VD技术制程介绍PPT课件

離子濺射 Sputtering
冷卻 Substrate cooling
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放氣 Venting
出爐 Unloading
NLV-LH PVD廠 承制
2.3 防指紋烤漆流程圖 Anti-Fingerprint Painting Flow Chart
上治具 Racking
靜電除塵
Static dust-disposal
簽認金樣 Golden Sample Signature
製作1X5（or 3x3）限度樣板 Prepare 1x5 （or 3x3） Limit Range
1X5（or 3x3）限度樣板承認 1x5 Limit Range（or 3x3） Signature
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制程能力驗証
Process Capability Verification
etc……
製程能力分析
Process Capability Analysis
上挂 Racking
除蠟 Dewax
氧化 Oxidation
脫脂 Degrease
除蠟 Dewax
酸洗 Acid rinsing
純水洗 Pure water cleaning
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烘烤 Baking
下挂 Unracking
NLV-LH PVD廠 承制
2.2 真空鍍膜流程圖
Physical Vapor Deposition Flow Chart
自轉
旋轉方式 等離子監控儀
公轉
(PEM)
遮蔽系統
氣體流量控制器 (MFC)
氣體分壓控制器 ( OGC)
可靠度
殘余氣體分析儀 (RGA) 耐磨耗
附著力
膜厚 防靜電 光澤度 色差 防震動
濕度 溫度
硬度
潔淨度
裝夾系統
監控系統 檢測系統 環境
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5. PVD成色膜係 TiN, ZrN, HfN, 及這些金屬氮化物與Au的復 合膜係如TiN+Au
TiCN, ZrCN, CrAlN
單純的金屬膜Me, 及金屬的氮化物MeN如: CrN
TiC, TiAlN, SixNy, CrAlC, SUSC
金屬(Ti, Cr, Zr, Al, In)的氧化物形成的干涉膜
15 ห้องสมุดไป่ตู้有金屬的硼化物如: CeB6 , SmB6
6. PVD新色開發流程
PVD Color Development Flowchart
: 工件 : 工件的運動軌跡 Tn : 靶材 : 反應氣體 (N2, C2H2)
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T1 T2
3. PVD設備 Type 2: 單筒式鍍膜機
T3 T4
: 工件 : 工件的運動軌跡 Tn : 靶材
: 反應氣體
真空室前門
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SUCCESS
THANK YOU
2019/7/11
4. PVD技術魚骨圖
設備
PVD技術/制程簡介
• PVD原理介紹
Content
• PVD生產流程介紹
• PVD顏色介紹及開發系統
• PVD信賴性測試項目介紹
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1. PVD原理及特點
PVD(Physical Vapor Deposition)即物理氣相沉積技 朮﹐即在電場作用下形成的等離子體中, 塊體材料被濺射出來, 而沉積在工件表面, 形成一定厚度的薄膜.
基底材料
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PVD技術應用于金屬外殼之優點
1. 高金屬質感和艷麗飽滿的色彩效果 2. 優異的功能性(與基材的良好結合﹐高的硬度和耐磨
性等) 3. 底材選擇的多樣化(如不鏽鋼﹐鈦合金﹐甚至鋁合金) 4. 制程的良好的穩定性和再現性 5. 適應現代環保潮流
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2.1 不銹鋼產品PVD清洗流程圖 SS Product Cleaning Flow Chart
真空 系統
激發 系統
材料
制程
電流 電壓
電壓 電流
電控 系統
Ti Ni
偏壓電源 靶材
SUS 塑膠 Cr Zr
佔空比 膜系設計
濺射電源 流量 功率
氣路 分壓 位置
基材
O2 Ar
真空度
加熱 系統
Ti
气体 C2H2 N2
工件旋轉速度
鍍膜時間
材料 （SUS, Ti） 形狀 彈性 尺寸 挂具設計
可操作性 導電性
打靶
Target burnishing
清潔擋板 Shield cleaning
清潔轉架
Spindle fixture cleaning
清潔腔體
Chamber cleaning
輝光清洗 Glow discharge
抽氣 Vacuuming
裝工件 Parts loading
洗靶 Target cleaning
新色承認 New Color Approval
PVD新色承認 PVD New Color Approval Items
PVD新色承認
樣品製作
參數記錄
Sample Preparation Development Record
新色樣品標示 Sample Marking
顏色限度樣板 Color Limit Board
新色樣品 製作參數表 Sample Preparation
Record
顏色限度樣板 製作參數表 Limit Board Record
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性能測試 SPR Test
振動研磨測試 Vibration wear test
膜厚測試 Film thickness
硬度測試 Hardness 耐擦花測試 Rod-scratch test 鹽霧測試 Salt Mist test QUV耐候測試 QUV test
噴塗 Painting
進爐 Loading
出爐 Unloading
固化 Curing
流平 Levelling
冷卻 Substrate cooling
下治具 Unracking
全檢 Inspection
NLV-LH PVD廠 承制
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T1
T2
T3
T4
T5
T6
T7
T8
3. PVD設備 Type 1: 連續式鍍膜機
新專案/新色需求 New Project/Color Demand
收到目標色 Target Sample
測量色差和光澤 L, a, b & Gloss
顏色調試 Color Tuning
全套STR測試 STR Testing
顏色重復性驗証 Color Stable Verification
送候選金樣 Golden Sample
氣體離子 電子 濺射出的靶材粒子
靶材 工件
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第一步 氣體離化
Ar + e
能量
Argon 氣體團
Ar+ +2e
離子化
e¯ Ar
Ar+
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第二步 濺射
Ar+ + Ti
Power
Ti(Atom) +Ar+
接地
氣體離子 Ar+
靶材
被濺射出 的靶材粒
子
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第三步 反應成膜
Ar+ + N2 Ti + N
2N +Ar+ TiN