通风自控系统简介

实验室通风自控系统简介

一、概述

在实验室中，因为试验所引起的大量有害物质，如烟雾、粉尘等，都会对实验人员的健康带来危害。为了最大可能的保护实验室人员的健康和维护室内安全的试验环境，做通风系统就非常必要了。

实验室一体化控制器简介:

1、控制器、显示器集成一体，成本节约，体积轻巧:148*88*26mm

2、用户操作、参数显示/修改”系统的逻辑控制，直接在室内进行，亦可以

“ MODBUS协议与外部通讯

3、彩屏和单色屏可以选择

4、背面带磁，可方便直接挂在铁质的壁面上，也可以用86底盒安装

5、所有弱电布线都拉到室内的一体化控制器中，设备层只有强电部分，维护方便

A

< nn^iini

' dedir

厂

CrumtuTEt JSfwecI

/ C) Luran I* an

Fume Cupboard Coniroller

Room Controller

三、总貌:

I Of

F ^UNrl Dm i PVCi'iU+i-

AirNui)|ih

Typical Laboratory

Uh

Exhaust pr^su re

Con1rol!er

269.

□

i

Ffrsh \ir HI«<1

四、实验室通风控制系统简介：

实验室通风系统的核心目的就是为了保障实验人员的人身安全，即防止有害气体等物质流向实验人员，也就是说要控制气体的流动方向，而气体的流动方向又可以用压差来体现（即由压强大的地方流向压强小的地方），所以说实验室通风控制系统的主要目的就是控制实验室的室内压差。

要形成压差，就必须“送进去的风量”跟“排出去的风量”不相等才能形成压差；而为了保护实验人员，实验室内的压差就必须为“正压”，那就要求“送风量”要大于“排风量”；由于每个实验室的使用功能不同，他对排风的要求也不一样，有定风量排风和变风量排风之分，现简单介绍一下这两种控制方案；

1、定风量排风系统：

该系统中，只要给定恒定的补风量，就能保证室内压差的稳定，控制方案如下：

1）、补风机工频补风系统：补风机直接工频运行，定风量补风

2、变风量排风系统：

室内存在着通风柜、万向排气罩等变风量的排风设备，其排风量的不稳定会造成室内压差波动，因此必须对补风量进行变风量控制

1）、集中送、排风系统或一拖多系统（一个补风机给多间房间补风）：每个受控房间的送、排风均安装VAV变风量阀控制，根据室内压差信号，控制VAV变风量阀的开度，实现室内压差的稳定控制；

因为是一拖多系统，所以说只要有一间受控室内的排风量发生变化，该室的补风量也发生变化，造成总的补风量也发生变化；那怎么来实现总的补风量跟随着变化呢？这样就要控制补风系统了：给补风系统增加一个送风压力传感器，补风机再用变频控制，这样，就能根据送风压力的信号来调节补风机的转速，实现动态跟随的目的。

上面所说的VAV变风量阀，根据性价比和室内环璋要示，有下面几种选择:

匕文丘里阀

◎快速比例调节风阀

©普通比例调节风阀

2）、一对一系统（一个补风机给一间房间补风）：根据室内压差信号调节补风机的运行频率，实现动态跟随。

3、排风控制系统:

为了人员的安全性和减少对周边环境的影响，一般来说，实验室的排风都是经风管汇总到楼顶集中排放的，这种排风系统也有两种控制方案:

1）、排风压力控制:根据总排风管道上的压力传感器信号，控制排风机的运行频率，实现恒压排风，保证了室内排风量平滑变化的同时，也降低了能耗；

2）、直接启停控制:排风机直接启动，在每个排风支管用手动阀调好角度，定好每个受控室的排风量；缺点是不管有多少间房间在使用，总排风量都是不变的，会造成有些不使用的房间有负压的可能

4、通风柜控制系统:

为了防止有害气体的逸出，通风柜对气流要有一定的吸入速度，根据门高信号和面风速信号控制VAV变风量阀的开度，保证了通风柜面风速的恒定；通风柜控制系统的套装配置有以下几项：

1、一体化控制器

2、面风速传感器

3、门高传感器

4、VAV变风量阀

五、中央监控系统

1）、空调系统的网络示意图

2）、空调机组总貌:实时动态显示所有空调机组的运行状态及其温湿度值等

二誤凤

4

立

I L 4 I a-i -- i 广 ~

1

i i

|—to

~T"

T "r T

・：；・

理玉-

“M；巧.i 蘇扭 f 换尸附

AftEft -I*

CLO

氏0

0.0 0…D C, 0 Q. Q 0.0

Q.0

IJ. Q 0.0

仇。

0.0

Q.D

0. Q

Q. 0

ao

U Q

晝内二^ 7*1

訓as 皿

u 0

«.

u..

u..

in

肝百

0.D

d. c

ao a

0.0

(ta

a

:心顷TT

TXinii™7

>■> "fi '[jr

2P!..1£ g

」.i

变廠 51 I* _L

U.(3

LL U

[I, M

SSE T

~~I ~cTo

(X D

ZerffTT TT

O (Tc

CIO 10

"Eo A '2