Essential Macleod光学薄膜软件简要使用说明课件

优化 （Refinement）
Essential Macleod 提供了 Optimac 、非线性 纯化法（ Nonlinear Simplex ） 、模拟退火法 （ Simulated Annealing ） 等优化方法。在一般条件下， OptiMac 功能强大，推荐使用这种优化法；而 Simplex 则较为快速和稳定；作为一种统计型方法， Simulated Annealing 在阻抗型的情况里会很有效，但相对耗时。在 优化的工程中，我们可以锁定（Lock）某些膜层，使其厚 度无法改变。 Linking可以步骤式改变厚度。优化目标可 以以需计算的性能参数来定义，例如：颜色，波长（或频 率）、入射角、以及公差。对象连接使得更加复杂的优化 功能得以实现。对于不同波长和不同入射角的情况而言， 目标发生器可协助创建多目标。
性能计算
Essential Macleod 提供了一套完备的性能计 算功能。除了一般反射和透射计算外，还包括：密度﹑吸 收率﹑椭偏参数﹑超快参数 ( 群时延 ﹑群时延色散﹑三 阶色散 ) 和光的色散，此外，也可以应用于色彩计算。 公差计算可使用户判定厚度微小变化对设计影响。
分析工具
分析工具包括导纳图标法、环性（反射系数）图标法、 电场图法。电场图计算绝对的电场幅度，提供了几个膜层 能量吸收的比较信息，因此评估有关的可能损失，或者同 一膜层在不同波长下的能量吸收。导纳轨迹法以及环形图 法则可帮使用者了解设计是如何进行的， 通过导纳或者 复振幅系数的从系统中的后层到前层的转换，这种方法将 不同膜层的作用转换至一层单层膜，由此可以被视做一套 完整的直观记录方法。
及分析软件。
软件特点
• 使用简便： 常见的用户界面；广泛的使用剪贴板；高质 量曲线；真正的多文档界面；
• 用户自定义单位：任意定义波长、频率、厚度、时间的单 位；
• 逆向工程：n、k值导出；非均匀性和吸收，堆砌密度的变 化；固定缩放比例；灵活的限制性优化。
• 优化及合成：Optimac法；Simplex法；模拟退火法； • 目标：对包括颜色的所有的参数确定目标清单；从外部源
合成（synthesis）
Optimac 技术也可以在合成模块里操作，为 了达到需要的规格在设计时它可以增加或者移走膜层。合 成也可用于改善现有的设计，或者从一个材料清单和规格 里产生设计。 Optimac是可存档的。它记录优化设计的完 整历史，从而允许在膜系的性能和复杂性间寻找平衡点。
逆向工程
n、k值导出
虽然 Essential Macleod 提供了一套完整的材 料数据库，但是通常对于某一特定的镀膜厂家，数据库中 材料的光学参数同实际薄膜的参数不尽相同的。 针对这 种情况，根据分光光度计对测试薄膜的折射率和透射率的 测量结果， N&K 导出法可方便地导出 n 与 k 的值。这 里采用的包络线方法十分稳定。这种方法采用“全透射”， “全反射”或者透射和反射的数据。根据得到的数据，可 以检测出膜层的非均匀性，吸eod提供一个多样化的工具支持 设计过程. 编辑工具使设计操作更容易。这些工具包括： 膜层逆转、材料替换、公式设计、膜厚缩放比例、匹配的 角度，不邻近膜层的剪切、拷贝和粘贴。强大的工具编辑 提供必要的规格、材料数据、表格和图表。
设计工具还包括透射滤光器设计、非极性化边 缘滤光器和平衡膜层（Herpin）参数的计算。透射滤光器 工具计算对指定的金属膜可能的透射率和相应1/4波长非 导电性介质膜的滤光的厚度要求。它也可以用在简单的测 量特殊吸收材料在规定厚度的最大透光率。非极性化边缘 滤光器工具创建一个五层两种材料的对称结构的初始设计， 最外的膜层随后能被优化成相配的滤光设计。
Essential Macleod光学薄膜设 计与分析软件简要使用说明
利方达有限公司
系统需要
• 完全与Microsoft® Windows® 操作系统兼容， • Pentium 处理器 • 建议硬盘空间： 20-25Mb • 内存：128Mb
软件介绍
Essential Macleod 核心麦克劳德是一套完备 的光学薄膜分析与设计的软件包，它能在微软视窗操作系 统下运行， 并且具有真正的多文档操作界面。它能满足 光学镀膜设计中的各种要求。既可以从头开始设计，也可 以优化已有的设计；可以观测在设计生产中的误差，也可 以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计
输入目标数据；链接； • 分析和设计工具：导纳图表；反射系数图表；绝对电场幅
度图；非极化边缘滤波片设计工具；对称平衡层（Herpin） 计算；
软件特点
• 性能计算：反射系数；透射系数；反射相位；透射相位； 密度；偏振角，偏振相位；群时延；群时延色散；三价色 散；一价、二价、三价导数。公差同波长、频率、入射角、 膜厚关系函数；
• 颜色：在Tristimulus、Chromaticity、CIE L*a*b*、CIE L*u*v*、Hunter Lab系统下计算。用户可定义的光源；用 户可定义的观测；
• 材料：提供标准的材料数据库；多数据库，如：不同的温 度、镀膜机、不同的项目、不同的客户、不同的系统；材 料数据容易输入；数据图标显示；强大的编辑器；
Essential Macleod 可对在制造过程中生成的 误差提供鉴定支持；这方面支持是通过单一优化法的改进 而达到的。单一优化法可对折射率和厚度进行优化。通过 各种方式对不同方面的约束，分析找出制造过程中的误差 和其他问题。这些约束条件可以逐渐改变或者取消，以得 到最后的解决方案，并确定可能误差的性质和大小。而折 射率的变化是由堆砌密度改变来表征。
用户定义单位
单位是用户经常碰到的一个问题，但是在 Essential Macleod 不是问题，单位可自定义选择。如： 频率可以采用电子伏特、千兆赫、波数；波长可选埃、纳 米、微米甚至微英寸。
颜色计算
• 颜色计算提供最通用的颜色空间： • Tristimulus • Chromaticity • CIE L*a*b* • CIE L*u*v* • Hunter Lab • 光源的挑选可根据需要预先定义。 CIE 1931 和 1964颜