羟基的保护基
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羟基的保护基
• 1). 酯类保护基 • t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al.
OH HO OH
OH
PivCl (1eq) Py-CH2Cl2 0-25 C
o
HO
O
O
90%
Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis,
1986, 453
O O O O O OBn
Cl
OBn
OBn HO
OBn
OBn
AcO
OBn
OBn
NH2NH2 (15eq) HOAc-HOMe rt, 12 h
AcO O
O
OBn
OBn
AcHN
AcHN
O OBn
74% Cook, A. F.; Maichuk, D. T. J. Org. Chem., 1970, 35, 1940.
2). 硅醚保护基 硅醚保护基主要有： Me3Si (trimethylsilyl, TMS); Et3Si (triethylsilyl, TES); t-BuMe2Si (tert-butyldimethylsilyl, TBDMS or TBS) i-Pr3Si (triisopropylsilyl, TIPS) t-BuPh2Si (tert-butyldiphenylsilyl, TBDPS)
• 酯类保护基的除去(cleavage)
碱性条件下水解， 水解能力： t-BuCO(Piv) < PhCO < MeCO < ClCH2CO 常用的碱：K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al 去除Piv一般用较强的强碱体系，如 KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL, KBHEt3
TES ether： TESCl/Imid. DMAP; TESOTf / Py. or 2,6dimethห้องสมุดไป่ตู้lpyridine
OH
O
OTES O
TESOTf (1.1eq)
H
Py, MeCN, -50 C, 10 min. 79%
o
H
Heathcook, C. H.; Young, S. D.; Hagen, J. P.; Pilli, R.; Badertscher, U. J. Org. Chem., 1985, 50, 2095
OTBDMS TBDMSO O O OTBDMS
DIBAL(2.5eq) CH2Cl2, -78 oC
TBDMSO
OH
95% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453
ClCH2CO的去除可以用硫脲，氨/甲醇，苯，吡啶水溶液， NH2CH2CH2SH, NH2CH2CH2NH2, PhNHCH2CH2NH2 等除去。
酸水解相对稳定性: TMS(1) < TES(64) < TBDMS(20,000) < TIPS(700,000) < TBDPS (5,000,000) 碱水解相对稳定性: TMS(1) < TES(50) < TBDMS = TBDPS (20,000) < TIPS(100,000) 硅醚保护基的除去： （F-Si 142 kcal/mol; O-Si 112 kcal/mol） 通常用 HF / CH3CN; TBAF / THF; HF.Py / CH3CN
• 1). 酯类保护基 • t-BuCO (Piv); PhCO; MeCO; ClCH2CO et al.
OH HO OH
OH
PivCl (1eq) Py-CH2Cl2 0-25 C
o
HO
O
O
90%
Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis,
1986, 453
O O O O O OBn
Cl
OBn
OBn HO
OBn
OBn
AcO
OBn
OBn
NH2NH2 (15eq) HOAc-HOMe rt, 12 h
AcO O
O
OBn
OBn
AcHN
AcHN
O OBn
74% Cook, A. F.; Maichuk, D. T. J. Org. Chem., 1970, 35, 1940.
2). 硅醚保护基 硅醚保护基主要有： Me3Si (trimethylsilyl, TMS); Et3Si (triethylsilyl, TES); t-BuMe2Si (tert-butyldimethylsilyl, TBDMS or TBS) i-Pr3Si (triisopropylsilyl, TIPS) t-BuPh2Si (tert-butyldiphenylsilyl, TBDPS)
• 酯类保护基的除去(cleavage)
碱性条件下水解， 水解能力： t-BuCO(Piv) < PhCO < MeCO < ClCH2CO 常用的碱：K2CO3, NH3, NH2NH2, Et3N, i-Pr2NEt et al 去除Piv一般用较强的强碱体系，如 KOH/H2O, LiAlH4, DIBAL, KBHEt3
TES ether： TESCl/Imid. DMAP; TESOTf / Py. or 2,6dimethห้องสมุดไป่ตู้lpyridine
OH
O
OTES O
TESOTf (1.1eq)
H
Py, MeCN, -50 C, 10 min. 79%
o
H
Heathcook, C. H.; Young, S. D.; Hagen, J. P.; Pilli, R.; Badertscher, U. J. Org. Chem., 1985, 50, 2095
OTBDMS TBDMSO O O OTBDMS
DIBAL(2.5eq) CH2Cl2, -78 oC
TBDMSO
OH
95% Nicolaou, K. C.; Webber, S. E. Synthesis, 1986, 453
ClCH2CO的去除可以用硫脲，氨/甲醇，苯，吡啶水溶液， NH2CH2CH2SH, NH2CH2CH2NH2, PhNHCH2CH2NH2 等除去。
酸水解相对稳定性: TMS(1) < TES(64) < TBDMS(20,000) < TIPS(700,000) < TBDPS (5,000,000) 碱水解相对稳定性: TMS(1) < TES(50) < TBDMS = TBDPS (20,000) < TIPS(100,000) 硅醚保护基的除去： （F-Si 142 kcal/mol; O-Si 112 kcal/mol） 通常用 HF / CH3CN; TBAF / THF; HF.Py / CH3CN