原子层沉积(ALD)操作说明介绍
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上一个沉积完成后继续做下一个原子层沉积Al2O3配方调控范例：
序号
类型
步数
数值（s）
1
Dose
2
0.040
2
Reaction
5.000
3
Purge
40.000
4Leabharlann Baidu
Dose
7
0.025
5
Reaction
5.000
6
Purge
40.000
7
Goto
1
50.000
8
End
3.编辑配方：--读取模式
Dose（0.02S）通入前驱体；沉积前编辑选择配方，读取；
配方编辑程序：
【Dose—Purge—Dose—Reaction—Purge—Goto—End】
注：1.正常只开泵、加热器，不关设备；
2.运行沉积过程中不可调配方页面；
3.看压力实时趋势—前驱体是否吹走来Purge时间；
4.压力0.2T（可通过调节流量计使其两端的MFCe与其匹配）；
5.可同时进行多样品沉积；
原子层沉积Al2O3配方调控范例：
序号
类型
步数
数值（s）
1
Dose
2
0.020
2
Purge
20.000
3
Dose
7
0.015
4
Reaction
5.000
5
Purge
20.000
6
Goto
1
300.000
7
End
原子层沉积
操作：
1.开机—gy01（不能手动/自动调节）
wh02（可手动/自动调节）
2.进入页面自动模式：打开泵、流量计、加热器—工艺参数配置全部打开—稳定之后—关闭泵、流量计，打开充气阀—关充气—（压力760T左右）—开腔体、放基底—关闭腔体、打开充气—关充气、打开泵、流量计—待稳定，开前驱体源阀，打开沉积【几个circle后，关闭Vg（配置页面）】—完成循环后，打开Vg。
序号
类型
步数
数值（s）
1
Dose
2
0.040
2
Reaction
5.000
3
Purge
40.000
4Leabharlann Baidu
Dose
7
0.025
5
Reaction
5.000
6
Purge
40.000
7
Goto
1
50.000
8
End
3.编辑配方：--读取模式
Dose（0.02S）通入前驱体；沉积前编辑选择配方，读取；
配方编辑程序：
【Dose—Purge—Dose—Reaction—Purge—Goto—End】
注：1.正常只开泵、加热器，不关设备；
2.运行沉积过程中不可调配方页面；
3.看压力实时趋势—前驱体是否吹走来Purge时间；
4.压力0.2T（可通过调节流量计使其两端的MFCe与其匹配）；
5.可同时进行多样品沉积；
原子层沉积Al2O3配方调控范例：
序号
类型
步数
数值（s）
1
Dose
2
0.020
2
Purge
20.000
3
Dose
7
0.015
4
Reaction
5.000
5
Purge
20.000
6
Goto
1
300.000
7
End
原子层沉积
操作：
1.开机—gy01（不能手动/自动调节）
wh02（可手动/自动调节）
2.进入页面自动模式：打开泵、流量计、加热器—工艺参数配置全部打开—稳定之后—关闭泵、流量计，打开充气阀—关充气—（压力760T左右）—开腔体、放基底—关闭腔体、打开充气—关充气、打开泵、流量计—待稳定，开前驱体源阀，打开沉积【几个circle后，关闭Vg（配置页面）】—完成循环后，打开Vg。