电子封装工艺设备
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芯片键合设备
主要组成部分: ①承片台:承载着芯片的蓝膜框架,驱动其在XY两个方向运动以便取芯。 ②点胶系统:涂覆黏合剂,分点蘸式和喷涂式。 ③键合头:完成芯片的拾取和放置,分摆臂式和直线式。 ④视觉系统:由光路、照明和摄像头组成。用于芯片自动定位。 ⑤物料传输系统:负责料条(引线框架或PCB基板)的自动操作。 ⑥上/下机箱及基座:固定支撑设备以及容纳电系控制系统和其他附件。
纵向切入:将旋转的 研削磨轮自上而下地 切入自旋的被加工物, 并研削加工至规定厚 度尺寸的研削方法。
晶圆减薄机关键零部件
⑴承片台 ⑵分度工作台 ⑶空气静压电主轴 ⑷磨轮进给系统 ⑸折臂机械手
研磨应力去除技术
化学机械式抛光(CMP) 湿式化学腐蚀(wet etching) 干式腐蚀(dry etching)
③视觉系统:由光路、照明和摄像头组成。用于芯片自动定位和焊后检查。 ④物料传输系统:负责料条(引线框架或PCB基板)的自动操作。 ⑤上/下机箱及基座:固定支撑设备以及容纳电系控制系统和其他附件。
引线键合机
引线键合主要工艺参数:
主要完成: 1,电气测试 2,参数测试
探针测试台的分类
探针测 试台
手动探针 用于各种半导体器件芯片的电能参数测试,用 手动控制进行器件特性分析和工艺验证分析。
半自动/自动 在人工完成第一个芯片对准后,按程序实现
探针
晶圆上所有芯片测试功能的测试设备。
主要包括:
1,X-Y向工作台 2,可编程承片台 3,探针卡/探针卡支架 4,打点器、探边器 5,操作手柄 6,与测试仪相连的通信接口
②干式激光划片机
砂轮式划片具固有的划切道宽度问题,激光划片机大大减小其宽度。
③微水导激光划片机
主要优势:消除热影响区。
微水导激光基本原理
传统激光总会有能量残
留在划切道上,该能量的累 积和传导是造成热损伤的主 要原因。
而微水导激光因水柱的
作用,将每个脉冲残留的热 量迅速带走,不会积累在工 件上。
先进分 装技术
叠层封 装技术
Hale Waihona Puke Baidu
3D系统 集成
系统级 封装
晶圆处理工艺设备
晶圆减薄 晶圆测试 晶圆划片
晶圆测试工艺设备
晶圆测试技术:
晶圆上芯片的探针测试,确定其功能与性能;是制造工艺中降低成本 的一种手段。
前道制芯工艺
探针测试台
晶圆背面磨 削减薄
晶圆探针测试台
即探针台,用来测 试晶圆上每个芯片 电路特性的。 通过探针卡实现芯 片上每个焊区与测 试仪的稳定连接, 由测试仪判定芯片 的好坏。
IC发展的历程及其封装形式
微机电系统 (MEMS/MOEMS) 系统封装(Sip/Sop) 先进HIS
MOS型
厚膜IC
膜IC (无源) 薄膜IC
小规模IC
IC
(SSI)
中规模IC (MSI)
混合IC (HLC)
QFP BGA CSP FC
有源半 导体IC
双 极 型
大规模IC (LSI)
超大规模 IC(VLSI)
主要内容
封装工艺与设备的关系
电子产品封装概述
集成 电路
高密 度封 装
电子 整机 性能
产品 的封 装技 术
半导体封装技术
半导体封装技术发展的5个阶段:
封装技术
将一个或多个芯片有 效和可靠地封装互连 起来,以达到:
1,提供给芯片电流 通路; 2,引入或引出芯片 上的信号; 3,导出芯片工作时 产生的热量; 4,保护和支撑芯片, 防止恶劣环境对它的 影响。
特大规模 IC(ULSI)
MCM/ MCP 3D
系统级芯片 (SoC)
封装工艺与设备
封装 技术
工艺 设备
封装 工艺
先进的封装设备和制造 工艺是密不可分的,没 有设备的工艺无疑是之 上谈兵,没有工艺的设 备则必然是无源之水。 设备与工艺要紧密结合 在一起。
促进
工艺
决定
设备
先进封装技术
片式元 件
晶圆级 封装
芯片键合机
芯片键合机的关键技术 是:整机运动控制、点 浆、芯片拾取机构以及 图像识别系统。 芯片键合设备的关键在 于高速、精确、可靠地 拾取和放置芯片。键合 头运动的精度和速度是 保证设备精度、可靠性、 一致性和效率的关键。
引线键合技术
互连工艺确立芯片和外部的电气连接。半导体内部的互连方式分为引线连接 和非引线连接两种。
(surface grinding on a rotary table)
D≤100mm,工作台4旋转做圆周 进给运动。
②晶圆自旋转磨削
(wafer rotating grinding)
晶圆和磨轮绕各自的 轴回旋,磨轮垂直向 下进行纵向切入磨削。
磨轮进给系统向下运 动的速度越小,对未 加工材料破坏越小。
CJ-5型双电测四探针测试仪
晶圆减薄工艺设备
主要方式:
磨削、研磨、化学机械抛光(CMP)、干式抛光(dry polishing)、电化学腐蚀 (electrochemical etching)、湿法腐蚀(wet etching)、等离子辅助化学腐蚀 (PACE)、常压等离子腐蚀(ADPE)
①旋转工作台磨削
芯片互连工艺设备
芯片 键合
芯片
互连 载带
引线
自动
键合
芯片键合技术
将芯片安装固定在封装基板或外壳上,常用的键合材料包括导电环氧树脂、金 属焊料等。分共晶键合和黏合剂键合两种方式。
共晶键合:涂敷共晶键合材料,加热、加压,并 驱动芯片往复摩擦。
黏合剂键合:涂布黏合剂,然后放置芯片,在烘 箱中加热固化,形成键合界面。
干式抛光(dry polishing)
目的:
去除研磨后的变质层, 使芯片的强度得到提高。
晶圆划片工艺设备
划切刃具支撑(金刚刀支架、主轴或激光器)、Z向划切深度控制、Y向分度 定位、X向划切进给以及θ向平行调整。具备四维基本运动。
①砂轮划片机
X轴:带动被划材料快速 进入开槽划片运动。 Y轴:带动空气空气主轴 准确送进所需划切槽距。 Z轴:主轴升降,实现所 需的开槽和划片深度。 θ轴:实现所需划切角度。
引线连接即引线键合(wire bonding) 非引线连接分为载带自动键合(TAB)与倒装芯片(FC)两种。
TAB
WB
FC
引线键合设备
主要组成部分: ①XY工作台:提供形成复杂线弧形状所需的键合面内的高速精度运动。 ②键合头:提供键合过程中垂直于键合面的运动,同时承载超声波换能器、
线夹、电子打火杆等小构件。