光纤光栅制作方法
长周期光纤光栅的原理及制作方法
一．长周期光纤光栅的制作1）振幅掩模法 a UV 曝光振幅掩摸板写入不采用衍射光束干涉条纹“模制”折射率调制图案的办法，而是模板上刻好该图案，通过光学系统，将之投射到光纤上，纤芯折射率发生相应的变化而成栅的[16]。
写入后对其退火，以稳定光学特性。
振幅掩模板通常用于长周期光纤光栅的写入。
实验装置如图1所示。
因为长周期光纤光栅的周期一般为几百微米，掩模板的制作很方便，而且精确，容易得到保证，所以用这种方法制作的光栅，其一致性和光谱特性比较好，而且对紫外光的相干性没有要求。
图1 振幅掩模法制作LPFG 的实验装置b 离子注入将高能量离子注入到各种石英玻璃中可以产生高达约10-2的折射率变化。
利用这一特性可以用离子注入法在石英光纤中制作高性能的光纤光栅。
将高能量He 2+注入到光纤中制作LPFG [17]。
实验中所使用的方法是振幅掩模法，制作原理如图2所示。
经加速后的高能量He 2+通过金属掩模板注入到光纤上，加速能量为5．1MeV 。
掩模周期为170μm ，间距为60μm ，共29个周期。
注入20×1015He 2+／cm 2剂量后，在普通通信光纤中制作了在14l0nm 处约16dB 大损耗峰的LPFG 。
离子注入法产生折射率变化的机理可能是玻璃结构的致密化。
它的缺点是在包层中会感生很高的折射率变化。
不过，这一缺点可以通过选择窄间距的掩模板，使离子只注入到纤芯中来解决。
通过选择短周期的掩模板，也可以制作FBG 。
离 子图2 离子注入法写入LPFG 示意图2） 电弧感生微弯法利用电弧导致的永久微弯制造灵活剖面控制的LPFG [18]，如图所示。
光纤去除护套后，用两个相距5.5cm 的夹具笔直固定，然后将一个夹具沿与光纤轴向正交的方向向下位移大约100μm ，从而在光纤上产生一个横向的应力。
电弧在某一点放电时，在剪切应力的作用下产生微弯，微弯的幅度典型值小于1μm ，用这种方法制作的光栅谐振波长只与光栅周期有关，而与耦合强度无关，所以光栅的中心波长、反射率等特性易于控制。
光钎通信器件 第四章 光纤光栅原理及应用
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知识点回顾
光纤光栅：
用特定波长的激光以特定方式照射光纤，导致光 纤内部的折射率沿轴向形成周期性或非周期性的空间 分布，形成光栅结构，并且能精确控制谐振波长。
光纤光栅的的主要制作方法：
1. 纵向驻波写入技术(内部写入技术)
2. 横向全息写入技术 3. 相位掩模写入技术 4. 逐点曝光写入技术 5. 振幅掩模写入技术
1. 电磁调谐
将光纤光栅固定在磁致伸缩棒上，连同该磁致 伸缩棒置于均匀磁场中，磁致伸缩棒将磁力转化为 应力作用于光栅上，从而完成光纤光栅波长的连续 均匀调谐。103mT的磁场产生1.1nm的漂移量。
15.02.2021
14
光纤通信器件
光纤光栅工作原理
如何产生光纤光栅波长的非均匀调谐，即调谐 后为啁啾光纤光栅？
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光纤通信器件
光纤光栅的封装工艺与技术
二、掺杂光纤的光敏性
1. 掺杂光纤光敏性机理
➢掺杂物质与SiO2混合时形成的结构缺陷 ➢外界光场作用下通过单光子或双光子吸收过程使错位键破裂 形成色心
➢标准光纤：GeO2 ➢其它掺杂：Erbium（铒）, Europium（铕）, Cerium（铈） 2. 影响光纤光敏性的因素
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光纤通信器件
光纤光栅工作原理
2. 热调谐法 热调谐法是基于折射率与温度的依赖关系，实
验证明：光纤布拉格光栅波长的温度灵敏度为0.011 nm/oC（或者0.015nm/oC ）。热调谐的方法可以使 光纤光栅波长的调谐量达到30nm，但是调谐温度不 易控制，容易受应力的交叉影响，而且热传递速度 缓慢决定调谐过程缓慢，以至于适用价值不是很大。
光纤光栅的制作方法
光纤光栅的制作方法光纤光栅啊，这可是个很有趣的东西呢。
要说起它的制作方法，那可得好好唠唠。
光纤光栅简单来说就像是在光纤这个长长的“小管道”上做一些特殊的标记。
就好比在一条长长的绳子上每隔一段距离打个特殊的结一样。
一种常见的制作方法是用紫外光照射。
你看啊，光纤就像个害羞的小娃娃，这紫外光呢就像一把神奇的小刷子。
我们把光纤固定好，然后让紫外光按照我们想要的规律去照射它。
这就像是用小刷子在小娃娃的身上画出我们想要的图案。
这个时候光纤内部的一些结构就会因为紫外光的照射而发生改变，就像小娃娃被画了图案之后有了新的模样。
这紫外光的能量啊，得控制得刚刚好，要是能量太大了，就像是你用力过猛把小娃娃给弄疼了，可能就把光纤弄坏了；要是能量太小呢，就像你轻轻划了一下，根本没画出什么来，那也做不出我们想要的光纤光栅。
还有一种方法是利用相位掩模技术。
这就有点像我们小时候玩的印章。
相位掩模就好比是那个印章，光纤就是那张纸。
我们把光纤放在这个特殊的“印章”下面，然后让光通过这个“印章”照射到光纤上。
这个“印章”上面有我们事先设计好的图案，光透过它就把这个图案印到光纤上了。
不过这可不是像我们平常盖章那么简单，这里面的光的角度啊，强度啊，都得经过精确的计算和调整。
就好像你要盖一个非常精细的印章，稍微歪一点或者用力不均匀都不行。
制作光纤光栅的时候，环境也很重要呢。
这就好比我们做饭，要是厨房乱七八糟的，到处都是灰尘，那做出来的饭肯定不好吃。
制作光纤光栅也一样，周围的温度啊，湿度啊都得控制好。
要是温度一会儿高一会儿低，就像你做饭的时候一会儿火大一会儿火小，那光纤光栅的质量肯定没法保证。
湿度太大的话，就像你在满是水汽的厨房里做饭，啥都看不清楚，制作过程中也容易出问题。
在制作光纤光栅的材料选择上也有讲究。
光纤本身就像我们盖房子的砖头，是基础。
这砖头的质量得好啊。
有的光纤质地均匀，就像好砖头一样，用这样的光纤做出来的光栅质量就好。
要是光纤本身就有很多瑕疵，那就像用破砖头盖房子，怎么能盖出好房子呢？当然，除了光纤这个基础材料，在制作过程中可能还会用到一些辅助材料，就像我们做饭时候用的调料一样，虽然量不多，但是缺了它们也不行。
光纤光栅制作技术综述
(4)
由于正向传播导波模式和正向包层模式的传播常数都为正，如图 3 所示，K 值较小，则 很 大，一般为几百微米，这种光栅为长周期光纤光栅（LPFG） 。它的基本特性是一个带阻滤波 器。 一个给定周期的光栅可使基模与包层内几个不同阶次模的耦合， 造成传输谱在不同波长 处的损耗凹陷。
-2-
2 /
式中， 是由模式 1 耦合到模式 2 所需的光栅周期， 1 、 2 分别为模式 1 和模式 2 的传 输常数。 若要将正向传播导波模式耦合到反向传播导波模式， 从前面给的相位匹配条件可得：
2 / 1 2 01 ( 01 ) 2 01
(2)
如图 2 所示，K 值较大，则 很小( ＜ 1m ), 这种光栅为 Bragg 光栅(FBG)。它的基本特性 就是一个反射式光学滤波器，反射峰值波长称为 Bragg 波长，满足：
01
图3
0
c(12)
1) c(1
(1) 01 01 c1 2 /
正向传播导波模式耦合到 1 阶正向传播包层模式的相位匹配条件
三．光纤光栅的制作
1 ．光敏光纤的制备
光纤的光敏性是在光纤中形成 Bragg 光栅的关键。 采用适当的光源和光纤增敏技术， 可 以在几乎所有种类的光纤上不同程度的写入光栅。光纤中的折射率改变量与许多参数有关， 如照射波长、光纤类型、掺杂浓度、光纤温度、曝光功率及曝光时间等。如果不进行其它处 理，直接用紫外光照射光纤，折射率增加仅为 10-4 数量级便已经饱和。为了满足高速通信 传感的需要，提高光纤光敏性日益重要。 目前光纤增敏方法主要有： (1)掺杂 现在硼/锗 （B/Ge） 共掺光纤已成为现在国际上写入紫外光纤光栅的首选光纤。 B/Ge 共掺光纤的紫外光敏性是目前发现的不用载氢处理的光纤中最高的，折射率可达 10
光纤光栅制作方法
光纤光栅制作方法<2> 3）chirp光纤光栅的制作a）两次曝光法这种方法可采用较简单的制作均匀光纤光栅的曝光光路。
第一次曝光在光纤上并不形成光栅，而是仅形成一个渐变的折射率梯度，第二次曝光过程则是在第一次曝光区域上继续写入周期均匀的光栅，两次效应迭加便构成了一个chirp光栅。
这种方法的优点是利用了制作均匀光栅的曝光光路，使得制作方法大大简化。
b）光纤弯曲法这是在均匀光栅中引人光纤的机械变形，形成chirp光栅的一种方法，由于光纤的弯曲角度渐变，造成光栅的周期渐变。
这种方法引入的chirp量不能过大，否则栅齿倾斜，会引起导模耦合成包层模而造成附加损耗。
c）锥形光纤法这是利用锥形光纤形成chirp光栅的一种方法。
可以在锥形光纤两端施加应力发生形变，然后写人均匀周期的光栅，应力释放后，由于锥体各部分的伸长形变不同，造成光栅周期的轴向发生均匀变化，形成chirp光栅。
也可以先在锥形光纤上写人均匀光栅，然后再施加应力，可以得到相同的效果。
d）应力梯度法与锥形光纤法原理相同，只是光纤中应力大小是通过将光纤粘在底座上的胶含量来调节。
它的优点是可以分别调节中心波长和光栅的带宽，这对于制作高性能的色散补偿器具有重要的意义。
e）复合chirp光栅法将一列不同周期的均匀光栅顺序写在光纤上，它最大限度地应用了制作均匀光纤光栅的工艺简单性，具有很大的灵活性。
f）chirp光栅的全总干涉法制作这种制作chirp光栅的基本原理是通过在双光束全息光路系统中加入往面镜，使两束光的干涉角度沿着光纤轴向发生连续变化，从而造成光纤的纤芯折射率发生周期性渐变，形成chirp光纤光栅。
4）新的光纤光栅制作方法a）直接写入法直接写入法是指在制作光纤光栅时，无须剥去光纤的涂覆层而直接在纤芯上写人光纤光栅的方法。
此法关键是采用对紫外光透明的材料作为光纤的涂覆层。
目前报道的光纤涂覆层有采用丙烯酸酯或general electric rtv615硅胶，通过加大紫外光强度、减小涂覆层厚度以及对光纤氢载等方法可以有效提高光纤光栅的写入时间。
光纤光栅的制备和调制技术
光纤光栅的制备和调制技术光纤光栅是一种利用光纤中周期性介质折射率变化的结构来控制光信号传输的技术。
它在光纤通信、光纤传感、光纤激光等领域具有广泛的应用。
本文将介绍光纤光栅的制备和调制技术，以及相关应用方面的进展。
光纤光栅的制备技术有几种方法，其中最常用的是光纤光栅的曝光和刻蚀技术。
曝光技术通常使用干涉光束将紫外光照射在光纤上，通过控制曝光剂的厚度和光束的强度来控制光栅的周期和折射率的变化。
刻蚀技术则是使用化学蚀刻方法将曝光后的光纤进行刻蚀，使得光栅形成。
另一种制备光纤光栅的技术是使用激光直写技术。
这项技术使用激光脉冲来直接在光纤上写入光栅结构，而无需曝光和刻蚀过程。
激光直写技术可以实现高精度的光栅制备，并且具有快速、灵活，适用于各种光学纤维的优点。
这项技术在光纤光栅的制备方面具有巨大的潜力。
光纤光栅的调制技术是使用外界的物理或化学方法来改变光纤光栅的折射率，从而调节光信号的传输性能。
其中最常用的技术是温度调制技术和机械调制技术。
温度调制技术通过改变光纤的温度来改变光纤光栅的折射率。
光纤材料的折射率会随着温度的变化而变化，通过控制光纤的温度变化，可以对光纤光栅的传输特性进行精确的调节。
这项技术在光纤通信和光纤传感领域得到了广泛应用。
机械调制技术则是通过施加外力来改变光纤光栅的折射率。
通过机械弯曲、机械压力等方式，可以改变光纤中周期性介质的折射率，进而控制光信号的传输。
这种技术在光纤光栅传感器中很常见，可以实现一些光纤传感器的灵敏度和响应速度的调节。
除了制备和调制技术，光纤光栅还有一些应用方面的进展。
例如，光纤光栅在光纤通信中可以用来实现波长多路复用技术，通过控制不同波长的光信号在光纤中的传输，实现在一个光纤中同时传输多个不同波长的信号，提高了光纤通信的传输容量。
在光纤传感方面，光纤光栅可以用来监测和测量光纤周围的物理量，例如温度、应变、压力等。
通过与光纤光栅的相互作用，可以将这些物理量转化为光信号的变化，从而实现对环境的监测和测量。
使用飞秒激光刻写光纤光栅的装置及方法
使用飞秒激光刻写光纤光栅的装置及方法一、概述在光通信领域，光纤光栅是一种非常重要的光学元件，它可以实现光的波长选择和调制。
然而，传统的光纤光栅制作方法存在一些局限性，比如制作周期性结构的难度大，制作效率低等。
而使用飞秒激光刻写技术，可以有效地解决这些问题，因此在光通信领域中得到了广泛的应用。
二、飞秒激光刻写光纤光栅的基本原理飞秒激光刻写技术是利用飞秒激光对材料表面进行微纳加工的一种先进加工技术。
飞秒激光具有极短的脉冲宽度和高峰值功率，可以在材料表面产生非线性光吸收和等离子体产生，从而实现对材料表面的微纳加工。
利用飞秒激光刻写技术制作光纤光栅的基本原理是通过飞秒激光在光纤表面产生周期性的折射率变化，从而形成光栅结构。
三、使用飞秒激光刻写光纤光栅的装置及方法1. 装置飞秒激光刻写光纤光栅的装置主要包括飞秒激光器、光学镜头、光栅控制系统等。
其中，飞秒激光器是整个装置的核心部件，它能够提供高功率的飞秒激光，光学镜头用于对激光进行聚焦和成像，光栅控制系统则用于控制激光在光纤表面的刻写参数。
2. 方法具体的飞秒激光刻写光纤光栅的方法包括以下几个步骤：（1）准备工作：清洁光纤表面，并对刻写参数进行预先设置。
（2）飞秒激光刻写：将飞秒激光聚焦到光纤表面，控制激光的扫描速度和功率，使光纤表面产生周期性的折射率变化。
（3）后处理：对刻写好的光栅进行表面处理和检测，确保光栅的质量和稳定性。
四、个人观点和理解飞秒激光刻写光纤光栅相比传统的制作方法，具有制作周期性结构的难度小，刻写效率高等优点。
这种技术的发展极大地推动了光通信领域的发展，为光纤光栅的制作提供了一种高效、精确的方法。
我个人认为，随着光通信技术的不断发展，飞秒激光刻写光纤光栅的装置及方法将会得到更广泛的应用，并在光通信领域发挥重要的作用。
五、总结飞秒激光刻写光纤光栅的装置及方法是一种先进的光纤光栅制作技术，其基本原理是利用飞秒激光在光纤表面产生周期性的折射率变化。
光栅
•
产生的自由电子进入光纤材料的色心陷阱中，从而 改变了光纤的吸收、散射等光学特性，出现了折射率 的变化；另外，在光照射过程中，光纤材料结构释放 诱导应力以及结构、形状的畸变等也导致了折射率的 变化。这种光折变效应主要发生在近紫外波段。最初 光致折射率变化出现在掺锗光纤中，后来研究发现， 具有光敏特性的光纤种类很多，有些是掺磷或硼，并 不一定都掺杂，只是掺杂光纤的光敏特性更明显。有 时根据需要为了加大折射率的变化程度，就会选用高 掺杂的光纤。
•
光纤中的光敏特性于1978年由Hill等人首次发现并 成功用于研制高反射率布拉格光栅滤波器，1989年 Meltz提出的横向写入制造方法及Hill等人于1993年提 出的相位掩模制造法使光纤光栅的制造技术得到重大 发展，使得光纤光栅的大批量制造成为可能，之后， 光纤光栅器件逐步走向实用化。光纤光栅器件在光纤 通信及光纤传感领域有着广泛的应用，被认为是继掺 饵光纤放大器（EDFA）技术之后光纤技术发展的又一 重大突破。本节首先介绍光纤光栅器件的形成机理、 制造方法及工作原理，然后探讨光纤光栅器件的应用。
•
光纤光栅从本质上讲是通过波导 与光波的相互作用，将在光纤中传输的 特定频率的光波，从原来前向传输的限 定在纤芯中的模式耦合到前向或后向传 输的限定在包层或纤芯中的模式，从而 得到特定的透射和反射光谱特性。光纤 光栅中，光场与光波导之间的相互作用 可用耦合模理论来描述。
• •
1.均匀光纤光栅 最简单的具有正弦结构的滤波型光纤光栅，其 折射率可以表示为
3 .7 50
7 .5 00ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
－0 .0 6 －4 .0
－2 .0
0 .0
L
2π
2 .0
4 .0
新型的简单、可靠地光纤光栅制作技术
新型的简单、可靠地光纤光栅制作技术光纤光栅是一种通过一定方法使光纤纤芯的折射率发生轴向周期性调制而形成的衍射光栅，是一种无源滤波器件。
由于光纤光栅具有体积小、熔接损耗小、全兼容于光纤、能埋入智能材料等优点，并且其谐振波长对温度、应变、折射率、浓度等外界环境的变化比较敏感，因此在光纤通信和传感领域得到了广泛的应用随着光纤光栅应用范围的日益扩大，光纤光栅的种类也日趋增多。
根据折射率沿光栅轴向分布的形式，可将紫外写入的光纤光栅分为均匀光纤光栅和非均匀光纤光栅。
其中均匀光纤光栅是指纤芯折射率变化幅度和折射率变化的周期(也称光纤光栅的周期)均沿光纤轴向保持不变的光纤光栅，如均匀光纤Brag光栅(折射率变化的周期一般为0.1um量级)和均匀长周期光纤光栅(折射率变化的周期一般为100um量级);非均匀光纤光栅是指纤芯折射率变化幅度或折射率变化的周期沿光纤轴向变化的光纤光栅，如chirped光纤光栅(其周期一般与光纤Bragg光栅周期处同一量级)、切趾光纤光栅、相移光纤光栅和取样光纤光栅等（拓普光研）。
均匀光纤光栅均匀光纤Bragg光栅折射率变化的周期一般为0.1um量级。
它可将入射光中某一确定波长的光反射，反射带宽窄。
在传感器领域，均匀光纤Bragg光栅可用于制作温度传感器、应变传感器等传感器;在光通信领域，均匀光纤Bragg光栅可用于制作带通滤波器、分插复用器和波分复用器的解复用器等器件。
切趾光纤光栅对于一定长度的均匀光纤Bragg光栅，其反射谱中主峰的两侧伴随有一系列的侧峰，一般称这些侧峰为光栅的边模。
如将光栅应用于一些对边模的抑制比要求较高的器件如密集波分复用器，这些侧峰的存在是一个不良的因素，它严重影响器件的信道隔离度。
为减小光栅边模，人们提出了一种行之有效的办法一切趾所谓切趾，就是用一些特定的函数对光纤光栅的折射率调制幅度进行调制。
经切趾后的光纤光栅称为切趾光纤光栅，它反射谱中的边模明显降低（拓普光研）。
光纤上产生光栅的方法
光纤上产生光栅的方法光栅是一种具有周期性折射率变化的光学器件，可以在光纤中产生一系列的衍射点或波阵面，被广泛应用于光纤通信、光纤传感、光纤激光器等领域。
本文将介绍光纤上产生光栅的几种方法。
1. 激光干涉法激光干涉法是一种常用的产生光纤光栅的方法。
它基于干涉原理，在光纤上通过两束相干光的干涉，形成周期性的折射率变化。
具体操作时，将一束激光经过分束器分为两束，分别通过两根光纤，再通过反射镜聚焦后重新合成。
由于两束光的路径差与波长的关系，可以在光纤中形成一定的折射率变化，从而产生光栅。
2. 光子法光子法是一种通过高能量光子对光纤进行直接作用的方法。
其原理是利用高能量光子的能量传递和聚焦作用，使光纤内部发生局部折射率变化。
通过光子法可以制作出非常复杂的光栅结构，并且具有较高的可调谐性。
3. 激光光纤拉伸法激光光纤拉伸法是一种通过拉伸光纤来产生光栅的方法。
通过在光纤两端施加拉力，使光纤发生形变，从而改变其折射率分布。
在拉伸的过程中，可以产生周期性的折射率变化，形成光纤光栅。
这种方法制备的光栅具有较高的稳定性和可重复性。
4. 电子束曝光法电子束曝光法是一种利用电子束对光纤进行局部曝光的方法。
在光纤表面涂覆一层感光胶片，然后利用电子束在感光胶片上进行局部曝光，通过显影和腐蚀等工艺步骤，可以在光纤上形成周期性的折射率变化，从而制备光栅。
5. 光纤拉伸压纹法光纤拉伸压纹法是一种通过在光纤表面施加压力来产生光栅的方法。
具体操作时，将光纤置于两个金属滚轮之间，通过调节滚轮的距离和转速，施加不同的压力和速度，可以在光纤表面形成周期性的压纹，从而产生光栅。
总结起来，光纤上产生光栅的方法包括激光干涉法、光子法、激光光纤拉伸法、电子束曝光法和光纤拉伸压纹法等。
每种方法都有其特点和适用范围，可以根据实际需求选择合适的方法来制备光纤光栅。
随着光纤技术的不断发展，相信在未来会有更多更高效的方法用于光纤光栅的制备。
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光纤光栅制作方法<2> 3）chirp光纤光栅的制作a）两次曝光法这种方法可采用较简单的制作均匀光纤光栅的曝光光路。
第一次曝光在光纤上并不形成光栅，而是仅形成一个渐变的折射率梯度，第二次曝光过程则是在第一次曝光区域上继续写入周期均匀的光栅，两次效应迭加便构成了一个chirp光栅。
这种方法的优点是利用了制作均匀光栅的曝光光路，使得制作方法大大简化。
b）光纤弯曲法这是在均匀光栅中引人光纤的机械变形，形成chirp光栅的一种方法，由于光纤的弯曲角度渐变，造成光栅的周期渐变。
这种方法引入的chirp量不能过大，否则栅齿倾斜，会引起导模耦合成包层模而造成附加损耗。
c）锥形光纤法这是利用锥形光纤形成chirp光栅的一种方法。
可以在锥形光纤两端施加应力发生形变，然后写人均匀周期的光栅，应力释放后，由于锥体各部分的伸长形变不同，造成光栅周期的轴向发生均匀变化，形成chirp光栅。
也可以先在锥形光纤上写人均匀光栅，然后再施加应力，可以得到相同的效果。
d）应力梯度法与锥形光纤法原理相同，只是光纤中应力大小是通过将光纤粘在底座上的胶含量来调节。
它的优点是可以分别调节中心波长和光栅的带宽，这对于制作高性能的色散补偿器具有重要的意义。
e）复合chirp光栅法将一列不同周期的均匀光栅顺序写在光纤上，它最大限度地应用了制作均匀光纤光栅的工艺简单性，具有很大的灵活性。
f）chirp光栅的全总干涉法制作这种制作chirp光栅的基本原理是通过在双光束全息光路系统中加入往面镜，使两束光的干涉角度沿着光纤轴向发生连续变化，从而造成光纤的纤芯折射率发生周期性渐变，形成chirp光纤光栅。
4）新的光纤光栅制作方法a）直接写入法直接写入法是指在制作光纤光栅时，无须剥去光纤的涂覆层而直接在纤芯上写人光纤光栅的方法。
此法关键是采用对紫外光透明的材料作为光纤的涂覆层。
目前报道的光纤涂覆层有采用丙烯酸酯或general electric rtv615硅胶，通过加大紫外光强度、减小涂覆层厚度以及对光纤氢载等方法可以有效提高光纤光栅的写入时间。
这种方法解决了以往传统方法中必须采用课光纤的弊端，减少了对光纤光栅制作完后要立即进行涂覆的工艺复杂性，具有很好的应用前景。
b）在线成栅法这是最新出现的一种成栅方法。
南安普敦大学的ldong等人采用脉冲单点激射的方法，首次实现了光纤拉制过程中写人光纤光栅的实验。
它是在光纤拉制过程中在探光纤上直接写入光栅。
通过对干涉系统中两束干涉光夹角的调节，可在线自动写入反射波长不同的一系列光纤光栅。
使用这种方法，制造工艺简单，能连续大批量地制造光纤光栅，提高了光栅性能的稳定性，它的技术关键是要对所使用的准分子激光光束截面进行改进才能满足实用化的要求。
c）光纤刻槽拉伸法用精密切割机对光纤进行周期性机械刻槽，用氢气火焰对v型槽区域的光泽进行拉伸退火，熔融玻璃表面应力的影响，以及v型槽一边的光纤的纤芯不平衡等因素，纤芯产生周期性的畸变，导致纤芯折射率的周期性变化。
利用此方法已经成功研制成的长周期光纤光栅，具有很好的宽阻带特性（30nm），可应用于宽阻带滤波器的波分复用系统。
这种方法的缺点是机械加工的精度要求较高，目前很少被采用。
d）微透镜阵列法这种写入长周期光纤光栅方法的关键技术是采用一种微透镜阵列，将一平行的宽柬难分子激光聚焦成平行等间距的光条纹，投影到单模光纤上，其中相邻微透镜之间无间隙，其中心间距决定了写人光栅的空间周期。
这种方法写入一个长周期光纤光栅仅需10s，大大提高了写入效率。
通过控制写入时间和写入光栅的总长度，可以用同一块微透镜模板写入不同波长、不同透射率的长周期光栅。
这种方法的缺点是做透镜模板制作非常困难，使它的应用受到了限制。
e）用聚焦二氧化碳激光器写入lpg 采用10.6μm自由空间二氧化碳激光器对光纤直接曝光，通过计算机控制平移台，实现光纤的准直和固定及曝光间距的控制，可以写入不同周期的长周期光栅。
这种方法无须采用紫外光，对光纤可以不用载氢处理，这种方法具有很好的应用前景。
f）移动平台法利用一个周期不变的相位掩膜，可以写入调瞅、波长任意的光纤bragg光栅，通过改变光束的聚焦，可以写入阶跃chirp光栅。
实验结构的主体包括两个移动平台，相位掩膜与光纤固定在一起，可以移动。
改变两个透镜之间的距离就可以改变写入光纤的布拉格波长，控制每个基本光栅的曝光时间可控制切趾光栅剖面，这对于抑制反射谱中旁瓣的影响具有重要的意义。
g）用聚焦离子束写入光纤光栅利用聚焦离子束（focused ion beam：fib）可以写入任意的光纤光栅结构，fib既可以采用研磨方式，也可以采用沉积方式。
光栅研磨出的槽离纤芯只有几μm，研磨15～20个槽即可获得高的反射率，槽数越多反射越大。
研磨方法简单但实现不易，常用的方法是用氟化氢腐蚀掉部分包层后开始研磨，但光纤研磨下来的物质充电沉积在研磨区，将会降低研磨效率，并且由于材料的再沉积，糟的深宽比将被限制在一个较小的值。
研磨时间取决于研磨材料和束电流。
这种方法的关键是要解决工艺难度，才有可能获得广泛的应用。
3结束语对光纤通信而
言，光纤光栅具有体积小、插入损耗低、与通信光纤良好匹配等优点，被广泛应用于各种光器件中，此外它还不受电磁干扰、耐高温、抗腐蚀，适用于暴风雨及雷电环境下工作。
光纤光栅技术成为近年来发展起来的一个全球性的研究热点，寻求最佳的光纤光栅制作方法无疑具有重要的意义。
摘自《光纤与电缆》。