学习资料电镀铜工艺-专业介绍.ppt
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副反應
2Cu+ + 1/2O2 + 2H+ 2Cu2+ + H2O 2Cu+ + 2 H2O 2CuOH + 2H+
2Cu+ Cu2+ + Cu
Cu2O + H2O
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8
酸性鍍銅液各成分及特性簡介
酸性鍍銅液成分
— 硫酸銅(CuSO4.5H2O) — 硫酸 (H2SO4) — 氯離子(Cl-) — 添加劑
电镀铜工艺 专业介绍
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1
电镀铜工艺
铜的特性
– 铜,元素符号Cu,原子量63.5,密度8.89克/立方厘米,Cu2+的电化当 量1.186克/安时.
– 铜具有良好的导电性和良好的机械性能. – 铜容易活化,能够与其他金属镀层形成良好的金属--金属间键合
,从而获得镀层间的良好结合力.
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2
wenku.baidu.com
电镀铜工艺的功能
以保證在後工序波峰焊和熱風整平時,不至于固環氧樹脂 基材上銅鍍層的膨脹系數不同導致鍍銅層産生縱向斷裂 (環氧樹脂膨脹系數12.810-5 /℃ ,銅的膨脹系數0.68 10-5 /℃)
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5
对镀铜液的基本要求
(1)有良好的分散能力和深鍍能力,即使在很低的電流 密度下,也能得到均勻細致的鍍層,以保證在印制 板的板厚孔徑比較大時,仍能達Ts:Th接近1:1。
电镀铜工艺
– 在化学沉铜层上通过电解方法沉积金属铜,以提供足够的导电
性/厚度及防止导电电路出现发热和机械缺陷.
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3
电镀铜工艺的功能
电镀铜层的作用
– 作为孔的化学沉铜层的加厚层,通过全板镀铜达到厚度5-8微米, 称为加厚铜.
– 作为图形电镀锡或镍的底层,其厚度可达20-25微米,称为图形镀 铜.
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9
酸性鍍銅液各成分功能
— CuSO4.5H2O :主要作用是提供電鍍所需Cu2+及提高導電能力
— H2SO4
:主要作用是提高鍍液導電性能,提高通孔電鍍的均勻性。
— Cl-
:主要作用是幫助陽極溶解,協助改善銅的析出,結晶。
— 添加劑 :主要作用是改善均鍍和深鍍性能,改善鍍層結晶細密性。
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— 陽极膜本身對(Cu+--e→Cu2+)反應有催化、加速作用,從而 減少Cu+的積累。
— 陽极膜形成后能抑制Cu+的繼續產生 — 陽极膜的電導率為1.5X104 -1 cm-1具有金屬導電性 — 磷銅較純銅陽极化小(1A/dm2 P0.04-0.065%磷銅的陽极化
比無氧銅低50mv-80mv)不會導致陽极钝化。 — 陽极膜會使微小晶粒從陽級脫落的現象大大減少 — 陽极膜在一定程度上阻止了銅陽极的過快溶解
振幅 >200µm 振频 根据实际情况调节,一般振30s停20s
摆幅 5~6cm 摆频 10~12次/分
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— 空氣攪拌
無油壓縮空氣流量0.3-0.8m3 / min.m2 打氣管距槽底3-8cm,氣孔直徑2 mm孔間距80-130 mm。 孔中心線與垂直方向成45o角。
過濾
PP濾芯、5-10m過濾精度、流量2-5次循環/小時
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16
磷銅陽极的特色
当阳极电流密度0.4-1.5A/dm2时,阳极含磷量与黑膜 生成量成线性关系,当含P0.035%-0.0.75%时,阳极铜 的利用率最高,泥渣生成量最少。当P含量太低0.005% 以下,虽有黑膜生成但是太薄,不足以保护铜阳极, 当P含量太高时,黑 膜太厚,阳极溶解不好,阳极 泥 渣多,镀液中铜浓度下降,添加剂消耗增加。
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7
硫酸鹽酸性鍍銅的機理
電極反應
標准電極電位
陰極: Cu2+ +2e Cu 副反應 Cu2+ + e Cu+
Cu+ + e Cu 陽極: Cu -2e Cu2+
。 Cu2+ / Cu = +0.34V 。 Cu2+ / Cu + = +0.15V 。 Cu+ / Cu = +0.51V
Cu - e Cu+
(2)電流密度範圍寬,如在赫爾槽2A下,全板鍍層均勻 一致。
(3)鍍液穩定,便于維護,對雜質的容忍性高,對溫度 的容忍性高。
(4)鍍液對覆銅箔板無傷害
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6
电镀铜的原理
直流
整流器
ne-
ne-
+
-
阳极
电镀上铜层
离子交换
阴极 (受镀物件)
Cu Cu2+ + 2e- Cu2+ + 2e- Cu
镀槽
- 电镀液组成(H2O+CuSO4.5H2O+H2SO4+Cl +添加剂)
陽極
磷銅陽極、含磷0.04-0.065%
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為何不用電解銅或無氧銅作陽极???
銅粉多,陽极泥多。 鍍層易產生毛刺和粗糙。 銅离子濃度逐漸升高,難以控制。 添加劑消耗量大。 陽极利用率低。
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15
磷銅陽极的特色
通電后磷銅表面形成一層黑色(或棕黑)的薄膜
黑色(或棕黑色)薄膜為Cu3P又稱磷銅陽极膜 磷銅陽极膜的作用
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4
对铜镀层的基本要求
(1)鍍層均勻、細致、平整、無麻點、無針孔,有良好外 觀的光亮或半光亮鍍層。
(2)鍍層厚度均勻,板面鍍層厚度與孔壁鍍層厚度之比接 近1:1。
(3)鍍層與銅基體結合牢固,在鍍後和後續工序的加工過程 中,不會出現起泡、起皮等現象。
(4)鍍層導電性好 (5)鍍層柔軟性好,延伸率不低于10%,抗張強度20-50Kg/mm2,
濃度太高,導致陽極鈍化,鍍層失去光澤。
— 添加劑 :(後面專題介紹)
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操作條件對酸性鍍銅效果的影響
溫度
— 溫度升高,電極反應速度加快,允許電流密度提高,鍍層沉 積速度加快,但加速添加劑分解會增加添加劑消耗,鍍層結 晶粗糙,亮度降低。
— 溫度降低,允許電流密度降低。高電流區容易燒焦。防止鍍 液升溫過高方法:鍍液負荷不大于0.2A/L,選擇導電性能優 良的挂具,減少電能損耗。配合冷水機,控制鍍液溫度。
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酸性鍍銅液中各成分含量對電鍍效果的影響
— CuSO4.5H2O :濃度太低,高電流區鍍層易燒焦; 濃度太高,鍍液分散能力會降低。
— H2SO4
:濃度太低,溶液導電性差,鍍液分散能力差。 濃度太高,降低Cu2+的遷移率,電流效率反而降低,並對銅
鍍層的延伸率不利。
— Cl-
:濃度太低,鍍層出現台階狀的粗糙鍍層,易出現針孔和燒焦;
電流密度
— 提高電流密度,可以提高鍍層沉積速率,但應注意其鍍層 厚度分布變差。
攪拌
— 陰極移動:陰極移動是通過陰極杆的往複運動來實現 工件的移動。移動方向與陽極成一定角度。陰極移動振幅 50-75mm,移動頻率10-15次/分
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振动与摆动
振动与摆动的主要作用是降低diffusion layer的厚度 (增大表面张力),赶走孔内的气泡,加速孔内镀液 的补充与更新,提升镀件品质。