场发射环境扫描电镜配置及技术规格表
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––与能谱联合使用,具备图像采集系统:具有SEM成像功能,可支持多种SEM图像类型,图片尺寸不低于4096×4096;具备EBSD花样自由采集,无标样自动系统校准功能,拥有极图与反极图,取向分布,相区分与鉴定,能够分析晶界织构,以及EDS和EBSD的同步分析,离线数据再处理等软件包;标书需详细提供产品功能的软件特点。
––网络打印机:最大打印幅面:A4;打印速度:A4:达到14ppm;最高分辨率:600×600dpi;耗材类型:鼓粉一体;硒鼓寿命:2000页;首页打印时间:小于10秒;月打印负荷:达到5000页;进纸盒容量:150页手动进纸器;内存:2MB。
2.2电子束背散射衍射仪(EBSD)系统(可与EDS实现一体化)
––样品台移动重复精度:2um(X/Y方向)
––样品室尺寸:≥250mm;兼容性高,预留EDS、EBSD、波谱仪以及其他标准扩展接口。
1.6检测器
––高真空模式,E-T二次电子探头;
––低真空模式,大视场低真空气体二次电子探头(LFD)
––环境真空下模式,气体二次电子探头(GSED)
––高灵敏度,低电压固体背散射电子检测器
1.9冷却系统
––配有循环水冷却器
1.10其他配件或易损件
––配置相关配件或易损件(备用灯丝+光阑3套)。
2附件
2.1X射线能谱仪(EDS)
1)探测器
––探头类型:电制冷硅漂移(SDD)探测器,采用场效应管(FET)集成设计的高速SDD芯片,有效探测器面积≥30mm2
––能量分辨率:在100,000CPS条件下Mn Ka保证优于129eV,轻元素分辨率:C-K/57eV, F-K/67eV
可观察和检测非均相有机和无机材料样品的表面微观形貌观察及成分分析。它可以进行二次电子形貌分析和背散射电子衬度成像分析。能谱分析能够实现点分析、面分析、线扫描和面扫描,背散射电子衍射分析可以进行晶体取向成像、显微织构、晶界等分析。
1台
.
场发射环境扫描电镜配置及技术规格表
附件1:货物需求一览表
项目
序号
设备名称
数量
交货地点
交货期
1
场发射环境扫描电镜
1台
河南理工大学指定地点
按合同要求
附件2:设备配置及技术规格表
序号
设备名称
技术参数
功能
要求
数量
1
场发射环境扫描电镜
仪器设备的主要技术参数
1主机
1.1分辨率
1)高真空
–– 30 kV下不低于1.0 nm (SE)
––单一处理单元能同时支持两个及多个探测器
––测定元素范围:4号元素硼Be到95号元素镅Am
––峰背比优于20000:1,谱峰稳定性:1,000cps到100,000cps,Mn Ka峰谱峰漂移小于1eV,48小时内峰位漂移小于1.5eV
2)能谱仪及图像系统
––能谱仪处理单元与计算机采用分立式设计,完整的能谱定性定量系统,带图像系统,能进行线面扫描;
1)EBSD探测器
–– EBSD探头,适用于场发射电镜的高速EBSD探测器,能与EDS硬件同时使用,高端的高灵敏度CCD相机,加速电压大于3kV,及束流大于500 pA时,可以采集到明显的衍射花样。30×25mm矩形荧光屏;花样像素分辨率:640×480×12位;花样采集速度:920花样/秒8×8binning,630花样/秒4×4binning;
––软件平台适用于Windows7操作系统
––显示器:24寸LCD显示器
1.8真空系统
––涡轮分子泵250l/sec和2个离子泵,两个无油机械泵;
––“穿过透镜”的压差真空系统,低真空模式下抽气区域不少于3个;
––样品室真空度:高真空模式下<6×10-4Pa,低真空模式下<10~130Pa,环境真空模式下<10~4000Pa
2.3场发射专用离子溅射仪(英国,用于场发射扫描电镜样品制备,要求镀层均匀,镀层颗粒小,可进行镀金和镀碳。)
––最大样品直径60mm,最大样品高度20mm;
––镀金速率:35nm/Min;
––电压0.4kV,最大溅射电流40mA,工作真空度7Pa;
––真空泵抽率135L/Min。
2.4 UPS电源(与电镜配套使用的原装进口美国山特UPS电源,保证不少于30min的供电)
–– 30 kV下不低于2.5 nm (BSE)*
–– 1 kV下不低于3.0 nm (SE)
2)低真空
–– 30 kV下不低于1.4 nm (SE)
–– 30 kV下不低于2.5 nm (BSE)
–– 3 kV下不低于3.0 nm (SE)
3)环境真空(ESEM) *
–– 30 kV下不低于1.4 nm (SE)
––EBSD与EDS形成一体化系统,使用单一软件界面,以便于材料的成分和晶体结构分析;
––花样采集速度≥930 patterns点/秒(8×8 binning);
––标定成功率,任何扫描速度下,用以多晶镍(Ni)为标样,测量>99%的标定成功率;
––取向精准度,任何扫描速度下,获得优于0.3度的取向精准度,并可同时给出数据可用性的量化指标。
––电子数字图像最大清晰度:8192×6400;
––全谱智能面分布图清晰度4096*4096,单探测器输出最大计数率大于600,000CPS,可处理最大计数率大于1,500,000CPS。
3)智能化能谱分析平台
––一体化集成用户界面,所有应用软件在同一个平台上打开,支持用户自定义模式及账户管理,支持中、英文等多种操作界面。
––样品室红外CCD相机
1.7图像处理器
––图像处理:最大4096×3536像素
––图像文件格式:TIFF(8位或16位),BMP或JPEG
––单窗口或四窗口图像显示,四活动窗口,实时或静态按彩色或按灰度等级信号混合。
––256帧平均或积分,数字动画记录
––基于以太网架构的数据传输系统;
––Intel双核控制和操作计算机系统,Windows 7操作系统;中央处理器:CPU:Intel酷睿i74.0GHz。内存:4G;独立显卡,2G显存;界接口:串行、并行、SCSI、USB 3.0接口、网络;硬盘1TB;DVD刻录;
2)软件、数据库系统
––数据库系统:配备足够专业的EBSD数据库,包括Bruker自有数据库、ICSD数据库(集成),并兼容所有主要的第三方数据库(ICDD、ICSD、AMCS、NIST等),支持用户自定义相数据库等功能;
––软件功能全面,用户界面直观易用、操作方便,至少应包含但不限于以下一些功能:无标样自动系统校准、花样质量分布图、极图和反极图、取向分布图、相图与相鉴定、数据的再处理;
––定性分析:可自动标识谱峰,可设定自动标定的元素范围,可进行谱重构,对重叠峰进行可视化谱峰剥离。
––定量分析:可对抛光表面或粗糙表面定量分析。采用定量修正技术,可对倾斜样品进行修正,并增强对轻元素的修正;具备有标样定量分析及无标样定量分析方法。
4)计算机及其附件部分
––计算机工作站,EDS与EBSD共用高级工作站系统,Intel Xeon E5-2609 (3.10 GHz, 6 MB cache, 4 cores)处理器,Windows 7 64-bit操作系统,16 GB内存,1 TB硬盘,SATA SuperMulti DVD读写光驱,24”TFT-LCD Monitor,Microsoft Office 2010办公软件(最低配置);
1.2放大倍数
––高真空模式下:14–1,000,000,连续可调
––放大倍数误差:≤3%
1.3电子光学
––高分辨肖特基场发射电子枪,具有自动对中和启动电子枪功能;在显示器中显示全部发射器参数的状态信息;灯丝寿命优于两年。
––加速电压:200 V - 30 kV,连续ห้องสมุดไป่ตู้调
––束流:最大200 nA并连续可调
––额定功率:20KVA;
––输入电压范围:210-475VV;输出电压范围:AC 220V(1±1%)V;
––输入频率范围:46-64Hz,输出频率范围:市电模式:46-54Hz/56-64Hz;
––电池电压:16pcs×12VDC,电源效率:达到90%;
––输入功因:>0.95,电流峰值比:3:1;输出功因:0.8。
––成像模式:二次电子像与背散射电子像,两者可以任意比率混合,自动调节和手动调节亮度、对比度。
1.4物镜光阑
––物镜光栏能自加热自清洁;无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑;
––光阑寿命优于两年。
1.5样品室
––样品台:4轴马达驱动,移动范围:X≥50mm;Y≥50mm;Z≥50mm;T:-5~+70°,R=360°连续旋转
––网络打印机:最大打印幅面:A4;打印速度:A4:达到14ppm;最高分辨率:600×600dpi;耗材类型:鼓粉一体;硒鼓寿命:2000页;首页打印时间:小于10秒;月打印负荷:达到5000页;进纸盒容量:150页手动进纸器;内存:2MB。
2.2电子束背散射衍射仪(EBSD)系统(可与EDS实现一体化)
––样品台移动重复精度:2um(X/Y方向)
––样品室尺寸:≥250mm;兼容性高,预留EDS、EBSD、波谱仪以及其他标准扩展接口。
1.6检测器
––高真空模式,E-T二次电子探头;
––低真空模式,大视场低真空气体二次电子探头(LFD)
––环境真空下模式,气体二次电子探头(GSED)
––高灵敏度,低电压固体背散射电子检测器
1.9冷却系统
––配有循环水冷却器
1.10其他配件或易损件
––配置相关配件或易损件(备用灯丝+光阑3套)。
2附件
2.1X射线能谱仪(EDS)
1)探测器
––探头类型:电制冷硅漂移(SDD)探测器,采用场效应管(FET)集成设计的高速SDD芯片,有效探测器面积≥30mm2
––能量分辨率:在100,000CPS条件下Mn Ka保证优于129eV,轻元素分辨率:C-K/57eV, F-K/67eV
可观察和检测非均相有机和无机材料样品的表面微观形貌观察及成分分析。它可以进行二次电子形貌分析和背散射电子衬度成像分析。能谱分析能够实现点分析、面分析、线扫描和面扫描,背散射电子衍射分析可以进行晶体取向成像、显微织构、晶界等分析。
1台
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场发射环境扫描电镜配置及技术规格表
附件1:货物需求一览表
项目
序号
设备名称
数量
交货地点
交货期
1
场发射环境扫描电镜
1台
河南理工大学指定地点
按合同要求
附件2:设备配置及技术规格表
序号
设备名称
技术参数
功能
要求
数量
1
场发射环境扫描电镜
仪器设备的主要技术参数
1主机
1.1分辨率
1)高真空
–– 30 kV下不低于1.0 nm (SE)
––单一处理单元能同时支持两个及多个探测器
––测定元素范围:4号元素硼Be到95号元素镅Am
––峰背比优于20000:1,谱峰稳定性:1,000cps到100,000cps,Mn Ka峰谱峰漂移小于1eV,48小时内峰位漂移小于1.5eV
2)能谱仪及图像系统
––能谱仪处理单元与计算机采用分立式设计,完整的能谱定性定量系统,带图像系统,能进行线面扫描;
1)EBSD探测器
–– EBSD探头,适用于场发射电镜的高速EBSD探测器,能与EDS硬件同时使用,高端的高灵敏度CCD相机,加速电压大于3kV,及束流大于500 pA时,可以采集到明显的衍射花样。30×25mm矩形荧光屏;花样像素分辨率:640×480×12位;花样采集速度:920花样/秒8×8binning,630花样/秒4×4binning;
––软件平台适用于Windows7操作系统
––显示器:24寸LCD显示器
1.8真空系统
––涡轮分子泵250l/sec和2个离子泵,两个无油机械泵;
––“穿过透镜”的压差真空系统,低真空模式下抽气区域不少于3个;
––样品室真空度:高真空模式下<6×10-4Pa,低真空模式下<10~130Pa,环境真空模式下<10~4000Pa
2.3场发射专用离子溅射仪(英国,用于场发射扫描电镜样品制备,要求镀层均匀,镀层颗粒小,可进行镀金和镀碳。)
––最大样品直径60mm,最大样品高度20mm;
––镀金速率:35nm/Min;
––电压0.4kV,最大溅射电流40mA,工作真空度7Pa;
––真空泵抽率135L/Min。
2.4 UPS电源(与电镜配套使用的原装进口美国山特UPS电源,保证不少于30min的供电)
–– 30 kV下不低于2.5 nm (BSE)*
–– 1 kV下不低于3.0 nm (SE)
2)低真空
–– 30 kV下不低于1.4 nm (SE)
–– 30 kV下不低于2.5 nm (BSE)
–– 3 kV下不低于3.0 nm (SE)
3)环境真空(ESEM) *
–– 30 kV下不低于1.4 nm (SE)
––EBSD与EDS形成一体化系统,使用单一软件界面,以便于材料的成分和晶体结构分析;
––花样采集速度≥930 patterns点/秒(8×8 binning);
––标定成功率,任何扫描速度下,用以多晶镍(Ni)为标样,测量>99%的标定成功率;
––取向精准度,任何扫描速度下,获得优于0.3度的取向精准度,并可同时给出数据可用性的量化指标。
––电子数字图像最大清晰度:8192×6400;
––全谱智能面分布图清晰度4096*4096,单探测器输出最大计数率大于600,000CPS,可处理最大计数率大于1,500,000CPS。
3)智能化能谱分析平台
––一体化集成用户界面,所有应用软件在同一个平台上打开,支持用户自定义模式及账户管理,支持中、英文等多种操作界面。
––样品室红外CCD相机
1.7图像处理器
––图像处理:最大4096×3536像素
––图像文件格式:TIFF(8位或16位),BMP或JPEG
––单窗口或四窗口图像显示,四活动窗口,实时或静态按彩色或按灰度等级信号混合。
––256帧平均或积分,数字动画记录
––基于以太网架构的数据传输系统;
––Intel双核控制和操作计算机系统,Windows 7操作系统;中央处理器:CPU:Intel酷睿i74.0GHz。内存:4G;独立显卡,2G显存;界接口:串行、并行、SCSI、USB 3.0接口、网络;硬盘1TB;DVD刻录;
2)软件、数据库系统
––数据库系统:配备足够专业的EBSD数据库,包括Bruker自有数据库、ICSD数据库(集成),并兼容所有主要的第三方数据库(ICDD、ICSD、AMCS、NIST等),支持用户自定义相数据库等功能;
––软件功能全面,用户界面直观易用、操作方便,至少应包含但不限于以下一些功能:无标样自动系统校准、花样质量分布图、极图和反极图、取向分布图、相图与相鉴定、数据的再处理;
––定性分析:可自动标识谱峰,可设定自动标定的元素范围,可进行谱重构,对重叠峰进行可视化谱峰剥离。
––定量分析:可对抛光表面或粗糙表面定量分析。采用定量修正技术,可对倾斜样品进行修正,并增强对轻元素的修正;具备有标样定量分析及无标样定量分析方法。
4)计算机及其附件部分
––计算机工作站,EDS与EBSD共用高级工作站系统,Intel Xeon E5-2609 (3.10 GHz, 6 MB cache, 4 cores)处理器,Windows 7 64-bit操作系统,16 GB内存,1 TB硬盘,SATA SuperMulti DVD读写光驱,24”TFT-LCD Monitor,Microsoft Office 2010办公软件(最低配置);
1.2放大倍数
––高真空模式下:14–1,000,000,连续可调
––放大倍数误差:≤3%
1.3电子光学
––高分辨肖特基场发射电子枪,具有自动对中和启动电子枪功能;在显示器中显示全部发射器参数的状态信息;灯丝寿命优于两年。
––加速电压:200 V - 30 kV,连续ห้องสมุดไป่ตู้调
––束流:最大200 nA并连续可调
––额定功率:20KVA;
––输入电压范围:210-475VV;输出电压范围:AC 220V(1±1%)V;
––输入频率范围:46-64Hz,输出频率范围:市电模式:46-54Hz/56-64Hz;
––电池电压:16pcs×12VDC,电源效率:达到90%;
––输入功因:>0.95,电流峰值比:3:1;输出功因:0.8。
––成像模式:二次电子像与背散射电子像,两者可以任意比率混合,自动调节和手动调节亮度、对比度。
1.4物镜光阑
––物镜光栏能自加热自清洁;无需拆卸镜筒即可更换物镜光阑;
––光阑寿命优于两年。
1.5样品室
––样品台:4轴马达驱动,移动范围:X≥50mm;Y≥50mm;Z≥50mm;T:-5~+70°,R=360°连续旋转