多弧靶真空电弧稳定性的影响因素

多弧靶真空电弧稳定性的影响因素

多弧离子镀膜是近十年来发展最为迅速的真空镀膜技术之一。这项技术从发展初始，遇到的关键问题是作为该技术核心的阴极弧源的设计、制造及工作稳定性问题。对于真空电弧镀膜设备的设计人员和使用者来说，电弧源工作稳定性至为重要，这是获得优质膜层的基本保证。本文就电弧源工作稳定性问题加以讨论，探讨电弧源维持正常放电影响因素。

对多弧靶真空电弧的稳定性问题，许多科技工作者已避行了大量的试验研究工作-发表过许多论文，提出了一些提高电弧燃烧稳定性办法。

通过大量的实验研究发现，多弧靶电弧放电的稳定性与许多因素有关。影响效果最显著的是磁场对电弧燃烧稳定性的影响；同时阴极表面的清洁程度、阴极靶面的几何尺寸、几何形状及表面状态、阴极靶面的表面温度、电弧电流的大小、真空室内真空度及环境气氛种类等对多弧靶电弧燃烧的稳定性都有不同程度的影响。