镀膜技术介绍参考幻灯片
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薄膜制备方法
真空蒸发镀膜
真空蒸发镀膜法是在 真空室中,加热蒸发 容器中待形成薄膜的 原材料,使其原子或 分子从表面气化逸出, 形成蒸气流,入射到 基片表面,凝结形成 固态薄膜的方法。
电阻式蒸发镀膜
蒸发源
• 蒸发源是真空蒸发镀膜机的关键部件,根据蒸发源 的不同可将真空蒸发镀膜分为以下几种:
蒸发源 优点
IAD可以在镀膜前对基片进行清洗,清除表面污渍。 也可以在电子束蒸镀的同时,使用离子源辅助沉积。 这可以清除结合力较弱的粒子,增加密度、降低内应 力,改善薄膜生长。
真空离子镀
1.当真空室抽至10-4Pa 的高真空后,通入 惰性气体(如氩),使真空度达到1-10-1 Pa 。 2.接通高压电源,则在蒸发源与基片之间 建立起一个低压气体放电的等离子区。 3.加热膜材,蒸汽离子受到等离子体中电 子和正离子的碰撞,一部分被电离成正离 子,在电场作用下吸附到基片上成膜。 4.成膜过程始终伴随着正离子(气体或膜 材)对基片的溅射,因此,只有当沉积作 用大于溅射剥离时才能制备薄膜。
真空镀膜调研
真空镀膜
• 真空镀膜:在真空中把金属、合金或化合物进行 蒸发(或溅射),使其沉积在被涂覆的物体(称 基片、基板或基体)上的方法。
• 真空镀膜亦称干式镀膜,与传统的湿法镀膜相比 具有如下特点:
– 真空制备、环境清洁,膜层不易受污染,致密性好、 纯度高、膜厚均匀。
– 膜与基体附着力好,膜层牢固。 – 不产生废液,避免环境污染。
离子体。
4.多孔栅极产生加速电场。 5.离子被加速电场引出约束, 增加离化率。
7.中和钨丝产生电子。 8.中和电子对引出离子中和形
成等离子体。
霍尔离子源
1.阴极钨丝发射热电子向阳极迁移。 2.电子与气体原子碰撞使其离化。 3.磁场中电子形成霍耳电流产生电场。 4.离子被霍耳电场加速引出、加速。 5.阴极热电子对引出离子中和形成等离子体。
真空离子镀特点
优点
(1)膜层附着力强。 (2)膜层组织致密,耐蚀性好。 (3)具有绕镀性能,能够在形状复杂的零件表面镀膜。 (4) 成膜速率高,可与蒸发镀膜的速率相当;且可镀厚膜 (达30m)。
少。
电子枪造价较 高.
所镀膜材熔点 不高,膜层质 量不高,电阻 丝寿命有限。
蒸发装置必须 屏蔽,需要高 频发射器。
打功率激光器价格昂 贵。
电阻式蒸发镀膜
电阻式蒸发镀膜
采用钽、钼、钨等高熔
点金属,做成适当形状
的蒸发源,其上装入待
蒸发材料,让电流通过,
对蒸发材料进行直接加
热蒸发,或者把待蒸发 材料放入Al2O3、BeO 等坩埚中进行间接加热 蒸发 。
2nm/s,而溅射速率为0.01~0.04nm/s;
王英剑, 李庆国, 范正修. 电子束, 离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(9): 841-844.
考夫曼离子源
1.阴极灯丝加热发射热电子。 2.电子与气体原子或分子碰撞。 3.气体电离,在放电室形成等
缺点
电子束加 热式
电子枪
电阻加热 感应加热
式
热
加热电阻 高频螺旋线圈
激光加热式
大功率激光器
可蒸镀高熔点 膜材,蒸发速 率快,膜材不 受容器污染, 可蒸镀高纯度
薄膜。
结构简单、造 价便宜、适合 大批量生产。
蒸发速率大( 电阻式10倍) ,温度均匀。
可蒸发高熔点面膜材 ,激光器只能装在真 空室外,对薄膜污染
膜厚理论
通常将能够从各个方向蒸 发等量材料的微小球状蒸 发源称为点蒸发源(简称 点源)。 假设膜材以每秒m克的蒸 发速率想各个方向蒸发, 在单位时间内凝结到面 dS2上的膜厚t:
t m cos 4 r 2
:蒸发材料的密度
t:单位时间膜厚
点蒸发源
膜厚理论
面蒸发源
如果蒸发源是小平面, 按照余弦定律,膜材 在单位时间膜厚t为:
真空溅射镀膜
所谓“溅射”就是用荷能离子(通常是气体正离 子)轰击物体,从而引起物体表面原子从母体中 逸出的现象。射出的粒子大多呈原子状态,常称 为溅射原子。 用于轰击靶的荷能粒子可以是电子、离子或中性 粒子,由于离子在电场下易于加速并获得所需动 能,因此大多采用离子作为轰击粒子。
真空溅射镀膜
与真空蒸发镀膜相比,溅射镀膜有如下的优点: (1)溅射膜与基板之间的附着性好(10~100ev)。 (2)溅射镀膜膜层致密,针孔少,且膜层的纯度较高。 (3)相比于电子束蒸镀,溅射镀膜层更加光滑。 缺点: (1)溅射设备复杂、需要高压装置; (2)溅射淀积的成膜速度低,真空蒸镀淀积速率为1~
t m cos cos r2
但是,在实际过程中蒸发源 并不是理想的点源或面源,
用cosn [1]来描述实际的蒸
发源更加准确。
t
m
cosn cos
r2
[1]温才, 令勇洲, 李文俊, 等. 真空蒸镀氟化镁增透膜的厚度与均匀性控制[J]. 材料导报, 2013, 26(22): 5-9.
真空蒸发镀膜
电子束蒸发镀膜
1.电子枪灯丝是损耗零件, 需定期更换。 2. e型电子枪工作需要一定 的真空条件,工作真空度 ≤6×10-2~2×10-2。 3. e型电子枪真个枪头均放 置在散热较差的真空室中, 特别是电子枪常常用来加热 一些高熔点的金属,因此电 子枪的散热问题尤为重要。 电子枪水冷主要是冷却坩埚、 散射电子吸收极及磁极等部 分。
真空蒸发镀膜最大的特点是成膜速度快、蒸镀面 积大。但是,由于热蒸发的粒子能量低(0.1~1ev ),膜层附着力差、容易脱膜,薄膜堆栈密度不 高、致密性差,膜层表面粗糙,折射率降低[1]。
[1]王英剑, 李庆国, 范正修. 电子束, 离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响[J]. 强激光与粒子束, 2003, 15(9): 841-844.
离子源对比
离子源
考夫曼离子 源
电子束
聚焦
能量
200~3000
优点
缺点
高能小束流 辐射区较小 能量调节宽 均匀性差
霍尔离子源 发散
20~200
低能大束流 能量低 辐射区大 能量范围小 均匀性较好
离子束辅助沉积(IAD)
由于直接用离子源进行镀膜,成膜速度太慢。目前, 对于离子源的使用,多将其作为辅源用于离子束辅助 沉积(IAD),配合电子束进行快速蒸镀。