波前
点衍射干涉仪：亚纳米精度 ]
美国Livermore
日本Nikon
13
策略二:绝对测量方法去除参考面误差影响
被测面
标准镜头
参考面
三位臵法:0\180度共焦\猫眼测量 五位臵法:0\90\180\270度共焦\猫眼测量
28
双球面法仿真分析
PV (W W )
三 位 置 与 五 位 置 法 参 考 面 残 差 PV对 比 6 0.35 0.3 0.25 4 0.2 3 0.15 2 0.1 1 0.05 0 5
EUV光刻机
4
仿真
检测技 术
制造技 术
系统集 成
高端光学系统研制需要高精度检测技术，而高精度检测 技术支撑光学系统精确仿真、确定性制造和系统集成。
5
•纳米制造 •原子级确定性制造 • “自上而下”加工的极端
0.1m 1cm
1mm
0.1mm 10um 1um 0.1um 10nm 1nm 0.1nm 1940 1960 1980 2000 2020
中国科学院光电技术研究所先进光学研制中心
高精度光学元件面形干涉检测技术进展
报告人：侯溪 光电技术研究所
先进光学研制中心
2011-11-13
2013-9-5
目 录
1、概述 2、国内外高精度面形检测技术现状和发展趋势 3、高精度面形干涉检测技术进展 4、结束语
2
一、概述
3
大型望远镜
空间望远镜
日本Nikon
德国Zeiss
美国Zygo
基本思路: 从多次相对测量中直接分离出被测元件面形 误差或者标定出参考面误差并予以去除。
14
国内外球面绝对检测技术研究现状（一）
双球面法：1973年，A. E. Jensen首先提出了可实现球面绝对检测的三 位臵双球面法； 1990年，Bruce E. Truax等报道了三位臵法的理论公 式推导；后来，美国Zygo公司L. A. Selberg将上述三位臵法扩展为五 位臵法，即共焦位臵0、90、180、270度和 “猫眼”位臵。 该方法原理较简单，但对调整误差较为敏感，旋转角度误差将会影响 绝对检测精度。
10mm短光腔短期重复性 相邻数据相减
17：15
19：00
21.00
23.00
1：00
3:00
5:00
7：00
9:00 9：30
长期重复性检测实验 适当光腔长度(200mm) 长期重复性
环境改造
24
（二）、提升再现性[<0.5nm rms],加工检测迭代必须解决
热平衡仿真
支撑结构变形仿真
25
（三）、提升绝对检测精度
三位臵法双球面法原理示意图
Zygo五位臵法绝对检测示意图
15
国内外球面绝对检测技术研究现状（二）
随机球标定法：P. E. Parks等人1998年提出，对一个标定球在大量随 机位臵进行相对检测，然后进行数据平均，标定球的误差随着检测次 数的增加趋于零，平均结果将主要反映参考面面形误差信息。
随后，Ulf Griesmann等报道了一种随机球标定法的实施装臵。美国亚 利桑那大学的Zhou Ping等对随机球标定法的随机误差、几何误差和 衍射误差进行了分析。
绝对测量技术
基本思路:从多次测量中直接分离出被测元 件面形误差或者标定出参考面误差并予 以去除。 1)发展多种绝对测量方法,同等精度的多 种方法交叉验证可有效提高检测精度的 可靠性。 2)用不同的测量程序进行交叉标定。
参考面误差小于被测面误差 参考面误差与被测面误差相当 参考面误差大于被测面误差
4.6
1.3
RMS值 (nm)
4.4
1.2
4.2
1.1
4
1
3.8
0.9
3.6
0.8
十组(10次/组)独立实验参考面结果
2.5 x 10
-3
0
十组(10次/组)独立实验被测面结果
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 组数
10组 数 据 泽 尼 克 系 数 平 均 值 (参 考 面 )
10组 数 据 泽 尼 克 系 数 平 均 值
18
国内外球面绝对检测技术研究现状（五）
在国内，长春光机所、光电技术研究所、南京理工大学、北京理工大 学、浙江大学和哈尔滨工业大学等单位在平面、球面和柱面绝对检测 方法和干涉仪误差标定方法上进行了不少努力和探索，取得了重要进 展，主要集中在原理性研究和实验验证方面。
然而绝对检测方法精度受到检测环境、干涉仪性 能、数据变换、数据配准误差、数据处理等因素 的影响，要实现纳米级甚至亚纳米级高精度检测 需要综合考虑上述因素。
30
双球面法绝对测量实验验证
5
参考面面形误差(厂家A 6” F0.8)
参 考 面 面 形 误 差 RMS值
1.5
被测面面形误差( F0.75 被测面 )
被 测 面 面 形 误 差 RMS值
4.8
1.4
rms (nm)
rms (nm)
RMS值 (nm)
0 1 2 3 4 5 组数 6 7 8 9 10 11
9
从本质上讲，纳米级甚至亚纳米级高精度面形检 测基于超高重复性的集光机电算为一体的干涉仪 ，通过减小参考波前误差，隔离、抑制、分离或 补偿校正系统和随机误差实现高精度测量。
•当前核心任务：
提升复位精度，实现制造和检测的有效闭环 提升绝对检测精度，实现设计与检测的有效闭环
10
二、国内外高精度面形检测技术 现状和发展趋势
(被 测 面 )
0.01
2
0.005
1.5
0
系数 ( 波长)
系数 ( 波长)
数 系
1
数
系
0 5 10 15 20 泽 尼 克 项 数 25 30 35 40
-0.005
0.5
-0.01
0
-0.5
-0.015
-1
-0.02
0
5
10
15
20 泽 尼 克 项 数
25
30
35
40
十组实验平均结果被测面Zernike系数 十组实验平均结果参考面Zernike系数 实验验证了以4nm rms的参考面检测1nm rms被测面的可行性。被测面绝对测量结果rms约 为1nm ,变化范围为±0.15nm,参考面绝对测量结果rms约为4.2nm 左右，变化范围为± 0.2nm。36项Zernike系数表征的参考面和被测面绝对测量结果具有亚纳米级的不确定度。 31
面形残差PV和rms对比
RMS(W W )
被测面RMS 参考面RMS CCD像素 仿真次数 1-2nm 5-6nm 400 100 0.5° 1 pixel 2 pixel 36 64
三 位 置 与 五 位 置 法 参 考 面 残 差 rms对 比
0
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
重 新 调 整
机 械 稳 定 性
热 稳 定 性
重复精度(亚纳米)
复位精度(亚纳米)
测量重复性
参考标准
(补偿器)
3-5倍 10倍最佳
标定方法
干涉仪的测量准确度 测量精度Accuracy [绝对测量<1nm rms] Accuracy[相对测量]
三平板法 双球面法 随机球法 平移旋转法 非球面标定
23
（一）、提升长期重复性[0.1-0.2nm rms]
干 涉 仪
标准镜头
干 涉 仪
标准镜头
干 涉 仪
标准镜头
高 精 密 制 造
重复精度 复位精度
精度
高 精 度 制 造
较差
较好
误差“操控”技术 干涉仪光腔
空 温 度 振 气 变 动 扰 动 化 电 子 噪 声
干涉仪主机
成 像 非 线 性
标准 镜头
被测元件
光电系统
相 干 噪 声
数 字 噪 声
算 相 位 计 算
26
Байду номын сангаас
球面绝对测量和参考面标定方法—高精度非球面检测技术基础
名称
1.双球面法
特点
原理简 单, 可扩展 2N+1法 理论精 度高,易 操作
适用范围
•会聚镜头: 被测面 参考面
存在挑战
• 要求绕光轴旋转，很难 正确获得旋转后的共焦测 量结果 •猫眼测量非共光路 •平均数目优化 •自动控制平台 •不适合小相对口径标准 镜头标定 •大行程精密样品台 •数据处理较复杂
16
国内外球面绝对检测技术研究现状（三）
1999年，日本Nikon公司的研究人员报道了基于平移旋转的球面绝对 检测技术原理与实验装臵。 2001年，德国Carl Zeiss公司在自制的斐索型干涉仪Direct 100上运用 该技术实现了球面的绝对检测，检测精度达到了0.15nm RMS和 0.07nm 的重复性。 2002年，Nikon公司则点衍射干涉仪上运用该绝对检测技术实现了 RMS 为0.3nm的高精度面形检测。
自上而下
毛细血管
DNA大小 分子 原子大小
制造与检测密不可分
“If you can measure it, you can make it.”
Kenneth Goldberg, Center for X-Ray Optics, Lawrence Berkeley National Laboratory, CA, USA.
0
10
20
30
40
50
60
70
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90
100
旋转角度误 差 猫眼位置中 心点误差 共焦位置中 心点误差 参考面 Zernike项 被测面 Zernike项
三 位 置 与 五 位 置 法 被 测 面 残 差 PV对 比 9 8 7 0.25 6 5 4 3 0.1 2 1 0 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 0.05 0 0.2 0.15 0.35 0.3
三 位 置 与 五 位 置 法 被 测 面 残 差 rms对 比
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
100次仿真分析统计结果显示多数参考面和被测面面形残余误 差<0.2nm rms。
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双球面法绝对测量实验验证
猫眼测量结果
WC (r, ) TR (r, ) WR (r, ) WR (r, 180) TR (r, 180)
ICF
大
现代光学工程向”一大一小” 两个方向发展。 “大”:大口径 大相对口径 拼接 离轴非球面 轻质量 高精度 “小”:亚纳米级高精度面形 低中高频粗糙度 大型地基望远镜、空间望远镜、惯性约束聚变装臵、深紫外 和极紫外投影曝光系统已经成为现代光学工程的典型代表。
~1nm rms
小
DUV光刻机
没有检测,就没有控制,更没有确定性加工
检测到多高加工到多高 光学制造精度受到相应检测精度的限制
7
高精度光学元件制造与检测相辅相成
“自上而下”
用不同的放大 倍率以覆盖整 个中频波段
Rms
1mm
表面误差
基础加工
0.1mm
10um 1um 0.1um 10nm
精度提升 最终成形
1nm 0.1nm
高 精 度 干 涉 仪
19
光学面形高精度检测技术发展趋势分析 从源头上进行原理创新 从单元技术到系统性技术集成 从干涉仪主机到高端干涉仪系统 从相对检测到绝对检测 从通用检测配臵和专用检测配臵 从几纳米到亚纳米甚至几十pm级重复性 从十纳米到纳米甚至亚纳米级精度
20
三、高精度面形干涉检测技术进展
21
重复精度、复位精度和精度基本概念示意图
被测球面 标准镜
被测球面
旋转轴
光轴 参考面 平移中心 X
平移旋转法原理示意图
Z
Y
17
国内外球面绝对检测技术研究现状（四）
2008年，R. Schreiner 等人提出了一种基于半屏的奇偶分解法，可以 标定出参考面面形误差。随后，澳大利亚Jan Burke等人提出了基于半 屏的双通道自标定方法，可以快速标定出参考面的偶误差。
11
国外面形干涉检测技术及仪器发展态势
20世纪70年代中后期 激光技术、电子技术、计算机技术 相移干涉技术 相位精度将PV 1/10波长提高一个量级
分 辨 率 重 复 性
20世纪90年代中后期 -----21世纪初
光学系统、电子系统 相干噪声抑制和成像系统优化改进 分辨率[亚毫米级] 仪器重复性[亚纳米级]
当前状态
工程应用 优化和精度提升
2.随机球法
•会聚镜头 参考面
工程应用 优化和精度提升
3.平移旋转法
通用性 好
•会聚镜头: 被测面/参考面 •发散镜头: 被测面/参考面 •平面
工程应用 优化和精度提升
4. 三平板法
•平面镜头 •被测平面
•重力变形[立式状态]
工程应用 优化和精度提升 27
3.1 双球面法
用不同的 扫描范围 以覆盖整 个高频段 非球面补偿检测
偏心、厚度、曲率半径、表面疵病、次表面破坏检测
制造与检测的集成模型及软件
8
核心关键技术：高精度面形检测技术
5-10nm
<1nm
<0.1nm rms
挑战极限
Taking Optical Precision to the Extreme,
Mark Bigelow& Noreen Harned,2004,ASML OPTICS
20世纪90年代中后期 -----至今
精 高性能干涉仪主机与隔震系统 温度控制系统和绝对测量系统进行集成 度 高重复性[亚纳米甚至几十pm] 高精度[亚纳米级]
12
高端干涉仪系统[亚纳米级精度]
策略一：产生高精度的参考波前
点衍射干涉仪：亚纳米精度 ]
美国Livermore
日本Nikon
13
策略二:绝对测量方法去除参考面误差影响
被测面
标准镜头
参考面
三位臵法:0\180度共焦\猫眼测量 五位臵法:0\90\180\270度共焦\猫眼测量
28
双球面法仿真分析
PV (W W )
三 位 置 与 五 位 置 法 参 考 面 残 差 PV对 比 6 0.35 0.3 0.25 4 0.2 3 0.15 2 0.1 1 0.05 0 5
EUV光刻机
4
仿真
检测技 术
制造技 术
系统集 成
高端光学系统研制需要高精度检测技术，而高精度检测 技术支撑光学系统精确仿真、确定性制造和系统集成。
5
•纳米制造 •原子级确定性制造 • “自上而下”加工的极端
0.1m 1cm
1mm
0.1mm 10um 1um 0.1um 10nm 1nm 0.1nm 1940 1960 1980 2000 2020
中国科学院光电技术研究所先进光学研制中心
高精度光学元件面形干涉检测技术进展
报告人：侯溪 光电技术研究所
先进光学研制中心
2011-11-13
2013-9-5
目 录
1、概述 2、国内外高精度面形检测技术现状和发展趋势 3、高精度面形干涉检测技术进展 4、结束语
2
一、概述
3
大型望远镜
空间望远镜
日本Nikon
德国Zeiss
美国Zygo
基本思路: 从多次相对测量中直接分离出被测元件面形 误差或者标定出参考面误差并予以去除。
14
国内外球面绝对检测技术研究现状（一）
双球面法：1973年，A. E. Jensen首先提出了可实现球面绝对检测的三 位臵双球面法； 1990年，Bruce E. Truax等报道了三位臵法的理论公 式推导；后来，美国Zygo公司L. A. Selberg将上述三位臵法扩展为五 位臵法，即共焦位臵0、90、180、270度和 “猫眼”位臵。 该方法原理较简单，但对调整误差较为敏感，旋转角度误差将会影响 绝对检测精度。
10mm短光腔短期重复性 相邻数据相减
17：15
19：00
21.00
23.00
1：00
3:00
5:00
7：00
9:00 9：30
长期重复性检测实验 适当光腔长度(200mm) 长期重复性
环境改造
24
（二）、提升再现性[<0.5nm rms],加工检测迭代必须解决
热平衡仿真
支撑结构变形仿真
25
（三）、提升绝对检测精度
三位臵法双球面法原理示意图
Zygo五位臵法绝对检测示意图
15
国内外球面绝对检测技术研究现状（二）
随机球标定法：P. E. Parks等人1998年提出，对一个标定球在大量随 机位臵进行相对检测，然后进行数据平均，标定球的误差随着检测次 数的增加趋于零，平均结果将主要反映参考面面形误差信息。
随后，Ulf Griesmann等报道了一种随机球标定法的实施装臵。美国亚 利桑那大学的Zhou Ping等对随机球标定法的随机误差、几何误差和 衍射误差进行了分析。
绝对测量技术
基本思路:从多次测量中直接分离出被测元 件面形误差或者标定出参考面误差并予 以去除。 1)发展多种绝对测量方法,同等精度的多 种方法交叉验证可有效提高检测精度的 可靠性。 2)用不同的测量程序进行交叉标定。
参考面误差小于被测面误差 参考面误差与被测面误差相当 参考面误差大于被测面误差
4.6
1.3
RMS值 (nm)
4.4
1.2
4.2
1.1
4
1
3.8
0.9
3.6
0.8
十组(10次/组)独立实验参考面结果
2.5 x 10
-3
0
十组(10次/组)独立实验被测面结果
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 组数
10组 数 据 泽 尼 克 系 数 平 均 值 (参 考 面 )
10组 数 据 泽 尼 克 系 数 平 均 值
18
国内外球面绝对检测技术研究现状（五）
在国内，长春光机所、光电技术研究所、南京理工大学、北京理工大 学、浙江大学和哈尔滨工业大学等单位在平面、球面和柱面绝对检测 方法和干涉仪误差标定方法上进行了不少努力和探索，取得了重要进 展，主要集中在原理性研究和实验验证方面。
然而绝对检测方法精度受到检测环境、干涉仪性 能、数据变换、数据配准误差、数据处理等因素 的影响，要实现纳米级甚至亚纳米级高精度检测 需要综合考虑上述因素。
30
双球面法绝对测量实验验证
5
参考面面形误差(厂家A 6” F0.8)
参 考 面 面 形 误 差 RMS值
1.5
被测面面形误差( F0.75 被测面 )
被 测 面 面 形 误 差 RMS值
4.8
1.4
rms (nm)
rms (nm)
RMS值 (nm)
0 1 2 3 4 5 组数 6 7 8 9 10 11
9
从本质上讲，纳米级甚至亚纳米级高精度面形检 测基于超高重复性的集光机电算为一体的干涉仪 ，通过减小参考波前误差，隔离、抑制、分离或 补偿校正系统和随机误差实现高精度测量。
•当前核心任务：
提升复位精度，实现制造和检测的有效闭环 提升绝对检测精度，实现设计与检测的有效闭环
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二、国内外高精度面形检测技术 现状和发展趋势
(被 测 面 )
0.01
2
0.005
1.5
0
系数 ( 波长)
系数 ( 波长)
数 系
1
数
系
0 5 10 15 20 泽 尼 克 项 数 25 30 35 40
-0.005
0.5
-0.01
0
-0.5
-0.015
-1
-0.02
0
5
10
15
20 泽 尼 克 项 数
25
30
35
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十组实验平均结果被测面Zernike系数 十组实验平均结果参考面Zernike系数 实验验证了以4nm rms的参考面检测1nm rms被测面的可行性。被测面绝对测量结果rms约 为1nm ,变化范围为±0.15nm,参考面绝对测量结果rms约为4.2nm 左右，变化范围为± 0.2nm。36项Zernike系数表征的参考面和被测面绝对测量结果具有亚纳米级的不确定度。 31
面形残差PV和rms对比
RMS(W W )
被测面RMS 参考面RMS CCD像素 仿真次数 1-2nm 5-6nm 400 100 0.5° 1 pixel 2 pixel 36 64
三 位 置 与 五 位 置 法 参 考 面 残 差 rms对 比
0
0
10
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重 新 调 整
机 械 稳 定 性
热 稳 定 性
重复精度(亚纳米)
复位精度(亚纳米)
测量重复性
参考标准
(补偿器)
3-5倍 10倍最佳
标定方法
干涉仪的测量准确度 测量精度Accuracy [绝对测量<1nm rms] Accuracy[相对测量]
三平板法 双球面法 随机球法 平移旋转法 非球面标定
23
（一）、提升长期重复性[0.1-0.2nm rms]
干 涉 仪
标准镜头
干 涉 仪
标准镜头
干 涉 仪
标准镜头
高 精 密 制 造
重复精度 复位精度
精度
高 精 度 制 造
较差
较好
误差“操控”技术 干涉仪光腔
空 温 度 振 气 变 动 扰 动 化 电 子 噪 声
干涉仪主机
成 像 非 线 性
标准 镜头
被测元件
光电系统
相 干 噪 声
数 字 噪 声
算 相 位 计 算
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Байду номын сангаас
球面绝对测量和参考面标定方法—高精度非球面检测技术基础
名称
1.双球面法
特点
原理简 单, 可扩展 2N+1法 理论精 度高,易 操作
适用范围
•会聚镜头: 被测面 参考面
存在挑战
• 要求绕光轴旋转，很难 正确获得旋转后的共焦测 量结果 •猫眼测量非共光路 •平均数目优化 •自动控制平台 •不适合小相对口径标准 镜头标定 •大行程精密样品台 •数据处理较复杂
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国内外球面绝对检测技术研究现状（三）
1999年，日本Nikon公司的研究人员报道了基于平移旋转的球面绝对 检测技术原理与实验装臵。 2001年，德国Carl Zeiss公司在自制的斐索型干涉仪Direct 100上运用 该技术实现了球面的绝对检测，检测精度达到了0.15nm RMS和 0.07nm 的重复性。 2002年，Nikon公司则点衍射干涉仪上运用该绝对检测技术实现了 RMS 为0.3nm的高精度面形检测。