第十章 表面分析

合集下载

表面分析

表面分析

样品的制备 离子束溅射技术
样品的制备
XPS-基本原理
XPS分析方法的基础是精确测定样品中束缚电 子的结合能值,以获得样品中的元素及其化学状 态的信息。 Note: X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS), also known as Electron Spectroscopy for Chemical Analysis (ESCA) is a widely used technique to investigate the chemical composition of surfaces.
XPS-基本原理 四个量子数的物理意义: 原子中单个电子的运动状态可以用量子数n,l,ml,ms来描述。 n为主量子数,每个电子的能量主要取决于主量子数, n值 越大,电子的能量越高。n可取1,2,3,4,……,但不等于 0.。并且以K (n=1),L (n=2),M (n=3),N (n=4)……表示。在 一个原子内,具有相同n值的电子处于相同的电子壳层。 l为角量子数,它决定电子云的几何形状,不同的l值将原子 内的电子壳层分成几个亚层,即能级。l 值与n有关,l=0,1, 2 , … , (n-1) 。 并 且 分 别 以 s (l=0) , p (l=1) , d (l=2) , f (l=3) ,…表示。当n=1时,l=0;n=2,则l=0,1。依此类 推。在给定壳层的能级上,电子的能量随l值增加稍有增加。
电子能谱
特征:
光电子或俄歇电子,在逸出的路径上自由 程很短,实际能探测的信息深度只有表面几个 至十几个原子层,光电子能谱通常用来作为表 面分析的方法。
电子能谱仪简介
电子能谱仪主要由激发源、电子能量分析器、探 测电子的检测器和真空系统等几个部分组成。

电子与物质相互作用

电子与物质相互作用
fn0 (q) 简化为偶极振子强度, fn0 (q) → fn , fn 表示原子对入射光子的响应(光学吸收)。
Bethe 理论也可用来描述电子在固体中运动时的非弹性散射作用总贡献,这是由振子强度的求和规则
不随原子环境改变的性质决定的,尽管此时已不能准确求得各种非弹性散射机制(如价电子激发)的截面。
2
射角较大时屏蔽和无屏蔽 Rutherford 散射截面很相近,图中难以区分。 更精确的截面是通过解 Schrodinger 方程计算原子势获得。此外,考虑包括电子自旋和相对论效应的
Dirac 方程,可以获得描述电子弹性散射的 Mott 截面。
Mott 载面
图 10.1.2 屏蔽和无屏蔽 Rutherford 散射微分截面的比较。
屏蔽 Rutherford 公式的优点是它的简单解析性,缺点是近似程度差,特别是对于重原子和电子能谱学
中的电子能量(数 keV 范围),Born 近似已不再成立。严格准确的微分弹性散射截面应该由相对论的 Dirac
方程导出,Mott 在 1929 年用散射问题的普遍方法(分波法)得到了相对论性微分弹性散射截面的一般数
的作用超过后者,也就是说电子云屏蔽了原子核的一部分的作用。
1
图10.1.1 电子在原子势场中散射的示意图。左图中为经典力学图像,在小面积 dσ 中的电子运动方向偏转θ 后被散射到立体角 dΩ 中,散射角θ 对应一个特定的碰撞参数 b 。右图为波动力学中电子散射的图像,散
射后球面波在θ 角方向的振幅为 f (θ ) ,动量转移为 q = k − k0 ,而散射前后的波矢大小或能量不变。
Bethe 理论
电子在物质中与原子的电子云发生碰撞,造成散射电子的能量损失。原子电子因而获得能量形成电子

第十章 各种表面的加工方法PPT课件

第十章 各种表面的加工方法PPT课件

可编辑课件PPT
4
2.主要方法:
(1)切削加工方法: ①车削; ②磨削:普通磨削、精密磨削、砂带磨削 ③光整加工:研磨、超精加工、抛光
(2)特种加工:旋转电火花、超声波套料
可编辑课件PPT
5
(一)、车削外圆
1、分类(车刀的几何角度和切削用量): (1)粗车:IT12~IT11,Ra:25~12.5μm。 (2)半精车:IT10~IT9, Ra:6.3~3.2μm (3)精车:IT8~IT6, Ra:1.6~0.8μm (4)精细车(金刚石车):IT6 ~IT5 , Ra: 0.8~0.2μm
难加工淬火钢件(HRC30以上)
可编辑课件PPT
8
磨削外圆
外圆磨削在外圆磨床上进行, 1、分类(磨削用量): (1)粗磨:IT8~IT7, Ra:0.8~0.4μm (2)精磨:IT6 ~IT5 , Ra:0.4~0.2μm (3)精密磨削:IT5, Ra:0.2~0.008μm (4)砂带磨削:IT6 ~IT5 , Ra:0.4~0.1μm
(3)、根据技术要求:高精度低粗糙度孔、中等精度孔、 低精度孔。 深孔(L/D>5)和浅孔。
可编辑课件PPT
23
③箱体支架类零件的轴承孔
机床主轴箱的轴承孔:IT7,Ra:1.6~ 0.8μm ,位置精度。
图4.1 孔的类型
可编辑课件PPT
24
内圆(孔)加工方案及其选择
内圆表面是盘套类和支架箱体类零件 的重要表面之一。与外圆相比,内圆有两 个显著特点:一是孔的类型多,二是孔的 加工难度大。
第五章 典型表面加工分析
第一节 外圆面的加工 第二节 孔的加工 第三节 平面的加工 第四节 成形面的加工 第五节 螺纹的加工 第六节 齿轮齿形的加工

物理化学知识点chap 10

物理化学知识点chap 10

Pa
2.356
103
kPa
【10.5】水蒸气迅速冷却至298.15K时可达到过饱和状态。已
知该温度下水的表面张力为71.97×10-3 N·m -1 ,密度为997
kg·m-3。 当过饱和水蒸气压力为平液面水的饱和蒸气压的4
倍时,计算: (1)开始形成水滴的半径;(2)每个水滴中
所含水分子的个数。
m
= 7.569 ? 10- 10m
(2)每个水滴的体积
( ) V 水滴=
4 3
pr
3
=
4 创3.14 3
7.569 ? 10- 10 3 m 3
1.815 ? 10- 27m 3
每个水分子的体积
V 水分子=
M rL
=
骣 琪 琪 琪 桫997

0.018 6.022
m 3 = 3.00 ? 10- 29m 3 1023
分析: 利用拉普拉斯方程
p 2
r
解: (1)和(2)两种情况下均只存在一个气-液界面, 其附加压力相同。根据拉普拉斯方程
p
2
r
2 58.91103 0.1106
Pa
1.178
103
kPa
(3)空气中存在的气泡,有两个气-液界面,其附加压力 为
p
4
r
4
58.91103 0.1106

pg
••



p
• •
pl
(a)
pg
• 气 p • •
液•
pl (b)
附加压力方向示意图


气•


• •
p=• 0

表面分析技术的原理

表面分析技术的原理

化学学报 2004年第62卷 第6期
颗粒表面的H 射线光电子能谱
Journal of Polymer Science: Part B: Polymer Physics, Vol. 43, 35–47 (2005)
C1s spectra of PHB-g-MA, CS, and PHB-gMA/CS blends with different compositions.
X射线光电子能谱 (X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS 或Electron Spectroscope for Chemical Analysis,ESCA)
俄歇电子能谱 (Auger Electron Spectroscopy,AES)
电子探针 (Electron Micropobe,EMP)
◆ 表面分析技术中涉及到微观粒子(电子、离子、光子、 中性原子、分子等)的运动和检测。所以这类仪器必须具 有高真空(≤l0-4 Pa)。
◆ 为了防止样品表面被周围气氛污染,有时还必须有 超高真空(UHV,≤10-7 Pa)。由于表面分析中只涉及样 品非常浅薄的表层,所检测的信号非常弱。
◆ 表面分析技术是通过微观粒子与材料表面的相互作 用而获取信息的。因此涉及较深的物理知识(电离、散射 等)。
X射线光电子能谱仪AMICUS
→灵敏度/分辨率 700kcps(Ag3d5/2、 1.15ev) →X射线源 Mgka 12kv、 30mA →到达真空度 5×10-7 Pa以下
X射线光电子能谱AXIS-165型
对于半导体、金属、高分子材 料等广泛的样品,从宏观分析、 微观分析、深度分析,或从元 素分析到状态分析,都可做多 方面评价的ESCA/Auger的复 合表面分析装置。 →XPS灵敏度 11800Kcps (1.30ev,MgKa)400Kcps (0.55ev,单色器) →AES灵敏度 500Kcps, S/N500∶1

表面分析方法

表面分析方法
STM是一种无损分析方法,目前它的横向分辨率已 达到0.1nm,垂直分辨率已达到0.01nm。
7.4.4. 原子力显微镜
原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)是利 用一个对力敏感的探针探测针尖与样品之间的相互作用 力来实现表面成像。
7.5. 近场光学显微镜
7.6. 激光共焦扫描显微镜
电荷转移、价电子 谱、等离子激发。
7.2.5. 电子能谱仪
电子能谱仪通常采用的激发源有三种:X射线源、 真空紫外灯和电子枪。由于各能谱仪之间除激发源不 同外,其他部分基本相同,因此,配备不同激发源, 可使一台能谱仪具有多种功能。
7.2.5.1. 激发源
7.2.5.2.单色器—电子能量分析器
电子能量分析器的分辨率定义为:( E/EK) 100%, 表示分析器能够区分两种相近能量电子的能力。 电子能量分析器可分为磁场型和静电型两类。
1. 半球形电子能量分析器
7.2.5.2.单色器—电子能量分析器
2. 筒镜电子能量分析器
7.2.5.2.单色器—电子能量分析器
3. 检测器
由于原子和分子的光电子截面都较小,因此从原 子或分子产生并经能量分析器出来的光电子流仅10-13 10-19A,要接受这样弱的信号,必须采用电子倍增器, 如单通道电子倍增器或多通道电子倍增器。
7.4.3. 应用
STM实验可以在大气、真空、溶液、惰性气体甚至 反应性气体等各种环境中子级空间分辨的表 面结构观测,用于各种表面物理化学过程和生物体系研 究;STM还是纳米结构加工的有力工具,可用于制备纳 米尺度的超微结构;还可用于操纵原子和分子等。
电子能谱的取样深度一般很浅,在30 nm以内, 是一种表面分析技术。
7.2.2. X 射线光电子能谱法

表面分析方法概论

表面分析方法概论

1、基本原理
X射线与物质相互作用时,物质吸收了X射线 的能量并使原子中内层电子脱离原子成为自由 电子,即X光电子,如图1-1。 对于气体分子,X射线能量h用于三部分:
– 一部分用于克服电子的结合能Eb,使其激发为自 由的光电子; – 一部分转移至光电子使其具有一定的动能Ek; – 一部分成为原子的反冲能Er。
当针尖接近样品时,针尖 受到力的作用使悬臂发生 偏转或振幅改变,悬臂的 这种变化经检测系统检测 后转变成电信号传递给反 馈系统和成像系统,记录 扫描过程中一系列探针变 化就可以获得样品表面信 息图像。
(1)探针probe
探针是AFM检测系统的关键部分,它由悬臂和悬臂末端的针 尖组成。悬臂是由Si或Si3N4经光刻技术加工而成,悬臂的 背面镀有一层金属以达到镜面反射。
用一束“粒子”或某种手段作为探针来探测样品 表面,探针可以是电子、离子、光子、中性粒子、 电场、磁场、热或声波(机械力),在探针作用 下,从样品表面发射或散射粒子或波,它们可以 是电子、离子、光子、中性粒子、电场、磁场、 热或声波。检测这些发射粒子的能量、动量、荷 质比、束流强度等特征,或波的频率、方向、强 度、偏振等情况,就可获得有关表面的信息。
B、非接触式(noncontact mode):
– 针尖在样品表面的上方振动,始终不与样品表 面 接触,针尖探测器检测的是范德瓦耳斯吸引 力和静电力等对成象样品没有破坏的长程作用 力; – 非接触模式可增加显微镜的灵敏度,但分辨率 要比接触模式低,且实际操作比较困难。
C、轻敲式(tapping mode):
AFM Basic: Principle
接触模式的探针 Si、 Si3N4 102~10-2 N/m >10 kHz
敲击模式的探针 Si 20~200 N/m 200~400kHz

机械制造基础第十章铸造习题解答

机械制造基础第十章铸造习题解答

第十章铸造习题解答10-1 试述铸造生产的特点,并举例说明其应用情况。

答:铸造生产的特点有:①铸造能生产形状复杂,特别是内腔复杂的毛坯。

例如机床床身、内燃机缸体和缸盖、涡轮叫叶片、阀体等。

②铸造的适应性广。

铸造既可用于单件生产,也可用于成批或大量生产;铸件的轮廓尺寸可从几毫米至几十米,重量可从几克到几百吨;工业中常用的金属材料都可用铸造方法成形。

③铸造成本低。

铸造所用的原材料来源广泛,价格低廉,还可利用废旧的金属材料,一般不需要价格昂贵的设备。

④铸件的力学性能不及锻件,一般不宜用作承受较大交变、冲击载荷的零件。

⑤铸件的质量不稳定,易出现废品。

⑥铸造生产的环境条件差等。

10-2 型砂由哪些材料组成?试述型砂的主要性能及其对铸件质量的影响。

答:型砂由原砂、粘结剂和附加物组成。

型砂的主要性能有:①耐火度。

型砂的耐火度好,铸件不易产生粘砂缺陷。

②强度。

若强度不足,铸件易产生形状和砂眼等缺陷。

③透气性。

透气性差,浇注时产生的气体不易排出,会使铸件产生气孔缺陷。

④可塑性。

可塑性好,造型时能准确地复制出模样的轮廓,铸件质量好。

⑤退让性。

退让性不好,易使铸件收缩时受阻而产生内应力,引起铸件变形和开裂。

10-3 试列表分析比较整模造型、分模造型、挖砂造型、活块造型和刮板造型的特点和应用情况。

答:列表进行比较:10-4 试结合一个实际零件用示意图说明其手工造型方法和过程。

答:以双联齿轮毛坯手工造型为例,手工造型过程如下:①造下砂型——②造上砂型——③开外浇口、扎通气孔——④起出模样——⑤合型——⑥浇注铁水——⑦带浇口铸件。

10-5 典型浇注系统由哪几个部分组成?各部分有何作用?答:典型浇注系统由浇口杯、直浇道、横浇道和内浇道组成。

浇口杯的作用是将来自浇包的金属引入直浇道,缓和冲击分离熔渣。

直浇道为一圆锥形垂直通道,其高度使金属液产生一定的静压力,以控制金属液流入铸型的速度和提高充型能力。

横浇道分配金属液进入内浇道,并起挡渣的作用,它的断面一般为梯形,并设在内浇道之上,使得上浮的熔渣不致流入型腔。

  1. 1、下载文档前请自行甄别文档内容的完整性,平台不提供额外的编辑、内容补充、找答案等附加服务。
  2. 2、"仅部分预览"的文档,不可在线预览部分如存在完整性等问题,可反馈申请退款(可完整预览的文档不适用该条件!)。
  3. 3、如文档侵犯您的权益,请联系客服反馈,我们会尽快为您处理(人工客服工作时间:9:00-18:30)。

第十章
五.电子探针
表面分析
• 电子探针仪(EPMA)是一种微区成分 分析仪器。 • 采用被聚焦成小于1µm的高速电子束轰 击样品表面,利用电子束与样品相互作 用激发出的特征x射线,测量其λ和Ι, 确定微区的定性、定量的化学成分。 • SEM-EPMA组合型仪器,具有扫描放大 成像和微区成分分析两方面功能。 17
第十章
表面分析
三.原子力显微镜(AFM) 原子力显微镜( • 在生物医学研究中,最常用的一种模式是 在生物医学研究中, 敲击模式( 敲击模式(tapping AFM): ): • 在敲击模式中,一种恒定的驱使力使探针 在敲击模式中, 悬臂以一定的频率振动。 悬臂以一定的频率振动。当针尖刚接触样 品时,悬臂振幅会减少到某一数值。 品时,悬臂振幅会减少到某一数值。在扫 描过程中, 描过程中,反馈回路维持悬臂振幅在这一 数值恒定,也就是说作用在样品上的力恒 数值恒定, 定,通过记录压电陶瓷管的移动得到样品 15 表面形貌图。 表面形貌图。
29
第十章
七.电子能谱仪
表面分析
• 电子能谱分析法是采用单色光源(如X射线、紫外光)或 电子束去照射样品,使样品中电子受到激发而发射出来, 然后测量这些电子的产额(强度)对其能量的分布,从中 获得有关信息的一类分析方法。 • 俄歇电子能谱法(AES) X射线光电子能谱法(XPS) 紫外光电子能谱法(UPS)
5
第十章
表面分析
表面电子态分析:电子能级分布、空间分布。 射线光电 表面电子态分析:电子能级分布、空间分布。X射线光电 子能谱、紫外光光电子能谱。 子能谱、紫外光光电子能谱。
6
第十章
表面分析
二.扫描隧道显微镜(STM) 扫描隧道显微镜( ) • 恒电流模式
• 恒高度模式
7
第十章
表面分析
二.扫描隧道显微镜(STM) 扫描隧道显微镜( ) 与其他表面分析技术相比,STM具有如 下独特的优点: 1. 具有原子级高分辨率,STM 在 平行于样品表面方向上的分辨率分别可 达 0.I nm 和 0.01 nm,即可以分辨出 单个原子.
13
第十章
表面分析
三.原子力显微镜(AFM) 原子力显微镜(
在原子力显微镜的系统中, 在原子力显微镜的系统中,是利用微小探针与待 测物之间交互作用力, 测物之间交互作用力,来呈现待测物的表面之物 理特性。 理特性。所以在原子力显微镜中也利用斥力与吸 引力的方式发展出两种操作模式: 引力的方式发展出两种操作模式: (1)利用原子斥力的变化而产生表面轮廓为 ) 接触式原子力显微镜( ),探针与 接触式原子力显微镜(contact AFM),探针与 ), 试片的距离约数个Å。 试片的距离约数个 。 (2)利用原子吸引力的变化而产生表面轮廓 ) 为非接触式原子力显微镜( 为非接触式原子力显微镜(non-contact AFM), ), 探针与试片的距离约数十到数百Å。 探针与试片的距离约数十到数百 。 14
第十章
表面分析
(1)波长分散谱仪 WDS )
Wavelength Dispersive Spectrometer • 通过衍射分光原理,测量x射线的λ分 布及I。 • 已知d的晶体(分光晶体),反射不同 的x射线,在特定位置检测。
18
第十章
表面分析
波长色散谱
19
第十章
• 分析速度慢
表面分析
WDS 特点: 特点:
• 工作条件:
探测器须在液氮温度下使用,维护费用高。
22
第十章
表面分析
WDS 与EDS比较 比较
• WDS分析元素范围广、分辨率高、适于精 确的定量分析,对样品表面要求高、分析 速度慢,易引起样品和镜筒的污染。 • EDS在分析元素范围、分辨率方面略逊, 分析速度快、对样品表面要求不高、可用 较小的束流和细微电子束,适于与SEM配 合使用。
表面分析
线扫描分析
• 对于测定元素在材料相界和晶界上的富 集与贫化是十分有效的。 • 垂直于扩散界面的方向上进行线扫描, 可以很快显示浓度与扩散距离的关系曲 线,若以微米级逐点分析,可相当精确 测定扩散系数和激活能。
28
第十章
表面分析
(3)面扫描分析 )面扫描分析
• 电子束在试样表面进行面扫描,谱仪只 检测某一元素的特征x射线位置,得到由 许多亮点组成的图像。亮点为元素的所 在处,根据亮点的疏密程度可确定元素 在试样表面的分布情况。 • 准确显示与基体成分不同的夹杂物的形 状,定性显示元素偏析。
10
第十章
表面分析
三.原子力显微镜(AFM) 原子力显微镜( • STM的原理是电子的“隧道效应”,所以 只能测导体和部分半导体
• 1985年,IBM公司的Binning和Stanford大 学的Quate研发出了原子力显微镜(AFM), 弥补了STM的不足
11
第十章
表面分析
三.原子力显微镜(AFM) 原子力显微镜( • STM的原理是电子的“隧道效应”,所以 只能测导体和部分半导体
• 1985年,IBM公司的Binning和Stanford大 学的Quate研发出了原子力显微镜(AFM), 弥补了STM的不足
12
第十章
表面分析
三.原子力显微镜(AFM) 原子力显微镜(
原子与原 子之间的 交互作用 力因为彼此 之间的距离 的不同而有 所不同, 所不同,其 之间的能量 表示也会不 同。
33
26
第十章
表面分析
(2)线扫描分析 )线扫描分析
• 聚焦电子束在试样沿一直线慢扫描,同 时检测某一指定特征x射线的瞬时I,得到 特征x射线I沿试样扫描线的分布。(元素 的浓度分布) • 直接在扫描图像上叠加,显示扫描轨迹 和x射线I分布曲线,直观反映元素浓度分 布与组织结构之间的关系。
27
第十章
1
第十章
表面分析
表面形貌分析:常规显微镜、扫描电子显微镜、 表面形貌分析:常规显微镜、扫描电子显微镜、透射显微 扫描隧道显微镜、原子力显微镜、场发射显微镜、 镜、扫描隧道显微镜、原子力显微镜、场发射显微镜、场 离子显微镜。 离子显微镜。
2
第十章
表面分析
表面成分分析:电子探针、俄歇电子能谱、 射线光电子 表面成分分析:电子探针、俄歇电子能谱、X射线光电子 能谱、二次离子质谱。 能谱、二次离子质谱。
第十章
表面分析
表面分析:表面形貌分析、表面成分分析、 表面分析:表面形貌分析、表面成分分析、表面结构 分析、表面原子态分析、表面电子结构分析。 分析、表面原子态分析、表面电子结构分析。
表面性能检测:表面外观检测 缺陷 外观、光泽)、 缺陷、 表面性能检测:表面外观检测(缺陷、外观、光泽 、 涂层厚度检测、涂层结合力检测、涂层耐蚀检测、 涂层厚度检测、涂层结合力检测、涂层耐蚀检测、涂 层耐磨检测、硬度、孔隙率。 层耐磨检测、硬度、孔隙率。
第十章
表面分析
三.原子力显微镜(AFM) 原子力显微镜(
• 敲击模式的优越性: 敲击模式的优越性: • 敲击模式尽管没有接触模式的分辨率高,但是敲 敲击模式尽管没有接触模式的分辨率高, 击模式在一定程度上减小样品对针尖的粘滞现象, 击模式在一定程度上减小样品对针尖的粘滞现象, 因为针尖与样品表面接触时, 因为针尖与样品表面接触时,利用其振幅来克服 针尖-样品间的粘附力 样品间的粘附力。 针尖 样品间的粘附力。并且由于敲击模式作用力 是垂直的, 是垂直的,表面材料受横向摩擦力和剪切力的影 响都比较小,减小扫描过程中针尖对样品的损坏。 响都比较小,减小扫描过程中针尖对样品的损坏。 所以对于较软以及粘附性较大的样品,尽量选用 所以对于较软以及粘附性较大的样品, 16 敲击模式。 敲击模式。
23
第十章
比较项目 元素分析范围 元素分析方法 能量辨率/eV 灵敏度 检测效率 定量分析精度 仪器特殊性
表面分析
EDS
11Na~92U/4Be~92U
WDS
4Be~92U
分光晶体逐个元素分析 高(3/5~10) 低 低,随波长而变化 好 多个分光晶体
固态检测器元素同时检测 低(160/135) 高 高,一定条件下是常数 差 探头液氮冷却
单个元素测量,做全分析时间较长。
• 分辨率高:10eV
谱仪分辨率是指分开、识别相邻两个谱峰的能力。 测量精度高,多用于超轻元素Z<9测量。
• 峰背比大
背底扣除容易,数据处理简单。
• 分析元素范围:4Be-92U • 样品表面要求平整、光滑。
20
第十章
表面分析
(2)能量色散谱仪 EDS )
Energy Dispersive Spectrometer • 利用固态检测器(锂漂移硅)测量每个x 射线光子的能量,并按E大小展谱。 • 得到以能量为横坐标、强度为纵坐标的x 射线能量色散谱,显示于荧光屏上。
8
第十章
表面分析
二.扫描隧道显微镜(STM) 扫描隧道显微镜( )
2.可实时得到实空间中样品表面的三维 图像,可用于具有周期性或不具备周期性 的表面结构的研究,这种可实时观察的性 能可用于表面扩散等动态过程的研究.
9
第十章
表面分析
二.扫描隧道显微镜(STM) 扫描隧道显微镜( )
3 3.可以观察单个原子层的局部表面结构, 而不是对体相或整个表面的平均性质,因 而可直接观察到表面缺陷。表面重构、表 面吸附体的形态和位置,以及由吸附体引 起的表面重构等.
31
第十章
七.电子能谱仪
表面分析
7.2 X射线光电子能谱法 射线光电子能谱法(XPS) 射线光电子能谱法 • X射线光电子能谱法(XPS),因最初以化 学领域应用为主要目标,故又称为化学分 析用电子能谱法(ESCA)。 • 技术基础:X射线激发物质光电离、光电子 发射过程及其能量关系。
32
第十章
相关文档
最新文档