硕士研究生开题报告ppt课件

目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件
1、伪刚体法 从传统刚性机构出发，将传统刚性机构运动副采用柔顺机构中相应的运动副进行替代，得到可以实
Shoup T E, McLarnan C W. A survey of flexible link mechanisms having lower pairs [J]. Journal of Mechanisms, 1971, 6(1): 97-105.
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粗找平装置
柔性平台
范细秋, 张鸿海, 胡晓峰, 贾可, 刘胜. 宽范围高对准精度纳米压印样机的研制 [J]. 中国机械工程, 2005, 16(z1): 64-67.
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基片 承片台
模板
负载
偏移
初始状态
最终状态
五自由度平台
六自由度平台
Lee J J, Choi K B, Kim G H. Design and analysis of the single-step nanoimprinting lithography equipment for sub100 nm linewidth [J]. Current Applied Physics, 2006, 6(6): 1007-1011. Lee J J, Choi K B, Kim G H, Lee S W, Cho H T. The UV-Nanoimprint Lithography with Multi-head Nanoimprinting Unit for Sub-50nm Half-pitch Patterns; proceedings of the SICE-ICASE, [C] 2006 International Joint Conference, F, 2007.
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目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件
一套纳米压印光刻设备包含：下压机构、承片台、精密定位系统、紫外光源等结构。其中，用于调 整承片台的精密定位系统是影响纳米压印光刻设备压印精度的关键技术之一。它可以用于实现模板、基 片间的均匀接触，并且保证两者之间的定位精度。
由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像等设 备的成本，因此，纳米压印光刻技术具有低成本、高 产出等经济优势。广泛应用于纳米电子元件、生物或 化学的硅片实验室、微流道装置，超高存储密度磁盘、 微光学元件等领域。
目前，纳米压印光刻技术已经可以制作线宽在2nm 以下的图案，超过了传统光刻技术达到的分辨率。
1、压印技术
压印技术是把一个刻有凹凸图案的印章盖在橡皮泥上， 然后再其上面留下与章相反的图案。
图章 活字印刷术
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目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件
2、纳米压印技术
纳米压印技术是一种利用“图章”转印，实现批量纳米图形 复制的方法。在1995年由华裔科学家周郁最先提出，其原理是将 一个具有纳米图案的模板以机械力（高温、高压）在涂有高分子 材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案。并在1997年时利用该 技术首次实现图案特征小于10nm图形的压印制作，为后期纳米压 印技术奠定了基础。
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目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件
严乐, 卢秉恒, 丁玉成, 刘红忠, 李寒松. 冷压印光刻工艺精密定位工作台的研制 [J]. 中国机械工程, 2004, 15(1): 75-78. Harrer S, Yang J K W, Salvatore G A, Berggren K K, Ilievski F, Ross C A. Pattern Generation by Using Multistep Room-Temperature Nanoimprint Lithography [J]. IEEE Transactions on Nanotechnology, 2007, 6(6): 639-644.
相比较于紫外光刻、电子束光刻，纳米压印技术加工分辨率 只与模版图案的尺寸有关，而不受光学光刻的最短曝光波长的物 理限制。具有操作简单、极限分辨率高、重复性好等特点，并且在2003年底被国际半导体蓝图机构规划 为下一代光刻工艺的关键技术。
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ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
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目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件
纳米压印光刻设备 空间柔顺精密定位系统研究
开题报告
目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件
目录 CONTENT
1 研究现状和发展趋势 2 研究目的与意义 3 研究内容
4 研究方法 5 研究方案 6 研究基础及条件
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目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件
柔性环
模板
真空卡盘
承片台
Choi B J, Sreenivasan S V, Johnson S, Colburn M, Wilson C G. Design of orientation stages for step and flash imprint lithography [J]. Precision Engineering, 2001, 25(3): 192-199.
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目录/研究现状和发展趋势/目的与意义/内容/方法与方案/基础与条件
柔顺机构是一种依靠构件本身部分或全部弹性变形来传递运动、力和能量的机构，最早由Shoup和 McLarnan两位学者在1971年提出，所得到机构如图所示，将平面多杆机构中的某根杆件用柔性杆替代， 得到具有柔性变形能力的柔顺机构。