常见扩散方阻异常分析

P扩散不充分，方阻偏高，且气流速度
加
快，片内均匀性较差；
排废过小：管内杂质源浓度相对偏高， P扩散过饱和，方阻偏低。
温度、时间
温度时间共同决定着结深，温度越高，
气体流量
大氮：整个扩散反应过程中的保护气体， 它的变化将会导致炉管内温度以及气氛 场强发生变化。大氮流量偏小导致气氛 压强偏小，源浓度从炉尾到炉口呈梯度 降低，炉尾到炉口方阻梯度升高；大氮 偏高可能导致杂质源反应不充分，方阻 偏高；同时大氮偏高导致气氛压强偏大， 源浓度从炉口到炉尾呈梯度升高，炉尾 到炉口方阻梯度降低。
工作范文，仅供参考！
如需使用，请下载后根据自己的实际情况，更改后使用！
超净扩散方阻异常分析
摘要
方阻的影响因素 a.排废 b.温度、时间 c.气体流量
方阻偏高 a.整组偏高 b.单点偏高
排废
排废的变化对管内温度、气流、杂质源 均有影响，但主要影响杂质源浓度。
排废过大：管内杂质源浓度降低，硅片
小氮：小氮是携带杂质源的重要气体，
管内反应 的小氮偏
小
气体未能 通入炉管
内反应
杂质源未 能Fra Baidu bibliotek入炉
管反应
液位以上源 温度低影响 小氮携带
小氮携带 的源浓度
偏低
PS：大氮对方阻的影响暂时不确定需实验来验证
END THANKS