真空镀膜设备操作培训

关机 流程
百级间禁止上片
镀膜腔体夹具全 部走完后开始停 机，传动设为手
动模式
生产模式转保压 模式；关靶、关 气、加热器设为
0℃
分子泵降速停机， 约20min;期间可 以松开箱体门螺 丝，门把手位置 留1颗螺丝扣住
待所有泵组停止， 确认门螺丝松开， 保压模式转放气
模式
关闭冷却水系统； 关闭换靶位置阴
极冷却水阀
4. 镀膜室：真空镀膜设备中实施实际镀膜过程的部件。 5. 溅射装置：包括靶和溅射所必要的辅助装置(例如供电装置,气体导入装置等
)在内的真空溅射设备的部件。 6. 靶材：母材，用来制取膜层的原材料。 7. 挡板：用来在时间上和(或)空间上限制镀膜并借此能达到一定膜厚分布的装
置；挡板可以是固定的也可以是活动的。 8. 基片架：可直接夹持基片的装置,别称夹具或治具,基片安装方式分平放、立
真空镀膜设备操作培训
一、名词解释 二、开关机流程 三、镀膜主控界面说明
一、名词解释
1. 真空溅射：在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子 团的过程。
2. 物理气相沉积：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉 积到基片上的一种制取膜层的方法。
3. 磁控溅射：借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特 定区域，来增强电离效率，增加离子密度和能量，因而可在低电压，大电流 下取得很高溅射速率。
关闭分子泵空气 开关；开始保养
作业
三、镀膜主控界面说明(总貌画面）
三、镀膜主控界面说明(生产参数表）
三、镀膜主控界面说明(加热参数表）
三、镀膜主控界面说明(工艺参数表）
三、镀膜主控界面说明(分子泵分布）
三、镀膜主控界面说明(报警记录）
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报告完毕
13.冷却装置：在真空镀膜设备中,通过冷却能使一个基片或几个基片达到理想温 度的装置。
14.连续镀膜设备：被镀膜物件（单件或带材）连续地从大气压经过压力梯段进 入到一个或数个镀膜室，再经过相应的压力梯段，继续离开设备的连续式镀 膜设备。
15.真空泵：抽除气体，能使腔体达到设计的真空度。 16.阴极：靶材安装位置，兼工艺布气管入口。 17.阳极：非阴极区域。 18.工艺气体：镀膜所需冲入气体，常用的有氩气、氮气、氧气。 19.真空度：低于一个标准大气压。
放，立式放置一般通过弹片、夹扣固定基片。 9. 基片：膜层承受体。 10.试验基片（工艺片）：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和
（或）试验的基片。 11.沉积速率：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间和基片表
面积。
一、名词解释
12.加热装置：在真空镀膜设备中,通过加热能使一个基片或几个基片达到理想温 度的装置。
二、开关机流程
开机 流程
确认设备检修 完成、检查箱 门擦拭干净， 门关闭OK(门 螺丝用工具使 用5成力扭紧）
开冷却水、检 查主控面板有 无异常报警
生产参数确定：
开门压差15pa;
分子泵启动 10pa；罗茨泵
启动500pa
泵组电控柜分 子泵开关打开， 操作面板分子
泵设定使能
设定正常自检 （“取消自检”
显示绿色）
真空模式转抽 气模式，百度文库泵 组模式切换使
能
设备自检后自 动抽气，如有 问题处理不了，
通知设备
正常罗茨泵抽
气时间＜30分 钟，真空度到 达10pa，分子 泵启动；启动
完成，提示转 生产模式
泵组切换使能， 抽气转换成生 产模式；门螺 丝用工具使用 5成力再次扭
紧。
检漏 升温 降温
工艺调试（本
底真空＜5E-3； 布气，2.5kw 轰靶0.5H）~ 试投~生产